具有定位功能的载物台、包括该具有定位功能的载物台的处理装置和基板定位方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种具有定位功能的载物台，该载物台即使在处理对象物重量大的情况下，也能够高精度并且容易地进行特别是θ方向的定位，且成本低。该具有定位功能的载物台具有暴露基板（Ｓ）处理面并保持基板（Ｓ）的载物台本体（４ａ），还包括可自由地吸附在与所述的基板处理面相对的另外一面上的吸附装置（８）、向所述吸附装置上吸附位置以外的区域供给气体的气体供给装置（９）和向所述吸附装置施加旋转力使基板以所述吸附装置为旋转中心在同一平面内旋转的驱动装置（１０）。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及具有定位功能的载物台、包括该具有定位功能的载物台的处理装置和 基板定位方法，特别涉及包括沿一根轴自由移动地配置的涂布头的喷墨式涂布装置中所采 用的。
技术介绍
已知使用喷墨式涂布装置(下面称为“涂布装置”)可以不经光刻工艺直接在基板 上形成微细的导电图形等，近年来，在大面积薄膜晶体管基板的制作工艺中形成数ym的 高精细源极·漏极电极图形、形成平板显示器用的色彩滤光片、取向膜或垫片中也被加以利用。对于该种涂布装置，在专利文献1中公开了具有如下结构的涂布装置。即，专利文 献1记载的涂布装置由载物台和喷墨装置构成，所述载物台对要处理的基板通过吸附进行 保持同时暴露要处理的基板的处理面。载物台可通过具有马达的进给丝杠沿X轴导杆自由 移动。另一方面，喷墨装置具有设置为在载物台的移动路径上跨过该载物台的门型支撑装 置，沿Y轴方向自由移动地设置在该支撑装置上、向基板涂布规定的墨水的至少一个涂布 头。其中，上述的涂布装置有时会产生将基板吸附保持在载物台上时和搬动机械手将 基板设置在载物台上时产生位置偏差的情况。因此，要在涂布墨水之前进行相对于涂布头 的基板扫描面的定位(定位)。此时，不仅X轴方向和Y轴方向，而且还需要使基板在同一 平面内绕θ方向旋转来调节相对于涂布头的基板的斜度。在这种情况下，要考虑在吸附保持基板的状态下使载物台本体旋转进行定位的结 构。但是，如上所述的在平板显示器用的大面积基板为处理对象物时，随着基板尺寸的增加 不仅基板重量增加，而且根据基板尺寸，载物台本身也大型化，其重量增加。因此，在上述方 法中，需要使基板和搬运载物台共同旋转的旋转机构(轴承等)，不能避免装置本身的大型 化，另外，为了使载物台旋转而高精度地进行定位，需要高推力并且高性能的马达，存在成 本高的问题。另一方面，代替自由旋转地构成载物台，考虑自由旋转地构成支撑涂布头的支撑 装置进行θ方向的定位，但是在进行θ方向的定位时，需要一边使支持装置旋转，一边使 搬运台向X轴和Y轴方向适当移动，为了高精度地进行定位而进行的控制明显变得复杂了。专利文献1 特开2006-136770号公报
技术实现思路
专利技术要解决的问题本专利技术鉴于上面的问题，目的是提供一种即使在处理对象物的重量较大的情况 下，也能够高精度并且容易地进行特别是θ方向的定位、低成本的具有定位功能的载物台，和包括该具有定位功能的载物台的处理装置以及基板定位方法。解决问题的手段为了解决上述问题，权利要求1记载的专利技术是包括暴露处理对象物的处理面并保 持处理对象物的载物台本体的具有定位功能的载物台，其特征在于包括可自由吸附在与 所述处理对象物的所述处理面相对的另一面上的吸附装置、向所述吸附装置上的吸附位置 以外的区域供给气体的气体供给装置、对所述吸附装置进行旋转驱动以使所述处理对象物 以所述吸附装置为旋转中心在同一平面内旋转的驱动装置。根据本专利技术，暴露处理对象物的处理面并将处理对象物载置在载物台上，使吸附 装置吸附在与所述处理对象物的所述处理面相对的另一面上。而后，向除了被吸附装置吸 附的区域的所述其他面上供给气体。在该状态下，由驱动装置以所述吸附装置为旋转中心 在同一平面内旋转规定角度时，处理对象物能够与吸附装置一体旋转规定的角度。其结果 是能够使基板在θ方向上旋转进行定位。这样一来，根据本专利技术，通过向除了吸附区域的部分供给气体，在除了该区域的部 分上浮的状态下(在该情况下，至少该部分与载物台上表面的摩擦阻力减小)，由于采用了 仅使处理对象物与吸附装置一体旋转从而进行θ方向定位的结构，所以例如在处理对象 物的重量较大的情况下，也不需要大型的轴承等旋转机构，能够避免装置本身的大型化。