吸附保持装置以及吸附保持方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种吸附保持装置以及吸附保持方法，可以通过简单且廉价的结构，不论基板的种类而可靠地吸附保持。具有：吸附片（２），具有吸附面（２１）；升降机构，使玻璃基板（Ｐ１）和吸附片（２）的相对位置变化；温度变更部（５），改变吸附面（２１）的温度；以及控制装置（１００），控制温度变更部（５），以在使玻璃基板（Ｐ１）向吸附面（２１）吸附时，在吸附面（２１）结露。将吸附面（２１）冷却至露点温度以下，使用所结露的水分吸附玻璃基板（Ｐ１），向对置基板（Ｐ２）贴合。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术例如涉及用于为了进行玻璃基板那样的平板状的基板的 贴合等而吸附保持基板的。
技术介绍
液晶面板、有机EL面板等例如是通过贴合玻璃基板而制造的， 在贴合装置中，吸附保持玻璃基板的工序是不可欠缺的。作为吸附保 持基板的方法， 一般有利用真空吸附的方法、利用机械卡盘 (mechanical chuck)的方法、利用静电卡盘的方法等。但是，在液晶面板等的制造工艺中，为了气泡的排除等，有时在 真空中进行贴合。因此，吸附保持装置在真空中从上方保持基板，但 在该情况下，以真空吸附无法确保保持力，所以多数情况下使用机械 卡盘或静电卡盘。专利文献1:日本特开2003 - 330031号公报专利文献2:日本特开2002 - 154647号公报
技术实现思路
但是，为了利用机械卡盘保持基板，需要夹具。因此，在与其它 相同尺寸的基板贴合的情况下，被夹住的部分成为障碍，无法在夹持 的状态下与其它基板密合。另一方面，静电卡盘根据有无在基板上形 成的导电膜等而其吸附力较大地不同。另外，在施加几kv以上的高 电压时，有可能对基板上的电路造成损伤。为了解决该问题，在专利文献l中，公开了如下技术通过使保 持板下降而与基板接触，使水介于保持板和基板之间，利用表面张力 使基板吸附到保持板。另外，在专利文献2中还公开了如下技术通过从接触到基板的吸附板上形成的多个细孔，供给硅油(Silicon oil)， 从而使硅油介于基板与吸附板之间，利用表面张力吸附基板。但是，这些技术需要向基板积极地供给液体，因此需要预先准备 液体，并且需要具备供给该液体的装置，管理麻烦，并且构造复杂且 成本提高。另外，在需要防止残留大量的液体的产品的情况下，上述 技术不适用。本专利技术是为了解决上述那样的以往技术的问题而完成的，其目的 在于提供一种，可以通过简单且廉价 的结构，不论基板的种类而可靠地吸附保持。为了达成上述那样的目的，本专利技术提供一种吸附保持基板的吸附 保持装置，其特征在于，具有吸附单元，具有吸附面；驱动单元， 使上述基板和上述吸附单元的相对位置变化；温度变更单元，改变上 述吸附面的温度；以及控制单元，控制上述温度变更单元，以在使上 述基板吸附到上述吸附面时，在上述吸附面结露。另外，在本专利技术的方法的方式中，提供一种吸附保持基板的吸附 保持方法，其特征在于，通过改变吸附单元所具有的吸附面的温度， 在吸附面结露，压接上述基板与上述吸附面。在以上那样的专利技术中，通过改变吸附单元的吸附面的温度，在其 表面上使气氛中的水分结露。如果向该吸附面粘合基板，则两者之间 的水分非常薄地扩展，通过表面张力，两者被紧固吸附。这样，通过 简单的温度控制，能够使基板向吸附单元吸附。其它方式的特征在于，在上述控制单元中，设置有检测露点的露 点检测单元。在以上那样的方式中，通过检测根据状况变化的气氛中的露点， 并以其为基准进行控制，可以总是产生期望的结露。其它方式的特征在于，上述温度变更单元具有珀耳帖(Peltier)元件。在以上那样的方式中，为了改变温度，使用无可动部等的珀耳帖 元件，所以结构简单且易于管理。4其它方式的特征在于，上述吸附单元设置在能够设为真空的真空 室，在上述真空室，连接有真空源。在以上那样的方式中，通过设为真空，可以回避贴合时的气体的 影响，并且可以通过所结露的水分可靠地吸附。以上，如上说明，根据本专利技术，可以提供一种吸附保持装置以及 吸附保持方法，可以通过简单且廉价的结构，不依赖于基板的种类而 可靠地吸附保持。