多色打印头维护站制造技术

技术编号:4970709 阅读:225 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
提供了一种用于喷墨打印头的维护站设备。所述打印头包括并排设置在一行并且相对于打印介质运动的方向倾斜的多个喷射模块,该多个喷射模块中的每个都包括喷嘴面,每个喷嘴面都包括被构造成喷射第一液体的第一喷嘴阵列和被构造成喷射第二液体的第二喷嘴阵列。所述维护站设备包括擦拭单元,以及包括与所述多个喷射模块相对应的多个盖帽对的盖帽单元,其中,所述擦拭单元包括第一擦拭器、第二擦拭器、和擦拭器移动机构,所述第一擦拭器与每个喷射模块的第一喷嘴阵列相关联,所述第二擦拭器与每个喷射模块的第二喷嘴阵列相关联,每个盖帽对中的一个盖帽与相对应的喷射模块的第一喷嘴阵列相关联,所述盖帽对中的另一个盖帽与相对应的喷射模块的第二喷嘴阵列相关联。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及维护站,尤其是涉及用于包括喷射多于一种液体的喷射模块的打印头 的维护站。
技术介绍
在喷墨打印机中,行打印头包括多个喷射模块,每个喷射模块具有呈狭长矩形板 状的喷嘴板,所述喷嘴板具有液体,例如,油墨,喷射喷嘴阵列。当打印头不工作时,喷嘴中 的液体及位于喷嘴板上的液体可能会变干和/或招来污染物,例如灰尘或其他碎屑,这些 污染物可能会导致喷嘴堵塞,甚至是喷嘴故障,造成打印质量下降。维护站是用来去除液 体,以减少液体在喷射模块的喷嘴中及其附近变干或者被灰尘污染的可能性。当以行打印头的构造布置喷射模块时,相邻喷射模块间的狭小间隙也可能会产生 维护方面的问题。例如,擦拭喷射模块可能会导致在相邻喷射模块间的间隙中产生油墨积 聚,这些油墨积聚可能会滴落到印刷介质上。油墨积聚也可能招致油墨污染物,例如,灰尘 或其他碎屑,这些油墨污染物可能会导致喷嘴模块的喷嘴堵塞或降低打印质量。EP 0799135A1公开了一种用于打印头的维护站,也称为清洁密封站。所述清洁密 封站包括提供有密封腔的盖帽单元和用于在密封腔和打印头之间形成密封接触的装置。所 述清洁密封站包括用于清洁每个打印头主表面的擦拭部件。相对于盖帽单元可滑动地安装 所述擦拭部件使得在移动期间,所述擦拭部件沿着所述密封腔的前部移动。提供导向装置 用于沿着垂直于所述盖帽单元的顶部表面的方向移动所述清洁密封站。所述密封腔包括通 气阀和保证在所述密封腔从打印头处移开之前打开所述通气阀的装置。通常,行打印头的喷射模块构造成从每个喷射模块中喷射出同一种液体。同样的, 传统的维护站的擦拭单元构造成沿着行打印头的喷射模块的整个长度或宽度方向进行擦 拭。但是,需要有一种维护站能有效地从构造成在相同的打印操作中喷射多于一种液 体的行打印头的喷射模块中去除液体,例如油墨,及污染物。
技术实现思路
根据本专利技术的一个方面,提供一种用于打印头的维护站设备,所述维护站设备包 括并排设置在一行并且相对于打印介质运动的方向倾斜的多个喷射模块,所述多个喷射模 块中的每个都包括一个喷嘴面,每个喷嘴面都包括构造成喷射第一液体的第一喷嘴阵列和 构造成喷射第二液体的第二喷嘴阵列。所述维护站设备包括擦拭单元,所述擦拭单元包括 第一擦拭器、第二擦拭器、和擦拭器移动机构。所述第一擦拭器与每个喷射模块中的第一喷 嘴阵列相关联,所述第二擦拭器与每个喷射模块中的第二喷嘴阵列相关联。