涂覆有硬质材料的本体制造技术

本发明专利技术涉及一种本体，该本体涂覆有硬质材料并且具有通过ＣＶＤ施加的多个层，其中外层包括Ｔｉ１－ｘＡｌｘＮ、Ｔｉ１－ｘＡｌｘＣ和／或Ｔｉ１－ｘＡｌｘＣＮ，其中０．６５≤ｘ≤０．９，优选０．７≤ｘ≤０．９，并且这个外层具有从１００至１１００ＭＰａ、优选从４００至８００ＭＰａ范围内的压缩应力，并且在该外层下安排了一个ＴｉＣＮ或Ａｌ２Ｏ３层。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】涂覆有硬质材料的本体本专利技术涉及一种本体，该本体涂覆有硬质材料并且具有通过CVD施加的至少一个 硬质材料层用于切削加工的切削刀具必须满足就稳定性和强度而言的严格要求，特别是在通 过高切削速度下的车削来切削加工硬质或韧性材料(例如淬硬钢或淬火钢)的过程中。该 切削刀具的材料应该特别地是耐磨损的，这在过去已经致使烧结碳化物或金属陶瓷基质本 体来配备一个表面涂层，其中最初钛的碳化物、氮化物或碳氮化物以及后来还有氧化铝层 被用作磨损保护涂层。由不同的硬质材料所构成的多层磨损保护涂层也是已知的。例如， 被安排在一个或多个中间层(如碳氮化钛或氮化钛)上的氧化铝层被称为减磨涂层。WO 03/085152 A2披露了一种Ti-Al-N层的使用，该层可以通过PVD作为具有高达 60%的铝含量的一个单相层来生产。然而，在更高的铝含量下，形成了立方体的和六边形的 TiAlN的混合物，并且在甚至更高的铝含量下仅形成了更软的并且不耐磨的六边形的纤锌 矿结构。还已知单一相TihAlx-N硬质材料层(其中χ = 0. 9)可以通过等离子体CVD来生 产。然而，这种层构成的不令人满意的均质性以及该层的相对高的氯含量是不利的。当使用PVD或等离子体CVD方法来生产TihAlxN硬质材料层时，这些层的使用限 制在低于700°C的温度。一个缺点是复杂部件几何体的涂覆存在很多困难。PVD是一种定 向的方法，其中复杂的几何体被不规则地涂覆。等离子体CVD要求高的等离子体均质性，因 为该等离子体功率密度对该层的Ti/Al原子比率具有直接的影响。具有高的铝含量的单一 相的立方体TVxAlx-N层的生产通过工业中使用的PVD方法是不可能的。通过一种常规的CVD方法在高于1000°C的温度下沉积TiAl也是不可能的，因为该 亚稳的TihAlxN在这样高的温度下分解为TiN以及六边形的A1N。最终，在US 6，238，739 Bl中所描述的用于通过一种无等离子体辅助的热CVD方 法在从550°C至650°C的范围内的温度下生产Ti^AlxN层(其中χ在0. 1至0. 6的范围内) 的方法中，表明了对于具有0.6相对低的铝含量的一种限制。那里说明的方法中，氯化 铝和氯化钛以及还有NH3和H2作为气体混合物使用。在这种涂层的情况下，同样，必须接受 达12原子％的高的氯含量。为了改进耐磨性和抗氧化性，WO 2007/003648 Al提出生产一种本体，该本体涂覆 有硬质材料并且具有通过CVD的包含至少一个TihAlxN硬质材料层的一个单层或多层涂层 系统，出于这个目的将该本体在从700°C至900°C的温度下通过没有等离子体激发的CVD在 反应器中进行涂覆，并且将在升高的温度下被混合的卤化钛、卤化铝以及反应性氮化合物 用作前体。这给出了一种本体，该本体具有一个单一相TihAlxN硬质材料层，该材料层有立 方NaCl结构并且化学计量系数χ为从> 0. 75至0. 93 ；或具有一个多相层，该多相层包括 Ti1^xAlxN(具有立方NaCl结构并且化学计量系数χ为从> 0. 75至0. 93)作为主相以及一 种纤锌矿结构和/或TiNxNaCl结构作为另一个相。该氯含量是在从0. 05原子％至0. 9原 子％的范围内。从该文件中还获知这个或这些TihAlxN硬质材料层可以包含按质量计高达 30%的非晶相层组分。所得到的这些层的硬度是在从2500HV至3800HV的范围内。为了改进一种高耐磨性下的质材料层的粘附性，DE 10 2007000 512 (它不是一个在先的公开文件)也提出，施加在一个基质本体上的层系统包括施加在该 本体上的氮化钛、碳氮化钛、或碳化钛的一个粘合层，接着是一个相梯度层并且最后是一个 单一相或多相TihAlxN硬质材料层的一个外层。