气体分布装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开一种气体分布装置，其包括一顶部以及一侧壁部。顶部提供一分流结构。分流结构将来自N个上游口的气流分支到M个下游口，N与M都为正整数，且M大于N。顶部包括一顶板，且下游口排列于顶板周边。侧壁部连接于顶板并由顶板的周缘凸伸出来。侧壁部具有多个连通道以及多个排出口，其中连通道将下游口连通至排出口，且排出口于侧壁部内侧沿一环型轨迹排列。

Gas distribution device

The invention discloses a gas distribution device, which comprises a top part and a side wall part. A shunt structure is provided at the top. Shunt structure will be from the upper reaches of the N branch of the gas flow to the downstream M, N and M are positive integers, and M greater than N. The top comprises a top plate, and the lower opening is arranged on the periphery of the top plate. The side wall part is connected with the top plate and is protruded out of the periphery of the top plate. The side wall part is provided with a plurality of connecting channels and a plurality of discharge ports, wherein, the connecting channel is communicated with the downstream port to the discharge port.

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种薄膜沉积设备用的装置，且特别是涉及一种气体分布装置。
技术介绍
随着薄膜沉积技术的发展，如何将气体均匀地喷洒到设备腔室中为一项重要的技术，因此气体分布模块(gasdistributionmodule)在薄膜沉积中扮演了重要的角色。另外，现有的气体分布模块中多采用喷洒头来使进入设备腔室的气体均匀分布。喷洒头具有彼此相对的气体入口端与气体出口端，让气体进入喷洒头的方向与排出喷洒头的方向大致平行。但这种喷洒头将气体导入腔体后，气体通常会快速被抽走，并在设备腔室的中央处形成局部滞流区。因此，成膜时膜厚往往无法均匀一致，经常发生中央相对较厚的情形。由此可知，喷洒头的气流排出方式与其内部的流道几何结构，都是影响沉积制作工艺的重要因素。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种气体分布装置，可以提供均匀的气体排出效果。为达上述目的，本专利技术的气体分布装置包括一顶部以及一侧壁部。顶部提供一分流结构。分流结构将来自N个上游口的气流分支到M个下游口，N与M都为正整数，且M大于N。顶部包括一顶板，且下游口排列于顶板周边。侧壁部连接于顶板并由顶板的周缘凸伸出来。侧壁部具有多个连通道以及多个排出口，其中连通道将下游口连通至排出口，且排出口于侧壁部内侧沿一环型轨迹排列。基于上述，本专利技术实施例的气体分布装置具有分流结构以缓冲进入的气体，提供均匀的排气效果。为让本专利技术的上述特征和优点能更明显易懂，下文特举实施例，并配合所附的附图作详细说明如下。附图说明图1为本专利技术一实施例的气体分布装置应用于沉积设备的示意图；图2为本专利技术一实施例的气体分布装置的示意图；图3为图2的气体分布装置沿着I-I线剖开的示意图；图4为气体分布装置沿着图3的II-II线的剖面的示意图；图5为本专利技术另一实施例的气体分布装置的上视示意图；图6为图5的气体分布装置沿III-III线的剖面示意图；图7为图5的气体分布装置沿IV-IV线的剖面示意图；图8为本专利技术又一实施例的气体分布装置的上视示意图；图9为图8的气体分布装置沿V-V线的剖面示意图；图10为本专利技术又一实施例的气体分布装置的示意图；图11为图10的进气模块130剖开后的立体示意图。符号说明10：沉积设备12：设备腔室100、100A、100B、100C、100D：气体分布装置110A、110B、110C：顶部112A、112B、112C：顶板114A：分流环116A：连通管120A、120B、120C：侧壁部130：进气模块132：加热腔134、134B：非直线进气管134A：端136：腔壁BI1、BI2、BI3：上游口BO1、BO2、BO3：下游口BR1、BR2、BR3：分流结构CH1、CH2、CH3：流道CX1、CX2、CX3：连通道G：气体层流O1、O2、O3：排出口P：间距RO：分流环出口RX1、RX2、RX3：环形连通道θ：弧角：具体实施方式图1为本专利技术一实施例的气体分布装置应用于沉积设备的示意图。在图1中，沉积设备10具有设备腔室12，且气体分布装置100与工件承载台14都设置于设备腔室12中。沉积设备10用以在工件W上形成沉积层，且工件W可以放置于工件承载台14上。气体分布装置100位于工件承载台14上方，以将制作工艺所需的气体注入设备腔室12中。在本实施例中，气体分布装置100适于将气体由横向方向D排出，以在设备腔室12中形成气体层流G。沉积设备10可以包括有抽气或是排气模块(未绘示)，以将设备腔室12内的气体抽出。伴随抽气或是排气模块的运作，气体层流G中的气体可以朝向工件承载台14移动，并使得承载于工件承载台14上的工件W接触气体层流G中的气体而在工件W上形成薄膜或是进行反应。在沉积设备10中，气体在工件W上的均匀性对于薄膜的成膜品质有明显的影响，因此以下实施例提出多种气体分布装置100的设计以提供均匀分布的气体层流G。图2为本专利技术一实施例的气体分布装置的示意图，而图3为图2的气体分布装置沿着I-I线剖开的示意图。请同时参照图2与图3，气体分布装置100A包括一顶部110A以及一侧壁部120A。顶部110A提供一分流结构BR1。分流结构BR1用以将来自N个上游口BI1的气流分支到M个下游口BO1，N与M都为正整数，且M大于N。具体而言，本实施例是以N为1而M为3来说明，但N与M可以是其他数值的组合。另外，顶部110A包括一顶板112A、位于顶板112A上方的分流环114A以及连接于分流环114A与顶板112A之间的多个连通管116A。下游口BO1排列于顶板112A周边并且下游口BO1可以均匀的分布于顶板112A周边。侧壁部120A连接于顶板112A并由顶板112A的周缘凸伸出来。侧壁部120A具有多个连通道CX1以及多个排出口O1，其中连通道CX1将下游口BO1连通至排出口O1，且排出口O1设置于侧壁部120A内侧。由图2与图3可知，顶部110A中的分流结构BR1大致上由顶板112A、分流环114A以及连通管116A构成的结构。分流环114A具有多个分流环出口RO，且各连通管116A将其中一个分流环出口RO连通至其中一个下游口BO1。此外，本实施例中仅设置有一个上游口BI1且上游口BI1连通于分流环114A以通过分流环114A将来自于上游口BI1的气流分支到三个下游口BO1。由图3可知，气体分布装置100A的侧壁部120A可以更具有环型连通道RX1，且环型连通道RX1将位于同一个高度准位上的排出口O1连通。另外，顶板112A内部设置有连通于下游口BO1与连通道CX1之间的流道CH1。如此一来，由上游口BI1流入的气体可以依序经过分流环114A、连通管116A、下游口BO1、流道CH1、连通道CX1以及环型连通道RX1而最终由排出口O1排出到气体分布装置110A之外。由于排出口O1设置于侧壁部120A内侧，排出口O1可使气体朝向气体分布装置100A的内部流动。因此，气体分布装置100A应用于图1的沉积设备10时，可以在设备腔室12内形成气体层流G。另外，在本实施例的气体分布装置100A中，由单一个上游口BI1进入的气体可以分流至三个下游口BO1，再由各个下游口BO1分流至数个排出口O1。由此，得以缓冲气体排出气体分布装置100A时的流速与流量并使得这些排出口O1的排气效果，例如气体流速与气体流量，均匀一致。在本实施例中，排出口O1于侧壁部120A内侧沿一环型轨迹排列。由于图2仅绘制了气体分布装置100A的外观，而排出口O1位于侧壁部120A内侧，图2并无法观看到环型轨迹。图3仅绘制了侧壁部120A内侧的一部分，因此仅可看到部分的排出口O1的排列。不过，由图3中的这些排出口O1的排列方式可知，排出口O1是沿着侧壁部120A内侧排列且位于大致相同的高度准位上。进一步而言，图4为气体分布装置沿着图3的II-II线的剖面的示意图。在图4中，排出口O1沿着侧壁部120A内侧所量测的间距P可以为大致相同的。气体分布装置100A的侧壁部120A如同图4一般环绕成圆时，相邻两个排出口O1所在位置大致彼此相隔一弧角θ，其中位于同一个高度准位上的排出口O1的数量为Z时，弧角θ约为360/Z度。换言之，沿着环型轨迹排列的排出口O1会均匀分布在环形本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种气体分布装置，包括：顶部，提供一分流结构，该分流结构将来自N个上游口的气流分支到M个下游口，N与M都为正整数，且M大于N，其中该顶部包括顶板，该些下游口排列于该顶板周边；以及侧壁部，连接于该顶板并由该顶板的周缘凸伸出来，其中该侧壁部具有多个连通道以及多个排出口，该些连通道将该些下游口连通至该些排出口，且该些排出口于该侧壁部内侧沿一环型轨迹排列。