并 且，由于能够用较小的推力使处理对象物旋转，所以不用高性能的马达就能高精度地进行 定位，还能够实现低成本化。另外，不用移动与载物台保持的处理对象物相对设置的处理装 置如喷墨装置，就能够进行θ方向的定位，所以其控制容易。另外，为了解决上述问题，权利要求2记载的专利技术是具有定位功能的载物台，包括 暴露处理对象物的处理面并保持处理对象物的保持盘和可自由旋转地支撑所述保持盘的 载物台本体，其特征在于包括向所述保持盘中的处理对象物的处理面相对的另一面供给气 体的气体供给装置、对所述保持盘进行旋转驱动以使所述保持盘在同一平面内旋转的驱动直ο根据本专利技术，在保持盘保持处理对象物的状态下，在该保持盘上浮的状态(与上 述相同，至少该保持盘与载物台上表面的摩擦阻力减小)下，由于采用了由驱动装置使其 与吸附装置一体旋转进行基板的θ方向定位的结构，所以如上述相同，不需要大型的轴承 等旋转机构和高性能马达，并且能够实现低成本化。在本专利技术中，通过采用还包括引导装置、使所述载物台本体沿所述引导装置移动 的移动装置的结构，相对于设置在引导装置的上方的涂布头等的处理装置仅改变载物台本 体的停止位置，就能够进行载物台本体的移动方向上的定位。另外，可采用包括真空泵的结构，通过在所述载物台本体或保持盘的与所述处理 对象物接触的面上形成吸附槽，在将所述处理对象物载置在载物台上或将基板载置在保持 盘上的状态下对所述吸附槽抽真空，使载物台本体例如沿引导装置移动时，能够可靠地将 处理对象物保持在载物台本体或保持盘上。但是，在进行上述载物台的θ方向定位的情况下，不仅要求定位精度(例如 1 μ rad以下)，还对定位时间的缩短有较强的要求。在该情况下，若所述驱动装置由使所述 吸附装置在规定的微小角度范围内旋转的微动机构以及使所述吸附装置在比微动机构大 的角度范围内旋转的粗动机构构成，则能够在粗动机构使处理对象物高速旋转驱动到目标4位置的附近之后，由微动机构进行更高精度的位置确定。由此能够实现在短时间内的高精 度定位。另外，所述粗动机构连接到所述吸附装置，所述微动机构包括臂和摇动该臂的驱 动源，若所述微动机构与所述粗动机构连接，则能够与旋转驱动吸附装置的旋转轴共用，从 而在该驱动源使该臂摇动时，通过粗动机构来对所述吸附装置进行旋转驱动，能够避免驱 动装置的结构变得复杂。并且在进行θ方向定位时，能够平滑地进行从粗动机构进行的旋 转驱动向微动机构进行的旋转驱动的转换。而且，所述微动机构的臂采用具有至少伸展到载物台本体一侧的长度、其前端与 所述驱动源连接的结构，则转动规定的微小角度所需要的臂前端的位移量变大，能够提高 检测位移量的编码器等检测装置的分辨率，实现更高精度的定位。另外，为了解决上述问题，本专利技术的处理装置的特征在于包括权利要求1至权利 要求7中任一项记载的具有定位功能的载物台，和与保持在所述载物台上的处理对象物相 对配置、对处理对象物实施规定的处理的处理装置。而且，为了解决上述问题，本专利技术的基板定位方法的特征在于暴露要处理的基板 的处理面并将该基板载置在载物台上，使吸附装置吸附在与所述处理面背向的另一面上， 向除了被所述吸附装置吸附的区域的所述其他面上供给气体，以所述吸附装置为中心使所 述基板在同一平面内旋转规定的角度进行所述处理对象物的定位。在该情况下，进行所述处理对象物的定位的工序通过在比规定的微小角度大的角 度范围内旋转吸附装置之后，进一步在所述微小角度范围内旋转吸附装置来进行，则能够 在短时间内实现高精度的定位。具体实施例方式下面，参照附本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种具有定位功能的载物台，包括暴露处理对象物的处理面并保持处理对象物的载物台本体，其特征在于：　　包括可自由吸附在与所述处理对象物的所述处理面相对的另一面上的吸附装置、向所述吸附装置上的吸附位置以外的区域供给气体的气体供给装置、对所述吸附装置进行旋转驱动以使所述处理对象物以所述吸附装置为旋转中心在同一平面内旋转的驱动装置。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：佐藤诚一，矢作充，南展史，武者和博，高桥诚，
申请(专利权)人：株式会社爱发科，
类型：发明
国别省市：JP