【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及纳米压印脱膜，尤其涉及一种纳米压印平压式自动脱模机构。
技术介绍
1、纳米压印光刻（nil）是一种低成本、高通量和高分辨率的复制纳米图案的技术，采用非常简便的方式，即可将纳米级的图案特征从模具转移到目标基体。在过去的二十多年里，该技术成功地突破了实验室规模的生产障碍，逐渐成为一种工业规模生产技术。同时伴随着基于摩尔定律的光刻制造技术遭遇瓶颈，以及光刻技术令人生畏的技术障碍和高昂的成本；nil技术在低于20纳米的聚合物图案化上展现出非凡的能力，其中热nil和uv-nil已被证实可用于低于10nm的分辨率的图案化过程；目前，在半导体行业的国际技术路线图中，nil技术被视为32nm节点及以上微电子制造的竞争对手，其中，数据存储和光学显示器可能是纳米压印技术取代标准光刻方法的第一个工业应用领域，其他例如传感器、生物芯片和纳米光学制造商也在寻求低成本、高分辨率的功能化图案复制，对nil技术展现出高度的兴趣。
2、nil经过几十年的研究已达到一定的成熟度，可在大于8英寸硅片的衬底上进行压印过程。然而，nil在工业制造中仍然实施有限，主要由于压印过程中伴随着缺陷的产生和缺陷较难控制的问题。
3、这对缺陷控制有着非常严格要求的微电子制造业是难以容忍的。nil工艺采用设计好的模具机械地压入可变形的纳米压印胶中，以产生纳米结构图案。压印胶在压印后保持模板的反向形貌。在nil的缺陷管理中，由于聚合物粘附在模具表面而产生的缺陷是最难控制的，这仍然是nil产量的一个主要问题。虽然可以使用硅烷防粘涂层，但对于批量生产中
4、目前，许多工作致力于nil中的脱模过程。通常集中在开发具有更佳性能的抗粘黏材料，应用于硬模板的脱模过程；以及合成含氟化合物的新型模板胶材料，降低模板表面能，从而降低脱模力。另外有研究表明，工作模具用柔性的软模板代替刚性硬模板时，脱模过程可以得到改善，避免母模板和压印胶之间的直接接触，可以延长母模板的寿命，同时可以与不平坦的衬底形成良好的保形接触，进一步降低nil的成本，因而对软膜的脱模过程控制必不可少。
5、nil技术在当前的发展趋势中逐渐形成三种模板，硬质模板、软模板和复合模板。石英、硅等硬质模板刚度较大，由于硬模板表面的微起伏较大，压印过程均匀性较差，且对颗粒等杂质容忍度较低，脱模过程一般为直接驱动模板与基体垂直分离，配合采用模板表面处理工艺进行脱模；pdms等聚合物类的软模板刚度较低、对基体上的微观形貌贴合性好，压印过程均匀性较好，但由于机械强度较低，在复制低于500nm的图案时，常表现为失真的现象，脱模过程一般通过线接触的逐渐剥离；压印模板通过将石英和pdms等聚合物结合为一体，石英作为聚合物的硬性支撑，提供变形刚度和支撑，聚合物更好的贴合性，使压印模板可以做到大面积、较高分辨率的复制纳米图案，脱模过程直接驱动压印模板与基体垂直分离。
6、nil技术是目前制备微/纳米图案化结构的重要技术手段之一，压印脱模控制是实现无缺陷化nil的关键之一。现有的压印脱模研究主要以模板的表面处理以及脱模过程控制为主。模板的表面处理不失为一种有效的方法，但其处理过程复杂，对硬模板和软模板不具备通用性，对于大批量压印和多模板翻印的情况，导致效率降低；另外，部分表面处理后的模板，脱模过程依旧具有很大脱模力，表面处理模板的可靠性不稳定。脱模过程控制多采用活塞式或倾斜式的脱模控制，在脱模过程中，需要对活塞或倾斜装置有着精准的控制，但该方式也很难应对大面积压印以及较大脱模力带来的挑战；另外，极易形成的横向脱模力会导致纳米结构的弯曲或坍塌，纳米结构底部的应力集中，从而导致图案底部的缺陷甚至断裂。脱模过程控制由于外部机械力的参与和控制的误差，容易在纳米结构底部产生局部应力集中，从而导致微/纳米图案的失效。
技术实现思路
