一种光致发光扫描测量装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种光致发光扫描测量装置，它包括：激光器、耦合装置、光纤耦合器、电动样品台、光谱仪、系统控制器；本实用新型专利技术通过使用光纤光路来取代原有的空间光路，简化了对光路的调节步骤，去除了大量的机械固定装置和机械调整装置，使用小型化的光谱仪，降低了成本，实现了整套装置的小型化，使用了系统控制器控制电动样品台和光谱仪还可以实现对大块样品的扫描检测。（*该技术在2020年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种半导体材料的光致发光测量装置，尤其涉及一种小型化低成 本可实现扫描测量的光致发光测量装置。
技术介绍
光致发光测量方法是一种检测材料电子结构的方法，测量时不需要接触到材料， 且不会对材料造成损害。实际测量中，光直接照射到材料表面，光被材料吸收后将能量传递 给材料，这些能量一部分转换为热能损耗掉，另一部分就以发光的形式消耗掉，这种由光激 发而发光的过程就称为光致发光。如附图1所示，被材料吸收的光与材料内部的电子相互作用，电子吸收光子的能 量从价带跃迁到导带，当被激发的电子回到价带时，多余的能量就通过发光和其他的形式 释放出来，所以这种被激发光的能量就与材料内部两个能带的间隙(带隙)宽度相联系，被 激发光的强度与辐射过程的贡献有关。光致发光光谱的测量，可以应用于材料的带隙检测、 杂质等级和缺陷检测，材料的复合机制和材料的品质鉴定。现有的光致发光测量装置多采用空间光路的形式，激光器发出的激发光经多个反 射镜转折光路，再经一个线形偏振片转为线偏光，由透镜聚焦后，经反射镜照射到样品上， 样品固定在样品台上放置在一个恒温箱中，进行低温下的光致发光测量时使用这个恒温箱 保持低温。使本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光致发光扫描测量装置，其特征在于，它包括：激光器（１）、耦合装置（２）、光纤耦合器（３）、电动样品台（５）、光谱仪（６）、系统控制器（８）；其中，耦合装置（２）由五维调节架和显微镜物镜组成，激光器（１）的出射光通过显微镜物镜的中心并聚焦在光纤耦合器（３）的一个光纤端口上，光纤耦合器（３）同侧的另一个光纤端口连接光谱仪（６），光纤耦合器（３）另一侧的一个光纤端口在电动样品台（５）的上方；电动样品台（５）和光谱仪（６）分别通过数据线连接到系统控制器（８）上。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：魏文雄，何建军，
申请(专利权)人：浙江大学，
类型：实用新型
国别省市：86[中国|杭州]