【技术特征摘要】
2015.10.14 TW 1041336531.一种气体分布装置，包括：顶部，提供一分流结构，该分流结构将来自N个上游口的气流分支到M个下游口，N与M都为正整数，且M大于N，其中该顶部包括顶板，该些下游口排列于该顶板周边；以及侧壁部，连接于该顶板并由该顶板的周缘凸伸出来，其中该侧壁部具有多个连通道以及多个排出口，该些连通道将该些下游口连通至该些排出口，且该些排出口于该侧壁部内侧沿一环型轨迹排列。2.如权利要求1所述的气体分布装置，其中该环型轨迹大致平行于该顶板。3.如权利要求1所述的气体分布装置，其中该顶部还包括位于该顶板上方的分流环以及连接于该分流环与该顶板之间的多个连通管，该分流环具有多个分流环出口，各该连通管将其中一个分流环出口连通至其中一个下游口，且其中一个上游口连通于该分流环以通过该分流环将来自该其中一个上游口的气流分支到至少部分该些下游口。4.如权利要求1所述的气体分布装置，其中该分流结构包括至少一分流流道，该至少一分流流道的每一个将其中一个上游口连通到至少两个下游口。5.如权利要求...

【专利技术属性】
技术研发人员：王庆钧，蔡陈德，潘益宗，林义钧，黄智勇，杨慕震，林龚梁，陈冠州，
申请(专利权)人：财团法人工业技术研究院，
类型：发明
国别省市：中国台湾;71