【技术实现步骤摘要】
本技术涉及一种液位指示工具。
技术介绍
在半导体生产中,化学气相沉积工艺(英文简称CVD)是指单独或综合利用热能、 辉光放电等离子体、紫外光照射、激光照射等能源,使气态物质在固体热表面上发生化学反 应并在该表面上沉积,从而形成稳定的固态物质膜。由此可见,CVD工艺中会使用到很多气 源进行反应,为了保证CVD工艺的顺利、稳定进行,工作人员必须要保证气源的稳定供应。 目前气源的供应是通过将钢瓶(即存放液体的容器)内的液体经过加热装置转化气体来实 现的。在生产过程中,操作人员需要掌握每个钢瓶内的液位。目前,操作人员是通过触摸工 作站的用户界面,并转到传感器界面,来读取各个钢瓶的三种读值高位、中位或低位。一旦 读值到了低位,就要及时地更换气源瓶。但是这种显示,非常粗略,不利于操作人员及时掌 握钢瓶内的精确液位。而且液位的显示不够直观,操作比较麻烦、费时。因此,如何提供一种可以直观显示容器内的液体剩余情况的液位指示工具是本领 域亟待解决的一个技术问题。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种液位指示工具,使用方便,可以直观显示容器内 的液体剩余情况。为了达到上述的目的,本技术采 ...
【技术保护点】
一种液位指示工具,用于显示容器内的液位,其特征在于,包括磁性浮标和磁性标志物,所述磁性浮标放置于所述容器内部,所述磁性标志物竖向依次排列在所述容器的外壁。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员:许亮,
申请(专利权)人:中芯国际集成电路制造上海有限公司,
类型:实用新型
国别省市:31[]
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。