【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及纳米压印光刻,具体是一种气压式纳米压印设备的自动脱模装置。
技术介绍
1、纳米压印作为一种物理接触式的加工技术,在模具和压印胶接触和分离的过程中都容易引入缺陷,比如颗粒、粘胶、气泡等缺陷。
2、传统的纳米压印设备常采用机械分离法如垂直剥离,模板与基底保持90°快速分离,依赖高精度位移控制系统控制分离速度,难度较大,易产生脱胶现象,且对模板的损伤不可控;其次还采用热辅助脱模,通过加热模板(80-120℃)或基底,利用材料热膨胀系数差异实现界面分离,这对材料的要求较高,且降低界面黏附力大小未知,无法准确控制脱模。
3、因此,希望设计出一种气压设备脱模工艺的新方法,减小对模板的损伤,突破模板寿命限制。
4、现有技术方案:①cn116430670a“一种纳米压印脱模装置及方法”专利。该专利技术公开的纳米压印脱模装置,通过上部真空吸附装置和下部真空吸附装置的设置,配合上部真空吸附装置内的用于调节真空区域的活塞结构,实现纳米压印脱模;通过不断进气调节腔体内真空压力,会使产品表面和压印印章表面受力均匀
...【技术保护点】
1.一种气压式纳米压印设备的自动脱模装置,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,真空吸附接口夹持力≥500 N,同时所述直线轴承(2)升降行程0-100 mm,定位精度±1 μm,所述基底吸盘(4)吸附压力-90 kPa至-100kPa,所述翻转轴承(5),提供0°-15°倾角转动自由度,所述翻转轴承(5)为自润滑角接触轴承。
3.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,所述夹持机构(1)内置温度传感器,通过热变形补偿算法修正定位误差。
4.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,所述凸轮(61)轮廓满足升程方程
...【技术特征摘要】
1.一种气压式纳米压印设备的自动脱模装置,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,真空吸附接口夹持力≥500 n,同时所述直线轴承(2)升降行程0-100 mm,定位精度±1 μm,所述基底吸盘(4)吸附压力-90 kpa至-100kpa,所述翻转轴承(5),提供0°-15°倾角转动自由度,所述翻转轴承(5)为自润滑角接触轴承。
3.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,所述夹持机构(1)内置温度传感器,通过热变形补偿算法修正定位误差。
4.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,所述凸轮(61)轮廓满足升程方程:h(ϕ)=r*(1−cosϕ),0≤ϕ≤90°,其中,r为基圆半径,ϕ为转角;
5.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,所述伺服电机(62)为闭环步进电机,扭矩0.2-2....
【专利技术属性】
技术研发人员:邓萌萌,
申请(专利权)人:璞璘科技杭州有限公司,
类型:发明
国别省市:
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