1、本专利技术目的在于提供一种纳米压印平压式自动脱模机构，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。
2、为实现上述目的，本专利技术提供如下技术方案：一种纳米压印平压式自动脱模机构，包括压印基体承载装置，所述压印基体承载装置顶部移动设有模板安装架，所述模板安装架一侧设有连接板，所述连接板顶部设有用于驱动所述模板安装架沿所述连接板升降的驱动组件，所述模板安装架底部设有压印组件，所述模板安装架侧壁对称设有调节组件。
3、作为优选，所述压印基体承载装置包括基体运动平台，所述基体运动平台顶部移动设有真空吸盘，所述真空吸盘顶部设有基体。
4、作为优选，所述模板安装架顶部中心设有透光区，所述模板安装架位于所述透光区顶部正中心设有紫外照射灯，所述模板安装架底部设有用于安装所述压印组件的安装腔。
5、作为优选，所述驱动组件包括所述连接板顶部设有的精密驱动电缸，所述精密驱动电缸的伸缩端与所述模板安装架固定连接。
6、作为优选，所述压印组件包括所述安装腔底部设有的衬垫，所述衬垫的底部贴合设有压印模板，所述压印模板底部设有微结构层，所述压印模板侧壁对称设有斜槽。
7、作为优选，所述压印组件包括所述安装腔底部设有软模板，所述软模板顶部设有软膜气腔，所述模板安装架侧壁对称设有用于固定所述软模板的软膜锁紧螺钉，所述软模板底部设有微结构层。
8、作为优选，所述调节组件包括所述模板安装架底部对称设有的调整块，所述模板安装架侧壁设有用于螺纹连接所述调整块的调节螺钉。
9、作为优选，所述基体运动平台包括底座，所述底座顶部设有纵向移动机构，所述纵向移动机构顶部设有横向移动机构，所述横向移动机构的顶部与所述真空吸盘固定连接。
10、作为优选，所述纵向移动机构包括所述底座顶部对称设有的安装板一，两侧所述安装板一中部转动设有丝杆一，一侧所述安装板一设有输出轴与所述丝杆一固定连接的电机一，所述丝杆一的外圆壁套设有滚珠螺母一。
11、作为优选，所述横向移动机构包括所述滚珠螺母一固定连接的安装座，所述安装座顶部对称设有的安装板二，所述安装板二中部设有丝杆二，一侧所述安装板二设有输出轴与所述丝杆二固定连接的电机二，所述丝杆二的外圆壁套设有滚珠螺母二，所述滚珠螺母二与所述真空吸盘固定连接。
12、本专利技术的有益效果：
13、1．本专利技术通过微锲合的方式完成硬模板、复合模板和软模板的压印脱模；首先对于硬模板，预先加工和模板上的斜槽相匹配的锲型块，锲型块的微径向移动，使硬模板产生脱模方向的轴向运动，从而缓慢均匀地完成脱模过程；复合模板在硬质的支撑结构上可采用类似硬模板的设计；在软模板脱模设计上，首本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种纳米压印平压式自动脱模机构，包括压印基体承载装置（10），其特征在于：所述压印基体承载装置（10）顶部移动设有模板安装架（14），所述模板安装架（14）一侧设有连接板（13），所述连接板（13）顶部设有用于驱动所述模板安装架（14）沿所述连接板（13）升降的驱动组件，所述模板安装架（14）底部设有压印组件，所述模板安装架（14）侧壁对称设有调节组件。
2.根据权利要求1所述的一种纳米压印平压式自动脱模机构，其特征在于：所述压印基体承载装置（10）包括基体运动平台（103），所述基体运动平台（103）顶部移动设有真空吸盘（102），所述真空吸盘（102）顶部设有基体（101）。
3.根据权利要求1所述的一种纳米压印平压式自动脱模机构，其特征在于：所述模板安装架（14）顶部中心设有透光区（19），所述模板安装架（14）位于所述透光区（19）顶部正中心设有紫外照射灯（12），所述模板安装架（14）底部设有用于安装所述压印组件的安装腔。
4.根据权利要求1所述的一种纳米压印平压式自动脱模机构，其特征在于：所述驱动组件包括所述连接板（13）顶部设