该相梯度层包括在其面向该粘合层的一侧 上的一种TiN/h-AIN相混合物，并且随着层厚度的增加，具有增大的fcc-TiAIN比例(在大 于50 %的比例)、以及与此相关的同时的TiN和h-AIN相的比例的减小。上述这些涂层的一个缺点是在中断性切削的情况下短的操作寿命，如具有切削中 断的铣削、车削、以及钻孔、特别是当在切削过程中使用冷却润滑剂时。 因此本专利技术的一个目的是提供一种本体，该本体涂覆有硬质材料并且具有改进的 耐热性以及循环疲劳强度。这个目的通过如权利要求1所述的涂覆有硬质材料的本体得以实现。该本体 的特征在于，外层包括TihAlxN、TihAlxC和/或TihAlxCN,其中0. 65彡χ彡0.9、优选 0. 7 ^ X ^ 0. 9，并且特征在于该外层具有从100至llOOMPa、优选从400至800MPa范围内 的压缩应力，并且特征在于在该外层之下安排了一个TiCN或Al2O3层。已经发现通过CVD施加的TihAlxN、IVxAlxC、或IVxAlxCN的层是极度抗裂缝形 成以及裂缝生长的，如现有技术中已知并且使用的其他涂层的情况下所遇到的情况。用作 基质本体的烧结碳化物、金属陶瓷、或陶瓷具有比TiCN和Al2O3更低的膨胀系数，其结果是 在从涂覆温度(对于TiCN是约900°C并且对于Al2O3是约1000°C )冷却时在这些硬质材料 层中出现了拉伸应力。这些拉伸应力通过裂缝结构的形成而部分地解除。立方氮化钛铝或 碳氮化钛铝(作为亚稳的晶系)在从这些涂覆温度冷却之后具有从100至llOOMPa、优选 从400至SOOMPa范围内的压缩应力，并且不形成裂缝结构，这总体上致使权利要求1中命 名的这些层的这种组合被发现是极耐磨的。以这个同样非常耐磨的和抗氧化的氮化钛铝或 碳氮化钛铝涂层作为具有压缩残余用力的外层的已知的TiCN的高耐磨性和Al2O3的低热导 率以及高抗氧化性的组合，显著地改进了涉及高负荷变化以及高温度变化的应用中的切削 耐久性。实例是具有中断或改变切口截面的铣削以及还有车削和钻孔，特别是当使用冷却 润滑剂时。在从属权利要求中说明了本专利技术的多个实施方案。因此，该TihAlxN层、该TihAlxC层、或该TihAlxCN层可以由一个单一相组成并 且具有一种立方体结构，或由多个相组成并且包括一个立方体的主相连同具有纤锌矿结构 的另一个相和/或具有NaCl结构的TiN。上述氮化或碳氮化钛铝层可以具有按质量计高达30%的非晶相层的多种组分。该 氮化钛铝或碳氮化钛铝层的氯含量优选是在从0. 01原子％至3原子％的范围内。在本专利技术的另一个实施 方案中，也可以将一种包括多个层的多层涂层用作外层， 这些层各自具有从Inm至5nm的厚度并且具有一种相同的或变化的、优选是交替的构 成.该涂层中的这些单独的层是碳氮化钛铝以及氮化钛铝层，这些层的总厚度(它形成了 最外面的涂层)是在从1 μ m至5 μ m的范围内。也可以在进行涂覆时通过一种变化的气体气氛而在这些单独的层中创造一种梯 度，其结果是在亚区中从内到外碳含量不断地增加或减小。施加到烧结碳化物、金属陶瓷、 或一种陶瓷所构成的基质本体上的所有层的总厚度应该是在从5 μ m至25 μ m的范围内。为了本专利技术的这些目的，该氮化钛铝或碳氮化钛铝层可以包含高达25 %的六边形 的 A1N。 为了生产根据本专利技术的涂覆有硬质材料的本体，将一种烧结碳化本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种本体，该本体涂覆有硬质材料并且具有通过ＣＶＤ施加的多个层，其特征在于，外层包括Ｔｉ↓［１－ｘ］Ａｌ↓［ｘ］Ｎ、Ｔｉ↓［１－ｘ］Ａｌ↓［ｘ］Ｃ和／或Ｔｉ↓［１－ｘ］Ａｌ↓［ｘ］ＣＮ，其中０．６５≤ｘ≤０．９，优选０．７≤ｘ≤０．９，并且在于该外层具有从１００至１１００ＭＰａ、优选从４００至８００ＭＰａ范围内的压缩应力，并且在于在该外层下安排了一个ＴｉＣＮ或Ａｌ↓［２］Ｏ↓［３］层。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：H范丹比尔格，H维斯特法，V索特克，
申请(专利权)人：钴碳化钨硬质合金公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]