直描式曝光装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种能够以简单的构造实现低成本化并且能够以高生产率执行曝光工艺的直描式曝光装置。作为工件载置部的载物台(3)连结有多个，通过转圈机构(21)沿着环状的环绕路转圈。在到达载置作业位置的载物台(3)上装载机(4)载置未曝光的工件W，在通过载物台(3)的移动使工件W通过曝光区域时，曝光头(1)向曝光区域照射曝光图案的光，工件W被曝光。工件W被吸附机构(7)吸附在载物台(3)上，并利用对准单元对曝光图案的照射位置进行校正。曝光完成的工件W由卸载机(5)回收。

【技术实现步骤摘要】

本申请专利技术涉及一种不经由掩模对工件照射规定图案的光而进行曝光的直描式曝光装置。以下，将曝光中的光的规定的图案称为曝光图案。

技术介绍

1、对表面形成有感光层的对象物进行曝光而使感光层感光的曝光技术，作为光刻的主要技术而被广泛用于各种细微电路或细微结构的形成等。代表性的曝光技术是如下技术：对形成有与曝光图案同样的图案的掩模照射光，通过将掩模的像投影到对象物的表面来对对象物照射曝光图案的光。

2、与使用这样的掩模的曝光技术不同，已知有使用空间光调制器在对象物的表面直接形成像并进行曝光的技术。以下，在本说明书中，将该技术称为直描式曝光。

3、在直描式曝光中，典型的空间光调制器是dmd(digital mirror device：数字微镜器件)。dmd具有将微小的方形的反射镜配设成直角格子状的构造。各反射镜相对于光轴的角度被独立地控制，能够采取使来自光源的光反射而到达对象物的姿势、和使来自光源的光不到达对象物的姿势。dmd具备控制各反射镜的控制器，控制器按照曝光图案来控制各反射镜，使曝光图案的光照射到对象物的表面。</p>

4、在直本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种直描式曝光装置，对板状或片状的各工件没有掩模地照射规定图案的光并进行曝光，其特征在于：

2.根据权利要求1所述的直描式曝光装置，其特征在于，

3.根据权利要求2所述的直描式曝光装置，其特征在于，

4.根据权利要求1-3中任一项所述的直描式曝光装置，其特征在于，

5.根据权利要求4所述的直描式曝光装置，其特征在于，

6.根据权利要求1所述的直描式曝光装置，其特征在于，

7.根据权利要求2或3所述的直描式曝光装置，其特征在于，

【技术特征摘要】

1.一种直描式曝光装置，对板状或片状的各工件没有掩模地照射规定图案的光并进行曝光，其特征在于：

2.根据权利要求1所述的直描式曝光装置，其特征在于，

3.根据权利要求2所述的直描式曝光装置，其特征在于，

4.根据权利要...

【专利技术属性】
技术研发人员：渡边健二，
申请(专利权)人：株式会社阿迪泰克工程，
类型：发明
国别省市：