5.根据权利要求3所述的一种纳米压印平压式自动脱模机构，其特征在于：所述压印组件包括所述安装腔底部设有的衬垫（15），所述衬垫（15）的底部贴合设有压印模板（16），所述压印模板（16）底部设有微结构层（20），所述压印模板（16）侧壁对称设有斜槽。
6.根据权利要求3所述的一种纳米压印平压式自动脱模机构，其特征在于：所述压印组件包括所述安装腔底部设有软模板（25），所述软模板（25）顶部设有软膜气腔（26），所述模板安装架（14）侧壁对称设有用于固定所述软模板的软膜锁紧螺钉（21），所述软模板（25）底部设有微结构层（20）。
7.根据权利要求1所述的一种纳米压印平压式自动脱模机构，其特征在于：所述调节组件包括所述模板安装架（14）底部对称设有的调整块（17），所述调整块（17）呈楔块状，所述模板安装架（14）侧壁设有用于螺纹连接所述调整块（17）的调节螺钉（18）。
8.根据权利要求2所述的一种纳米压印平压式自动脱模机构，其特征在于：所述基体运动平台（103）包括底座（22），所述底座（22）顶部设有纵向移动机构（23），所述纵向移动机构（23）顶部设有横向移动机构（24），所述横向移动机构（24）的顶部与所述真空吸盘（102）固定连接。
9.根据权利要求8所述的一种纳米压印平压式自动脱模机构，其特征在于：所述纵向移动机构（23）包括所述底座（22）顶部对称设有的安装板一，两侧所述安装板一中部转动设有丝杆一，一侧所述安装板一设有输出轴与所述丝杆一固定连接的电机一，所述丝杆一的外圆壁设有滚珠螺母一。
10.根据权利要求9所述的一种纳米压印平压式自动脱模机构，其特征在于：所述横向移动机构（24）包括所述滚珠螺母一固定连接的安装座，所述安装座顶部对称设有的安装板二，所述安装板二中部设有丝杆二，一侧所述安装板二设有输出轴与所述丝杆二固定连接的电机二，所述丝杆二的外圆壁移动设有滚珠螺母二，所述滚珠螺母二与所述真空吸盘（102）固定连接。
...【技术特征摘要】
1.一种纳米压印平压式自动脱模机构，包括压印基体承载装置（10），其特征在于：所述压印基体承载装置（10）顶部移动设有模板安装架（14），所述模板安装架（14）一侧设有连接板（13），所述连接板（13）顶部设有用于驱动所述模板安装架（14）沿所述连接板（13）升降的驱动组件，所述模板安装架（14）底部设有压印组件，所述模板安装架（14）侧壁对称设有调节组件。
2.根据权利要求1所述的一种纳米压印平压式自动脱模机构，其特征在于：所述压印基体承载装置（10）包括基体运动平台（103），所述基体运动平台（103）顶部移动设有真空吸盘（102），所述真空吸盘（102）顶部设有基体（101）。
3.根据权利要求1所述的一种纳米压印平压式自动脱模机构，其特征在于：所述模板安装架（14）顶部中心设有透光区（19），所述模板安装架（14）位于所述透光区（19）顶部正中心设有紫外照射灯（12），所述模板安装架（14）底部设有用于安装所述压印组件的安装腔。
4.根据权利要求1所述的一种纳米压印平压式自动脱模机构，其特征在于：所述驱动组件包括所述连接板（13）顶部设有的精密驱动电缸（11），所述精密驱动电缸（11）的伸缩端与所述模板安装架（14）固定连接。
5.根据权利要求3所述的一种纳米压印平压式自动脱模机构，其特征在于：所述压印组件包括所述安装腔底部设有的衬垫（15），所述衬垫（15）的底部贴合设有压印模板（16），所述压印模板（16）底部设有微结构层（20），所述压印模板（16）侧壁对称设有斜槽。
6.根据权利要求3所述的一种纳米压印平压式自动...
【专利技术属性】
技术研发人员：邓萌萌，
申请(专利权)人：璞璘科技杭州有限公司，
类型：发明
国别省市：
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