一种可调标准具制造技术

本发明专利技术提供了一种可调标准具，其包括一透明基板、一第一中空圆柱模块、一第二中空圆柱模块和一ＭＥＭＳ腔片；所述第一中空圆柱模块的平面一端固定在透明基板上，另一端为凹面端；所述第二中空圆柱模块的凸面端与第一中空圆柱模块的凹面端相互匹配；所述ＭＥＭＳ腔片设置在第二中空圆柱模块的中空腔内，并且可以在中空腔内调节其位置。本发明专利技术可以调节标准具的自由光谱范围、插损曲线、群延迟曲线的中心波长，具有结构简单、控制精度高、使用电压低、功耗低等优点。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及光无源器件领域，尤其涉及一种可调标准具。
技术介绍
在涉及标准具的光无源器件中，很多应用需要标准具具有一定的调节能力，如调 节标准具的自由光谱范围；插损曲线、群延迟曲线的中心波长。具体应用包括了可调的色散 补偿器、可调激光器等。具体的调节机制已包括了，一种是利用温度控制改变单晶硅标准具的折射率从而 改变标准具的光程，其缺点是控制温度时间长；另一种是通过在空气隙腔内插入一倾斜度 可调的标准具作为频率调谐元件，其缺点是存在机械移动部件，稳定性差；还有一种是利用 改变加在腔两端的电场强度改变电光晶体/陶瓷的电光系数从而进行相位的调节，其缺点 是工作电压高，对电路要求高，且插入损耗较大。
技术实现思路
本专利技术解决的技术问题是，提供一种可调标准具，具有结构简单、控制精度高、响 应时间短、使用电压低、功耗低等优点。一种可调标准具，其包括一透明基板、一第一中空圆柱模块、一第二中空圆柱模块 和一 MEMS腔片；所述第一中空圆柱模块的平面一端固定在透明基板上，另一端为凹面端； 所述第二中空圆柱模块的凸面端与第一中空圆柱模块的凹面端相互匹配；所述MEMS腔片 设置在第二中空圆柱模块的中空腔内，并且可以在中空腔内调节其位置。进一步地，所述第一中空圆柱模块的平面一端与透明基板之间涂覆有UV胶。进一步地，所述第二中空圆柱模块的凸面端与第一中空圆柱模块的凹面端之间涂 覆有UV胶。进一步地，所述MEMS腔片与第二中空圆柱模块的中空腔的内表面之间涂覆有UV 胶。进一步地，所述MEMS腔片接近透明基板的一侧的表面涂覆有高反膜。进一步地，所述高反膜所在的面与所述透明基板所在的面相互平行。与现有技术相对比，本专利技术提供的一种可调标准具，利用MEMS腔片进行空气隙腔 长调节，并用球关节结构(第二中空圆柱模块的凸面端与第一中空圆柱模块的凹面端相互 匹配)实现了一种新型的可调标准具，可以调节标准具的自由光谱范围、插损曲线、群延迟 曲线的中心波长，具有结构简单、控制精度高、使用电压低、功耗低等优点。附图说明图1是本专利技术一种可调标准具实施例初始状态结构示意图。图2是本专利技术一种可调标准具实施例成品状态结构示意图。具体实施例方式下面结合附图和实施例对本专利技术进行详细说明。本专利技术的思想为，采用平移式MEMS作为一个腔片，再与另一个腔片构成空气隙可 调标准具，采用凹凸球关节结构使两个腔片初步固定接近相互平行，再利用其中一个腔片 支柱与套管之间微间隙作最后平行度修正和腔片之间间隙修正。请参阅图1，其是本专利技术一种可调标准具实施例初始状态结构示意图。一种可调标准具，包括一透明基板101、一第一中空圆柱模块102、一第二中空圆 柱模块103和一 MEMS腔片104。透明基板101与第一中空圆柱模块102相邻设置。第一中空圆柱模块102的平面一端固定在透明基板101上，另一端为凹面端。第二中空圆柱模块103两端中，至少一端为凸面。且第二中空圆柱模块103的凸 面端与第一中空圆柱模块102的凹面端相互匹配。MEMS腔片104设置在第二中空圆柱模块103的中空腔内，并且可以中空腔内调节 其位置。另外，第一中空圆柱模块102的平面一端与透明基板101之间涂覆有UV胶。第二中空圆柱模块103的凸面端与第一中空圆柱模块102的凹面端之间涂覆有UV 胶。MEMS腔片104与第二中空圆柱模块103的中空腔的内表面之间涂覆有UV胶。MEMS腔片104接近透明基板101的一侧的表面涂覆有高反膜。