一种测量光波阵列面或光学反射面表面平坦度的光管制造技术

本发明专利技术公开了一种测量光波阵列面或光学反射面表面平坦度的光管，所述光管包括目标发生器、探测器、分光器、透镜系统和分光装置；所述探测器、分光器、透镜系统和分光装置沿同一轴线依次顺序排列；所述目标发生器设置在分光器旁侧；目标发生器的位置可以和探测器的位置互换。本发明专利技术的光管具有以下优点：测量范围很大，并不受测试面积的限制，对口径较大的光波阵列面或者面积较大的光学反射面表面平坦度测试尤为擅长。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于光学检测领域，涉及一种光学检测装置，尤其是一种测量光波阵列面 或光学反射面表面平坦度的光管。
技术介绍
目前光波阵列面检测所用的仪器，主要有干涉仪、哈特曼传感器以及哈特曼夏克 传感器等仪器；光学反射面表面平坦度的检测，多使用干涉仪。对于干涉仪，测试时会受到 待测区域面积的限制。而哈特曼传感器和哈特曼夏克传感器分别采用了小孔径光阑和透镜 阵列，应用中对其孔径光阑以及透镜阵列的制造要求精度很高，且每个单元的参数并不能 做到完全一致，所以会引入相应误差。本专利技术将提供一种测量光波阵列面以及光学反射面表面平坦度的仪器。这种仪器 的测量范围很大，并不受测试面积的限制，对口径较大的光波阵列面或者面积较大的光学 反射面表面平坦度测试尤为擅长。且对于扫描测试方式，可以消除扫描移动而产生误差。本专利技术的技术方案如下一种测量光波阵列面或光学反射面表面平坦度的光管，所述光管包括目标发生 器、探测器、分光器、透镜系统和分光装置；所述探测器、分光器、透镜系统和分光装置沿同 一轴线依次顺序排列；所述目标发生器设置在分光器旁侧；且目标发生器的位置可以和探 测器的位置互换。所述为探测器阵列探测器本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种测量光波阵列面或光学反射面表面平坦度的光管，其特征在于：所述光管包括目标发生器、探测器、分光器、透镜系统和分光装置；所述探测器、分光器、透镜系统和分光装置沿同一轴线依次顺序排列；所述目标发生器设置在分光器旁侧。

【技术特征摘要】
一种测量光波阵列面或光学反射面表面平坦度的光管，其特征在于所述光管包括目标发生器、探测器、分光器、透镜系统和分光装置；所述探测器、分光器、透镜系统和分光装置沿同一轴线依次顺序排列；所述目标发生器设置在分光器旁侧。2.如权利要求1所述测量光波阵列面或光学反射面表面平坦度的光管，其特征在于 所述目标发生器的位置和探测器的位置能够互换。3.如权利要求1所述测量光波阵列面或光学反射面表面平坦度的光管，其特征在于 所述探测器为阵列探测器CCD或阵列探测器CMOS...

【专利技术属性】
技术研发人员：黄育争，高文，姚俊，
申请(专利权)人：西安昂科光电有限公司，
类型：发明
国别省市：87[]