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制备控制溶(蚀)解释药小丸的新方法技术

技术编号:501600 阅读:318 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
制备控溶(蚀)解释药小丸的新方法,其特点是通过改变现有小丸中药物浓度和基质的均匀分布,使药物浓度由丸药表面向丸心递增,C=C↓[0](R↓[0]/R↑[2]);或者使基质溶(蚀)解速度逐渐加快,以保持释药过程中单位时间丸药体积缩小相等,从而达到单位时间释药量相等。(*该技术在2011年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】
专利技术所属领域本专利技术是在药物制剂加工过程中,通过改变制剂剂型(小丸)中的药物浓度分布或基质(辅料)分布,达到控制小丸释药恒速的新方法。现有技术说明制备控释剂型目前使用的方法有(1)利用膜扩散控释;(2)利用渗透压控释;(3)采用异型制剂等。这些控释方法均有其特点方法(1)、(2)分别属于膜扩散控释和渗透压控释性给药体系,起控释作用的(1)为透性膜,(2)为半透膜、释药孔和渗透活性物质,释药完毕均有惰性膜残留;(给)释药过程中,膜还有可能破裂,爆破性释药引起毒副作用。方法(3)属控制溶(蚀)解性释药体系,制备工艺复杂,给药不方便,且不能实现平稳释药。本专利技术的目的旨在克服现有控速释药方法的缺点,通过改变小药丸的药物浓度分布或基质分布,使其释药符合零级过程,给入机体后,能在较长时间内维持有较平稳的血药浓度。内容说明本专利技术是通过改变现有小丸中药物浓度和基质的均匀态分布,药物浓度由丸药表面向丸心逐渐增大,药物浓度分布符合C=C0(R0/R)2(C0为丸药表面药物浓度,R0为丸药原始半径,C为任意半径(R)时表面的药物浓度);或者使基质溶(蚀)解速度逐渐加快,以保持单位时间丸药体积缩本文档来自技高网...

【技术保护点】
制备控制溶(蚀)解释药小丸的新方法:本专利技术的特征在于改变了现有小丸中药物浓度和基质的均匀态分布,药物浓度由丸药表面向丸心逐渐增大;或者使基质溶(蚀)解速度逐渐加快,以保持释药过程中单位时间丸药体积缩小相等,从而达到单位时间小丸释药量相等。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:朱盛山
申请(专利权)人:朱盛山
类型:发明
国别省市:36[中国|江西]

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