【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】负性工作辐射-敏感性组合物和可成像组件 专利
本专利技术涉及负性工作、辐射-敏感性组合物和可以在较低能量下成像 的可成像组件如负性工作平版印刷板。这些可成像组件也可以印刷机内(on-press)或是印刷机外(off-press)显影，无需曝光后烘焙步骤。本 专利技术还涉及使用这些可成像组件的方法。
技术介绍
辐射-敏感性组合物通常用于制备可成像材料，包括平版印刷板前 体。该组合物通常包括辐射-敏感性组分、引发剂体系、和粘合剂，其每 一种都是研究的焦点以提供在物理性能、成像性能、和图像特征方面的 各种改进。印刷板前体领域中最近的进展关注于可以通过激光器或激光二极 管的方式来成像、且更特别地可以成像和/或印刷机内显影的辐射-敏感 性组合物。激光曝光无需传统卣化银制版印刷膜作为中间信息支持体(或 者"掩模")，因为可以直接通过计算机控制激光器。商业上可获得的成像 -制版机(setter)中使用的高性能激光或激光器二极管通常发出波长为至 少700nm的辐射，且由此要求该辐射-敏感性组合物在电磁光谱的近红 外或红外区域中敏感。但是，设计了其它有用的辐射-敏感性组合物用于 采...
【技术保护点】
一种辐射－敏感性组合物，包括： 可自由基聚合组分， 引发剂组合物，其能够在曝光于成像辐射时产生足以引发所述可自由基聚合组分的聚合的自由基， 辐射吸收化合物， 聚合物粘合剂，包括聚合物主链，其上直接或者间接连接有聚（亚 烷基二醇）侧链，和 非离子磷酸酯丙烯酸酯，其分子量为至少２５０， 条件是，使所述组合物曝光于λｍａｘ为至少２５０ｎｍ且最高达４５０ｎｍ并包括４５０ｎｍ的成像辐射时，所述聚合物粘合剂进一步包括羧基侧基。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：FE米克尔，HM蒙内利，KD惠兰，PR韦斯特，S萨雷亚，
申请(专利权)人：伊斯曼柯达公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。