所述第一擦拭 器设置在所述擦拭器移动机构上,使得所述第一擦拭器在位于每个喷射模块中的第一喷嘴 阵列和第二喷嘴阵列之间的第一位置处与每个喷嘴面接触,并且移动经过每个喷射模块的 第一喷嘴阵列而到达远离每个喷射模块第一喷嘴阵列的第二位置处。所述第二擦拭器设置在所述擦拭器移动机构上,使得所述第二擦拭器在位于每个喷射模块中的第一喷嘴阵列和 第二喷嘴阵列之间的第三位置处与每个喷嘴面接触,并且移动经过每个喷射模块的第二喷 嘴阵列而到达远离每个喷射模块中的第二喷嘴阵列的第四位置处。所述维护站包括具有与所述多个喷射模块相对应的多个盖帽对的盖帽单元。每个 盖帽对中的一个盖帽与相对应的喷射模块的第一喷嘴阵列相关联。所述盖帽对中的另一个 盖帽与相对应的喷射模块的第二喷嘴阵列相关联。所述盖帽单元在第一擦拭器和第二擦拭 器之间可移动到第一位置和第二位置,在所述第一位置处,所述多个盖帽对中的每一对与 所述相对应的喷射模块中的所述第一喷嘴阵列和第二喷嘴阵列相接触,而在第二位置处, 远离与所述相对应的喷射模块的所述第一喷嘴阵列和第二喷嘴阵列的接触。根据本专利技术中的另一特性,提供了一种维护打印头的方法,所述打印头包括多个 并排设置在一行并且相对于打印介质运动的方向倾斜的喷射模块,所述多个喷射模块中的 每个包括一个喷嘴面,每个喷嘴面包括构造成喷射第一液体的第一喷嘴阵列和构造成喷射 第二液体的第二喷嘴阵列。所述方法包括提供擦拭单元,所述擦拭单元包括第一擦拭器、第 二擦拭器、和擦拭器移动机构,所述第一擦拭器与每个喷射模块中的第一喷嘴阵列相关联, 所述第二擦拭器与每个喷射模块中的第二喷嘴阵列相关联,所述第一擦拭器设置在所述擦 拭器移动机构上,所述第二擦拭器设置在所述擦拭器移动机构上;使得所述第一擦拭器在 位于每个喷射模块的第一喷嘴阵列和第二喷嘴阵列之间的第一位置处与每个喷嘴面接触; 移动经过每个喷射模块的第一喷嘴阵列而到达远离每个喷射模块第一喷嘴阵列的第二位 置处;使得所述第二擦拭器在位于每个喷射模块的第一喷嘴阵列和第二喷嘴阵列之间的第 三位置处与每个喷嘴面接触;移动经过每个喷射模块的第二喷嘴阵列而到达远离每个喷射 模块中的第二喷嘴阵列的第四位置处。所述方法也可以包括提供具有与多个喷射模块相对应的多个盖帽对的盖帽单元, 每个盖帽对中的一个盖帽与相对应的喷射模块的第一喷嘴阵列相关联,所述盖帽对中的另 一个盖帽与相对应的喷射模块的第二喷嘴阵列相关联;使得所述盖帽单元在第一擦拭器和 第二擦拭器之间可移动到第一位置和第二位置,在所述第一位置处,所述多个盖帽对中的 每一对与相对应的喷射模块的第一喷嘴阵列和第二喷嘴阵列相接触,而在第二位置处,远 离所述相对应的喷射模块中的第一喷嘴阵列和第二喷嘴阵列。附图说明在下文中对本专利技术的示例实施例进行的详细描述中,参考了附图,其中图1是本专利技术中的一个示例实施例的侧面示意图,其示出了打印头和处于暂停位 置的维护站;图2是图1中所示打印头的顶部示意图,其示出了维护站的一部分;图3-5是图1中所示的打印头的侧面示意图,其示出了维护站中的擦拭单元从图 1中所示的暂停位置移动通过打印头的部分擦拭周期;图6和图7是图1中所示打印头的侧面示意图,其示出了维护站的盖帽单元从图 1中所示的暂停位置移动到盖帽位置;图8-15是图1中所示打印头的侧面示意图,其示出了维护站中的擦拭单元的另一 个实施例,其中擦拭单元从暂停位置移动通过打印头的一个完整的擦拭周期;图16-18是图1中所示打印头的侧面示意图,其示出了维护站中的擦拭单元的另 一个实施例,其中擦拭单元从暂停位置移动通过打印头的一个完整的擦拭周期;图19是图1中所示的打印头的顶部示意图,其示出了本专利技术中的擦拭器之一;图20是图19中所示擦拭器的一个实施例的侧面示意图;图21是擦拭器基底的一个实施例的侧面示意图。