【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种气体供应技术，尤其是涉及一种可提供至少两种反应气体的一种 气体分布板及其装置。
技术介绍
随着镀膜制作工艺的进步，在化学(CVD)气相沉积的镀膜过程中，为了能够均勻 的将气体喷洒到腔室中，气体分布模块(gas distribution module)扮演了重要的角色。一般气体分布模块的设计方式如图1所示，在一腔室10之中设有一载台11，该载 台11可用来承载并加热欲加工的基板12，腔室10在对应基板12处设有一进气管道100， 进气管道100与一气体分布模块13相连接，气体分布模块13 —般是在一金属平板或圆形 板上钻许多对称孔洞，其目的是为了使气体(图中未示出)由进气管道100通入腔室10之 后，能经由气体分布模块13均勻喷洒到腔室中而附着于基板12上。然而前述设计在实施 时的均勻度一般而言并不佳，为了改善此一缺失，则在进气管道100与气体分布模块13之 间增加缓冲区14的方式，将一开始进入的气体先经缓冲区14稳定后，再经由气体分布模块 13均勻出气，如图2所示。由于前述方式都是在低流量的情况下，然而一旦镀膜制作工艺使用高流量气体 时，单纯使...
【技术保护点】
一种气体分布板，包括：板体，中央部位具有凹槽；第一通道，其一端与该凹槽相连通，另一端贯穿该板体；锥形开孔，该锥形开孔与该第一通道相连通；以及至少一第二通道，其开设于该板体上与该锥形开孔相连通。
【技术特征摘要】
1.一种气体分布板，包括 板体，中央部位具有凹槽；第一通道，其一端与该凹槽相连通，另一端贯穿该板体； 锥形开孔，该锥形开孔与该第一通道相连通；以及 至少一第二通道，其开设于该板体上与该锥形开孔相连通。2.如权利要求1所述的气体分布板，其中该至少一第二通道环设在该第一通道的周围。3.如权利要求1所述的气体分布板，其中该第二通道的中心轴与该第一通道的中心轴 平行。4.如权利要求1所述的气体分布板，其中该第二通道的中心轴与该第一通道的中心轴成一夹角。5.如权利要求1所述的气体分布板，其中该凹槽是使用机械加工方式将板体中央部位 加工形成凹槽或者是使用焊接的方式形成该凹槽。6.如权利要求5所述的气体分布板，其中该凹槽的一侧还具有至少一供气通道。7.如权利要求1所述的气体分布板，其中该第一通道与该板体为一体成型或者是该第 一通道利用螺接或紧密配合的方式连接于该板体上。8.一种气体分布装置，包括气体导引部，其提供导引一第一气体；气体分布板，其与该气体导引部相连接，该气体分布板具有板体，中央部位具有一凹槽；多个第一通道，每一个第一通道的一端与该凹槽相连通，另一端贯穿该板体，每一个第 一通道与该气体导引部相连通，以接收该第一气体，其中每一个第一通道一侧还具有至少 一第二通道以提供导引一第二气体；以及多个锥形开孔，每一个锥形开孔与该每一个第一通道以及每一第一通道一侧所具有的 至少一第二通道相连通。9.如权利要求8所述的气体分布装置，其中该凹槽使用机械加工方式将板体中央部位 加工形成凹槽或者是使用焊接的方式形成该凹槽。10.如权利要求9所述的气体分布装置，其中该凹槽的一侧还具有至少一供气通道，以 提供该第二气体进入该凹槽。11.如权利要求8所述的气体分布装置，其中该至少一第二通道环设在该第一通道的 周围。12.如权利要求8所述的气体分布装置，其中该第二通道的中心轴与该第一通道的中 心轴平行。13.如权利要求8所述的气体分布装置，其中该第二通道的中心轴与该第一通道的中 心轴成一夹角。14.如权利要求8所述的气体分布装置，其中该气体导引部还具有第一板体，其设置于该板体的第一表面上，该第一板体的一侧面上开设有第一槽体，而 在另一侧面上具有与该第一槽体相连通的多个凸管，每一个凸管的一端与对应的该第一通 道相连通；以及第二板体，其盖设于该第一板体上，该第二板体上具有一供气通孔与该第一槽体相连 通，该供气通孔提供该第一气体通过。15.如权利要求14所述的气体分布装置，其还具有设置于该第一板体与该第二板体之 间的一第三板体，该第三板体具有第二槽体，该第二槽体底面上开设有多个与该第一槽体 相连通的通孔。16...
【专利技术属性】
技术研发人员：简荣祯，刘俊岑，杨宏仁，沈添沐，梁沐旺，
申请(专利权)人：财团法人工业技术研究院，
类型：发明
国别省市：71[中国|台湾]
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