高反膜所在的面与 透明基板101所在的面相互平行。本专利技术一种可调标准具组装的过程如下所述1)利用UV胶105预先固定第二中空圆柱模块103和MEMS腔片104，请参阅图1；2)将第二中空圆柱模块103的凸面端与第一中空圆柱模块102的凹面端相互匹配，并 涂上胶(或者UV胶)；3)将第一中空圆柱模块102的平面一端固定在透明基板101上，二者之间涂上胶(或 者UV胶)，通过第二中空圆柱模块103的凸面端与第一中空圆柱模块102的凹面端相互匹 配，进行调节透明基板101和MEMS腔片104，使得透明基板101和MEMS腔片104相互平行， 然后将胶的固化；4)去除预先固定第二中空圆柱模块103和MEMS腔片104的UV胶105，调节透明基板 101和MEMS腔片104之间的距离，达到所需的距离，同时利用MEMS腔片104和第二中空圆 柱模块103之间微间隙做角度微调，以而获高精度空气间隙可扫描标准具，请参阅图2。与现有技术相对比，本专利技术提供的一种可调标准具，利用MEMS腔片进行空气隙腔 长调节，并用球关节结构(第二中空圆柱模块103的凸面端与第一中空圆柱模块102的凹 面端相互匹配)实现了一种新型的可调标准具，可以调节标准具的自由光谱范围、插损曲 线、群延迟曲线的中心波长，具有结构简单、控制精度高、使用电压低、功耗低等优点。在上述实施例中，仅对本专利技术进行了示范性描述，但是本领域技术人员在阅读本 专利申请后可以在不脱离本专利技术的精神和范围的情况下对本专利技术进行各种修改。权利要求1.一种可调标准具，其特征在于，其包括一透明基板、一第一中空圆柱模块、一第二中 空圆柱模块和一 MEMS腔片；所述第一中空圆柱模块的平面一端固定在透明基板上，另一端 为凹面端；所述第二中空圆柱模块的凸面端与第一中空圆柱模块的凹面端相互匹配；所述 MEMS腔片设置在第二中空圆柱模块的中空腔内，并且可以在中空腔内调节其位置。2.根据权利要求1所述的一种可调标准具，其特征在于，所述第一中空圆柱模块的平 面一端与透明基板之间涂覆有UV胶。3.根据权利要求1所述的一种可调标准具，其特征在于，所述第二中空圆柱模块的凸 面端与第一中空圆柱模块的凹面端之间涂覆有UV胶。4.根据权利要求1所述的一种可调标准具，其特征在于，所述MEMS腔片与第二中空圆 柱模块的中空腔的内表面之间涂覆有UV胶。5.根据权利要求1所述的一种可调标准具，其特征在于，所述MEMS腔片接近透明基板 的一侧的表面涂覆有高反膜。6.根据权利要求5所述的一种可调标准具，其特征在于，所述高反膜所在的面与所述 透明基板所在的面相互平行。全文摘要本专利技术提供了一种可调标准具，其包括一透明基板、一第一中空圆柱模块、一第二中空圆柱模块和一MEMS腔片；所述第一中空圆柱模块的平面一端固定在透明基板上，另一端为凹面端；所述第二中空圆柱模块的凸面端与第一中空圆柱模块的凹面端相互匹配；所述MEMS腔片设置在第二中空圆柱模块的中空腔内，并且可以在中空腔内调节其位置。本专利技术可以调节标准具的自由光谱范围、插损曲线、群延迟曲线的中心波长，具有结构简单、控制精度高、使用电压低、功耗低等优点。文档编号G02B26/00GK102053361SQ201010557239公开日2011年5月11日 申请日期2010年11月24日 优先权日2010年11月24日专利技术者吴励, 李阳, 陈立勋 申请人:福州高意通讯有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种可调标准具，其特征在于，其包括一透明基板、一第一中空圆柱模块、一第二中空圆柱模块和一ＭＥＭＳ腔片；所述第一中空圆柱模块的平面一端固定在透明基板上，另一端为凹面端；所述第二中空圆柱模块的凸面端与第一中空圆柱模块的凹面端相互匹配；所述ＭＥＭＳ腔片设置在第二中空圆柱模块的中空腔内，并且可以在中空腔内调节其位置。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：吴励，陈立勋，李阳，
申请(专利权)人：福州高意通讯有限公司，
类型：发明
国别省市：35[中国|福建]