电光学元件制造技术

本发明专利技术的目的在于提供一种可以抑制透明电极的传导不良，得到期望的光学特性和／或像差校正特性的电光学元件。本发明专利技术的电光学元件的特征在于，包括：第一以及第二透明基板；由第一以及第二透明基板夹持的电光学材料；具有配置在第一或第二透明基板上的多个分割透镜面（１６ａ）的光学结构；具有在光学结构上将光学结构的一部分切掉等而形成的连结面（２３）的传导结构（２）；以及分别配置在多个分割透镜面（１６ａ）以及传导结构（２）上的透明电极，通过配置在传导结构（２）上的透明电极，使配置在多个透镜面上的透明电极彼此传导。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及电光学元件，特别涉及在照相机、眼镜等光学装置中用于调整焦距的 电光学元件。
技术介绍
以往，作为使用了液晶的光学元件，已知可以通过施加的电压来控制焦距的液晶 透镜。在液晶透镜的方式中，有使玻璃等透明基板具有平凸透镜、平凹透镜的透镜形状， 利用液晶的折射率变化来实现可变焦距的方式；以及使透明基板具有菲涅耳透镜的透镜形 状，同样地利用液晶的折射率变化来实现可变焦距的方式。另外，作为使透明基板具有菲涅耳透镜的透镜形状的液晶透镜，已知在菲涅耳透 镜的透镜形状之上形成有透明电极的结构(例如专利文献1)。如果在菲涅耳透镜的透镜形 状之下形成透明电极，并经由菲涅耳透镜的透镜形状向液晶层施加电压，则由于菲涅耳透 镜的透镜部分的厚度、介电常数的差异等，施加给液晶层的电压随部位而不同，有时在液晶 分子的取向、竖立特性等液晶的响应性中产生不均。因此，通过在菲涅耳透镜的透镜形状之 上形成透明电极，可以抑制上述响应性的不均。专利文献1 日本特开昭60-50510号(第2页、图2以及图3)但是，虽然通过溅射、蒸镀等方法来形成透明电极，但在菲涅耳透镜面的台阶面上 无法正确地形成电极膜，而引起传导不本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种电光学元件，其特征在于，包括：第一以及第二透明基板；由上述第一以及第二透明基板夹持的电光学材料；具有配置在上述第一或第二透明基板上的多个分割透镜面的光学结构；在上述光学结构上牺牲上述光学结构的一部分而形成的传导结构；以及分别配置在上述多个分割透镜面以及上述传导结构上的透明电极，通过配置在上述传导结构上的透明电极，使配置在上述多个透镜面上的透明电极彼此传导。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】JP 2008-3-3 2008-052011一种电光学元件，其特征在于，包括第一以及第二透明基板；由上述第一以及第二透明基板夹持的电光学材料；具有配置在上述第一或第二透明基板上的多个分割透镜面的光学结构；在上述光学结构上牺牲上述光学结构的一部分而形成的传导结构；以及分别配置在上述多个分割透镜面以及上述传导结构上的透明电极，通过配置在上述传导结构上的透明电极，使配置在上述多个透镜面上的透明电极彼此传导。2.根据权利要求1所述的电光学元件，其特征在于，上述光学结构是菲涅耳透镜结构、 柱面透镜阵列结构、微透镜阵列或衍射光栅结构。3.根据权利要求1所述的电光学元件，其特征在于，上述传导结构包括连接相邻的多 个分割透镜面彼此的连结面。4.根据权利要求3所述的电光学元件，其特征在于，上述传导结构包括将上述多个...

【专利技术属性】
技术研发人员：斋藤友香，加藤雄一，
申请(专利权)人：西铁城控股株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]