具体实施例方式本说明书将特别涉及形成根据本专利技术的设备的组成部分或与之更直接协作的组 件。可以理解的是,未明确示出的或描述的组件可能具有为本领域技术人员所公知的各种 形式。参看图1,本专利技术的一个具体实施例的侧面示意图示出了打印头30和处于暂停位 置的维护站40。延伸进和延伸出附图1的打印头30位于维护站40的上方。当进行维护作 业时,通过沿着轨道或路径将打印头30从位于打印介质上方的打印位置平移至位于维护 站40上方的位置来完成打印头30的运动。但是同样也可以采用本领域公知的其它运动技 术。维护站40,也称为清洗擦拭盖帽(PWC)站,包括擦拭单元50和盖帽单元60。擦拭 单元50包括第一擦拭器52和第二擦拭器M。擦拭单元50和盖帽单元60由维护站40的 框架结构42所支承。维护站40,如图1中所示,处于暂停位置或初始位置,从而容许打印头 30移动到维护站40且允许盖帽单元60朝向打印头30移动。典型地,在清本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种用于打印头的维护站设备,所述打印头包括并排设置在一行并且相对于打印介质运动的方向倾斜的多个喷射模块,所述多个喷射模块中的每个都包括喷嘴面,每个喷嘴面都包括构造成喷射第一液体的第一喷嘴阵列和构造成喷射第二液体的第二喷嘴阵列,所述维护站设备包括:  擦拭单元,其具有第一擦拭器、第二擦拭器、和擦拭器移动机构,所述第一擦拭器与每个喷射模块的所述第一喷嘴阵列相关联,所述第二擦拭器与每个喷射模块的所述第二喷嘴阵列相关联,所述第一擦拭器设置在所述擦拭器移动机构上,使得所述第一擦拭器在位于每个喷射模块的所述第一喷嘴阵列和所述第二喷嘴阵列之间的第一位置处与每个喷嘴面接触,并且移动经过每个喷射模块的所述第一喷嘴阵列而到达远离每个喷射模块的第一喷嘴阵列的第二位置处,所述第二擦拭器设置在所述擦拭器移动机构上,使得所述第二擦拭器在位于每个喷射模块的所述第一喷嘴阵列和所述第二喷嘴阵列之间的第三位置处与每个喷嘴面接触,并且移动经过每个喷射模块中的第二喷嘴阵列而到达远离每个喷射模块的第二喷嘴阵列的第四位置处;以及  盖帽单元,其包括与所述多个喷射模块相对应的多个盖帽对,每个盖帽对中的一个盖帽与所述相对应的喷射模块的所述第一喷嘴阵列相关联,所述盖帽对中的另一个盖帽与所述相对应的喷射模块的所述第二喷嘴阵列相关联,所述盖帽单元在所述第一擦拭器和所述第二擦拭器之间能够移动到第一位置和第二位置,在所述第一位置处,所述多个盖帽对中的每一对与所述相对应的喷射模块的所述第一喷嘴阵列和第二喷嘴阵列相接触,而在第二位置处,远离与所述相对应的喷射模块的所述第一喷嘴阵列和第二喷嘴阵列的接触。...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:O奥德
申请(专利权)人:伊斯曼柯达公司
类型:发明
国别省市:US[美国]

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