多室连续真空镀膜装置制造方法及图纸

一种多室连续真空镀膜装置，包括有依次串联、由６台阀门隔开的以下的、进片真空室２－前缓冲真空室４－前过渡真空室６－镀膜真空室８－后过渡真空室９－后缓冲真空室１１－出片真空室１３；在镀膜真空室８里，装设有若干条的靶条７；各真空室连接有真空发生装置，包括连接在进、出片真空室的前、后初级抽真空系统１６、２２、连接在前、后缓冲真空室的前、后缓冲深度排气系统１７，２１，连接在前、后过渡真空室的前、后深度排气系统１８和２０，和连接在镀膜真空室的镀膜深度排气系统１９。本实用新型专利技术装置真空度平稳、不波动，镀膜质量好，缩短了在进、出片室的排气时间，提高生产效率，真空室的配置合理、效率高。适用于各种连续生产的真空镀膜装置。（*该技术在2019年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及磁控溅射镀膜设备，特别是一种多室连续真空镀膜的生产装置。
技术介绍
溅射真空镀膜技术的迅速发展，令核心的真空室，已从单室转向两室，继而向多室 发展，生产装置也从单室间歇式，朝向多室连续生产线发展，生产效率不断得到提高，大大 节省生产准备和辅助时间，并提高真空度及其稳定性，提升镀膜质量。当镀膜室抽至一定真 空度时，往镀膜室内充入工作气体(常用氩气)，调节溅射电源电流，使镀膜室内气体电离 状况稳定，由电离出的正离子轰击靶材表面，溅射出靶材原子到基片上，便形成薄膜。申请 号200810143143. 2大面积反射导电膜连续磁控溅射镀膜生产线，所设计的一条庞大的生 产线，包括有依次相邻并与真空系统连通的各真空室，如前预抽室，前过渡室，前传送室，连 续5台介质镀膜室，2台隔离传送室，隔离室，导电膜镀膜室，后传送室，后过渡室，以及处于 两头的进片区和出片区，还有所设置的磁导向传送装置，工件回行架等组成的生产环路。无 庸置疑，这样的生产线的设备相当庞杂，投资巨大，生产成本高。中国专利申请00122078.0 号多层膜在线连续镀制设备的工艺布置(公开号CN 1338531 A)，公开了一本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种多室连续真空镀膜装置，包括通过两者之间的阀门相互串联，且旁接有真空发生装置的多个真空室、所连接成的一种连续真空镀膜的装置，其特征在于，所述的多个真空室和多个串联的阀门，包括有依次串联的以下设备：阀门Ⅰ（１）－进片真空室（２）－阀门Ⅱ（３）－前缓冲真空室（４）－阀门Ⅲ（５）－前过渡真空室（６）－镀膜真空室（８）－后过渡真空室（９）－阀门Ⅳ（１０）－后缓冲真空室（１１）－阀门Ⅴ（１２）－出片真空室（１３）－阀门Ⅵ（１４）；在镀膜真空室（８）里，装设有１条或若干条作为溅射镀层材料的靶条（７）；所述的真空发生装置，包括分别连接在各个真空室之上的、初级抽真空系统和深度排气系统；当中有连接在进片真空室...

【技术特征摘要】
一种多室连续真空镀膜装置，包括通过两者之间的阀门相互串联，且旁接有真空发生装置的多个真空室、所连接成的一种连续真空镀膜的装置，其特征在于，所述的多个真空室和多个串联的阀门，包括有依次串联的以下设备阀门I(1)-进片真空室(2)-阀门II(3)-前缓冲真空室(4)-阀门III(5)-前过渡真空室(6)-镀膜真空室(8)-后过渡真空室(9)-阀门IV(10)-后缓冲真空室(11)-阀门V(12)-出片真空室(13)-阀门VI(14)；在镀膜真空室(8)里，装设有1条或若干条作为溅射镀层材料的靶条(7)；所述的真空发生装置，包括分别连接在各个真空室之上的、初级抽真空系统和深度排气系统；当中有连接在进片真空室(2)的前初级抽真空系统(16)，连接在出片真空室(13)的后初级抽真空系统(22)；连接在前缓冲真空室(4)的前缓冲深度排气系统(17)，连接在前过渡真空室(6)的前深度排气系统(18)，连接在镀膜真空室(8)的镀膜深度排气系统(19)，连接在后过渡真空室(9)的后深度排气系统(20)，以及连接在后缓冲真空室(11)上的后缓冲深度排气系统(21)，这些系统通过真空阀门，真空泵以及相应的真空管道，而连接成真空发生系统的。2. 根据权利要求1所述的多室连续真空镀膜装置，其特征在于，所述的镀膜深度排气 系统(19)，包括在镀膜真空室(8)两侧各3台对称连接的扩散泵或分子泵(191,192,193， 194，195，196)，每台扩散泵或分子泵(191， 192， 193， 194， 195， 196)是各自通过l台精抽阀 而连接到真空室两侧上的，并且每台泵另一端的排气端，均连接到一组包括罗茨泵(197) 和前置泵(198)的、真空泵组进气端的真空管道上。3. 根据权利要求1或2所述的多室连续真空镀膜装置，其特征在于，所述的前深度排气 系统(18)，包括各1台在前过渡真空室(6)两侧，对称连接的扩散泵或分子泵(181,182)， 每台扩散泵或分子泵(181，182)，是各自通过1台精抽阀而连接到真空室的两侧的，并且每 台泵另一端的排气端，均连接到一组包括有罗茨泵(183)和前置泵(184)的、真空泵组进 气端的真空管道上；所述的后深度排气系统(20)，包括各1台在后过渡真空室(9)两侧，对 称连接的扩散泵或分子泵(201，202)，每台扩散泵或分子泵(201，202)，是各自通过1台精 抽阀而连接到真空室的两侧的，并且每台泵另一端的排气端，均连接到一组包括有罗茨泵 (203)和前置泵(204)的、真空泵组进气端的真空管道上。4. 根据权利要求1或2所述的多室连续真空镀膜装置，其特征在于，所述的前缓冲深 度排气系统(17)，包括各1台在前缓冲真空室(4)两侧、对称连接的扩散泵或分子泵(171， 172)，每台扩散泵或分子泵(171，172)，是各自通过1台精抽阀而连接到真空室两侧的，并 且每台泵另一端的排气端，均连接到一组包括罗茨泵(173)和前置泵(174)的、真空泵组进 气端的真空管道上，这组真空泵组的进气端，并连接到上述前缓冲真空室(4)的一侧；所述 的后缓冲深度排气系统(21)...

【专利技术属性】
技术研发人员：钟肇兰，
申请(专利权)人：钟肇兰，
类型：实用新型
国别省市：44[中国|广东]