高机械能混合分散研磨装置制造方法及图纸

一种高机械能混合分散研磨装置，包括动力源、公转机构、自转机构、设于自转轴上的自转支架、设于自转支架上的物料罐座及设于物料罐座上的物料罐，自转支架包括与自转轴固定相连的连接部及分别自连接部两侧平行自转轴伸出且相对于自转轴对称的两支撑部；物料罐座为一端开口的筒体，其筒壁的相对两侧分别借助于枢轴结构可转动地设置于两支撑部上，筒壁与支撑部之间还设有限位结构。本实用新型专利技术通过适当选定自转轴心线与公转轴心线夹角，可实现性能最佳化；通过将物料罐可摆动地设置于自转支架上，物料罐在公转、自转的同时，还规律性地进行大幅度摇摆振动，物料在多种运动复合作用下，受到很高的机械能，混合、分散、研磨效果非常好，应用前景广阔。（*该技术在2019年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种用于物料的混合、分散或研磨的设备，尤其是涉及 高机械能混合分散研磨装置。
技术介绍
在化工、医药、材料等生产或科研活动中，常常需要将诸如粉末或液体 或膏体等物料进行混合、分散以使物料形成均一性的混合物，或者需要将物 料进行研磨以达到使用要求。当前，业界已经推出多种混合分散研磨装置，其中，行星式混合装置应 用较多。传统的行星式混合装置主要包括机台、动力源、公转机构、自转机 构、设于自转机构上以容纳待混合或研磨物料的物料罐。通过行星式的旋转 机构，使容器同步进行公转、自转，以使装于容器内的物料得以混合或研磨。 但是，传统的这种行星式混合装置由于其自转机构的自转轴心线与物料罐的 几何中心线是重合的，在运行过程中，位于容器内自转中轴线附近的物料易 出现陀螺效应而趋于稳定，由此导致自转中轴线附近的物料的分散、混合、 研磨效果不够理想，难以满足高精度加工的要求。此外，这种装置的容器需 要由装夹机构紧紧地夹紧，否则在装置运动过程中，整个容器易被甩出。同 时，物料会飞溅到物料罐盖的内表面上，导致浪费及清洗困难。
技术实现思路
本技术所要解决的技术问题在于提供一种高机械能混合分散研磨 装置，其能提供高机械能，以达到较佳的混合、分散、研磨的效果。为解决上述技术问题，本技术采用如下技术方案 一种高机械能混 合分散研磨装置，包括动力源、由动力源驱动的公转机构、与公转机构传动 配合的自转机构、设于自转机构的自转轴上的自转支架、设于自转支架上的 物料罐座以及设于物料罐座上的物料罐，所述自转支架包括与自转轴固定相 连的连接部以及分别自连接部的两侧平行于自转轴伸出的支撑部，两支撑部且相对于自转轴对称；所述物料罐座为一端开口的筒体，物料罐座筒壁的相 对两侧分别借助于枢轴结构可转动地设置于两支撑部上，在筒壁与支撑部之 间还设有限位结构。进一步地，所述自转机构的自转轴心线与公转机构的公转轴心线具有夹角a，所述自转轴心线朝向公转轴心倾斜或者背离公转轴心线倾斜而形成所述 夹角a。 CF0度或者a-45度左右是较佳的选择，当0(=0度时，自转轴心线与 公转轴心线平行。本技术的有益效果是通过将物料罐可摆动地设置于自转支架上，在装置运行过程中，物料罐在公转、自转的同时，还会规律性地进行大幅度 摇摆振动，从而使物料在多种运动的复合作用下，受到的机械能很大，混合、 分散、研磨效果非常好，特别是对团聚纳米粉体的分散效果很突出，应用前景非常广阔；本技术还通过将自转轴心线与公转轴心线之间形成的夹角a 设定为45度角左右，而可达到在装置运行过程中物料罐只需放置于物料罐座 中而不需轴向夹紧的效果，从而有利于取放物料罐的操作，同时，使物料不 会飞溅到物料罐盖的内表面上，物料也不会甩出。当a为45度角左右时，大 幅摇摆所形成的振动力与公转、自转运动形成的能量会更有效地叠加，会进 一步提高装置的机构能。本技术在现有的行星式公转、自转模式的基础 上，加入大幅摇摆振动，可以做到同样的输入功率的条件下，使物料的混合 分散、研磨效果成倍提高，达到前所未有的最大值，应用前景广阔。附图说明图1为本技术高机械能混合分散研磨装置的分解图。 图2为沿图1中l-l的剖视放大图。图3为本技术高机械能混合分散研磨装置的物料罐座摆动到极限位 置时的结构示意图。图4为本技术高机械能混合分散研磨装置的物料罐座在图3所示位 置经自转180度后的示意图。图5为本技术高机械能混合分散研磨装置的物料罐座在公转离心力 作用下从图4位置摆动至极限位置的示意图。图6为本技术高机械能混合分散研磨装置的自转轴心线与公转轴心线具有夹角的结构示意图。