附图说明图1是示出本专利技术的吸附保持装置的一个实施方式中的基板的搬入时(A)、吸附保持时(B)、抽真空时(C)、贴合时(D)的 纵剖面图。图2是示出图1的实施方式中的控制装置的结构的框图。图3是示出图l的实施方式中的吸附保持、贴合的流程的流程图。标号说明 1真空腔 2吸附板 3吊起装置 4下部板 5温度变更部 6露点检测部 7输入部 11上部容器 12下部容器 21吸附面 22贯穿孔 31吸附臂 32真空吸盘41台座部 100控制装置 110设定部 120判定部 130指示部具体实施例方式接下来，参照附图对本专利技术的实施方式(以下称为实施方式)进 行具体说明。(实施方式的结构)首先，参照图1以及图2对本实施方式的吸附保持装置(以下称 为本装置)的结构进行说明。在本装置中，例如，构成将液晶面板用 的玻璃基板贴合到涂敷了密封剂以及液晶的相同尺寸的对置基板的 贴合装置的一部分，为了在真空中保持玻璃基板，使用利用了液体的 表面张力的吸附片。另外，对于本装置的上游工序中设置的基板的搬 送装置、交接基板的机构、向基板涂敷密封剂和液晶的给料器 (dispenser)等，可以应用7>知的所有冲支术，所以省略说明。即，本装置如图1所示具备真空腔1、吸附片2、吊起装置3、 下部板4、温度变更部5、控制装置100、露点检测部6、输入部7等、 真空腔l由上部容器11和下部容器12构成，由未图示的升降机构升 降的上部容器11与下部容器12接触，从而在内部形成真空室。该真 空室通过与未图示的真空源连接，而构成为可以减压。吸附片(吸附单元)2是在下面具有吸附玻璃基板P1的吸附面 21的板。作为吸附面21,例如使用玻璃、被加工成镜面的材料、聚 酰亚胺片等。另外，表面粗糙度优选设为Rmax0.1nm以下。但是， 本专利技术并不限于这些材料和表面粗糙度。该吸附片2设置成可以通过未图示的升降机构(驱动单元)在真 空腔l内升降。另外，在吸附片2，形成有后述的吸附臂31贯穿的贯 穿孔22。进而，在吸附片2的内部，设置有用于冷却、加热吸附面21的温度变更部5 (参照图2)。温度变更部5由根据来自控制装置 100的指示通电，而进行冷却或加热的珀耳帖元件构成。另外，温度 变更部5使吸附面21的温度可以变化即可，所以不限于珀耳帖元件， 其配置位置、数量、是否设为与吸附片2—体等也是自由的。吊起装置3具备多个吸附臂31和真空吸盘32。吸附臂31设置 成可以通过未图示的升降机构升降。真空吸盘32设置在各吸附臂31 的前端，与未图示的真空源连接。因此，构成为通过使吸附臂31下 降，并利用真空源减压，玻璃基板P1被吸附到真空吸盘32。下部板 4设置于下部容器12内。该下部板4的上面成为载置与玻璃基板Pl 相同尺寸的对置基板P2的台座部41。控制装置100是对上述的真空源以及升降机构的动作、温度变更 部5的温度等进行控制的单元。如图2所示，对该控制装置100连接 有检测气氛的露点的露点检测部6、输入设定等信息的输入部7。另 外，露点检测部6如果可以检测刚要吸附前的基板周围的露点，则也 可以设置于任意位置。其数量也没有限定。而且，在控制装置100中，设置有判定部120，根据露点检测 部6的检测值判定露点；设定部110，使用输入部7设定使吸附面21 的温度成为露点以下那样的规定的温度；以及指示部130,根据判定 部120的判定和设定部110的设定内容，向温度变更部5输出指示信 号。对于所设定的规定的温度，例如，可以设为比露点低10 20。C的 温度，但不限于此。这样的控制装置100例如可以由通过专用的电子电路或规定的 程序动作的计算机等实现。因此，用于按照以下说明的步骤控制本装 置的动作的计算机程序以及记录有该本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种吸附保持基板的吸附保持装置，其特征在于，具有：　吸附单元，具有吸附面；　驱动单元，使上述基板和上述吸附单元的相对位置变化；　温度变更单元，改变上述吸附面的温度；以及　控制单元，控制上述温度变更单元，以在使上述基板吸附到上述吸附面时，在上述吸附面结露。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：横田典之，
申请(专利权)人：芝浦机械电子装置股份有限公司，
类型：发明
国别省市：JP[日本]