图7是本技术高机械能混合分散研磨装置的自转轴心线与公转轴心 线具有夹角的另一种结构示意图。以下结合附图对本技术做进一步描述-具体实施方式如图1所示，本技术提供一种高机械能混合分散研磨装置，包括动 力源1、由动力源1驱动的公转机构2、与公转机构2传动配合的自转机构3、 设于自转机构3的自转轴30上的自转支架4、设于自转支架4上的物料罐座 5以及设于物料罐座5上的物料罐6。所述动力源1为公转机构2及自转机构提供动能， 一般采用马达。 公转机构2包括与动力源1相连的公转轴20及固定于公转轴2顶端的公 转支承板22。所述自转机构3主要包括自转轴30及自公转轴20将动力传递给自转轴 30的传动副32， 一般地，所述传动副32为皮带副或齿轮副。所述自转轴30 的顶端穿过公转支承板22伸出，相应地，在公转支承板22的对应处设有轴 承供自转轴30穿过，从而可带动自转机构3进行公转，同时也不会影响自转 轴30的自转。上述的动力源1、公转机构2、自转机构3与现有的行星式混合研磨装置 的相关结构基本相同，其并非本技术所创新之处，因此，在此不多赘述。如图2所示，所述自转支架4包括与自转轴30固定相连的连接部40以 及分别自连接部40的两侧垂直伸出的支撑部42，两支撑部42相互平行且相 对于自转轴30对称。所述物料罐座5为一端开口的筒体，筒壁的相对两侧分别借助于枢轴结 构可转动地设置于两支撑部42上，在如图1、图2所示的实施方式中，所述 枢轴结构包括设于物料罐座5筒壁两侧的轴杆520及设于支撑部42上以供所 述轴杆520穿设的轴孔420，通过轴孔配合，而使得物料罐座5可以以轴杆 520为转轴实现摆动。在物料罐座5的筒壁与支撑部42之间还设有限位结构， 在如图所示的实施方式中，所述限位结构包括设于物料罐座5上的限位柱522 以及相应设于支撑部42上以供限位柱522相对来回活动的限位槽422，所述限位槽422是以枢轴结构的轴心为圆心的圆弧状槽，限位柱522随物料罐座 5进行摇摆振动时只能在限位槽422所限定的范围内来回活动，通过调整圆 弧状的限位槽422的圆弧长度即可调整及限制物料罐座最大摇摆幅度。当限 位槽422的圆弧长度足够长时，物料罐座的摆动可以不受到限制，从而可形 成物料罐座处于自由摇摆运动状态。在本实施方式中，其初次最大摇摆幅度 为90度。如图1所示，当装置未启动时，物料罐座5处于自然下垂状态，其 自然垂下状态称为原点位置。装置启动后，当公转速度足够大时，物料罐座5 沿公转离心力方向向外摇摆，此为初次摇摆(正向摆动)，其最大摆角为90 度(如图3所示)。此时A面在上方，B面在下方。当物料罐座5自转化0 度至另一端时，在重力及公转离心力作用下，物料罐座5 (B面在下方)下垂 并高速大幅回摆，首先是从另一端极限位置摆动向原点位置，然后通过原点 位置后继续沿公转离心力方向向外摆动(即反向摆动)，直至受限位机构限制 产生撞击振动为止。此时，B面在上方，A面在下方，如图5所示，物料罐 座5摇摆摆动幅度已达反向的最大摆角。实际运行时，在公转离心力作用下， 自转支架每自转一圈，物料罐座5来回摇摆两次，即物料罐座的A面及B面 沿着公转离心力的方向分别各向外摇摆一次。也就是说，在公转离心力作用下， 每自转一圈物料罐座内的物料被来回摇摆振动两次。当然，可以理解地，可以将所述轴杆520与轴孔420的位置互换，即将 轴杆520设于两支撑部42上，而轴孔420则对应设于筒体两侧，同样可以 实现使物料罐座5摇摆振动及限制摇摆幅度的目本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种高机械能混合分散研磨装置，包括动力源、由动力源驱动的公转机构、与公转机构传动配合的自转机构、设于自转机构的自转轴上的自转支架、设于自转支架上的物料罐座及设于物料罐座上的物料罐，其特征在于：所述自转支架包括与自转轴固定相连的连接部以及分别自连接部的两侧平行于自转轴伸出的支撑部，两支撑部且相对于自转轴对称；所述物料罐座为一端开口的筒体，物料罐座筒壁的相对两侧分别借助于枢轴结构可转动地设置于两支撑部上，在筒壁与支撑部之间还设有限位结构。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：张天松，
申请(专利权)人：深圳市海力尔技术有限公司，
类型：实用新型
国别省市：94[中国|深圳]