一种含锆纳米有机溶胶的制备方法及应用技术

本发明专利技术属于纳米压印技术领域，具体公开了一种含锆纳米有机溶胶的制备方法及应用。该材料由烷氧基锆在多种化合物保护下通过缩合反应和接枝反应制得。具体地，由烷氧基锆和含双键的β

【技术实现步骤摘要】
一种含锆纳米有机溶胶的制备方法及应用


[0001]本专利技术属于纳米压印
，涉及一种含锆纳米有机溶胶的制备方法及应用。

技术介绍

[0002]折射率 (RI) 是光学材料最重要和最基本的特性之一。近年来，高折射率聚合物在各种先进微纳光学器件中获得了越来越广泛的应用，然而目前大多数聚合物的折射率都无法满足性能要求。纳米压印技术，特别是紫外纳米压印技术，由于使用紫外线在室温下固化，加工效率高，现已成为工业化生产微纳光学器件的主流工艺。紫外纳米压印原理非常简单：将具有纳米级凸凹结构的透明模板压入预聚体薄膜中，紫外光固化后，聚合物发生交联，从粘稠液体转化为坚硬的三维网状结构，从而使得填充在模腔内的纳米结构定型。移去模板后即可在材料表面获得所需的纳米结构。
[0003]在聚合物中加入高折射率的无机纳米颗粒是提高聚合物折射率的有效方法，其中氧化锆纳米颗粒由于色浅、稳定性高，成为一种有潜力的候选方案。迄今为止，溶胶
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凝胶法、水热反应和溶剂热反应是最常用的合成纳米颗粒分散液的方法。此类文献数量巨大，例如文献1（Peter D.本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种含锆纳米有机溶胶的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：1）将烷氧基锆、含双键的β
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二酮在常温下混合均匀并搅拌至透明；2）加入含邻苯基苯氧基的化合物，继续搅拌至透明；3）缓慢加入去离子水，并继续常温搅拌；4）进行真空旋蒸；5）冷却后，加入有机溶剂获得含锆纳米有机溶胶。2.根据权利要求1所述的一种含锆纳米有机溶胶的制备方法，其特征在于，步骤1）中，烷氧基锆为正丁醇锆。3.根据权利要求1所述的一种含锆纳米有机溶胶的制备方法，其特征在于，步骤1）和步骤2）中，烷氧基锆、含双键的β
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二酮及含邻苯基苯氧基的化合物的摩尔比为10：1：1。4.根据权利要求1所述的一种含锆纳米有机溶胶的制备方法，其特征在于，步骤3）中，去离子水和烷氧基锆的摩尔比为1:5~1:0.5，搅拌时间为0.5~72小时。5. 根据权利要求1所述的一种含锆纳米有机溶胶的制备方法，其特征在于，步骤4）中，旋蒸温度为50~160度，旋蒸时间为2 ~24小时，真空度为
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0.09~
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0.098MPa。6.根据权利要求1所述的一种含锆纳米有机溶胶的制备方法，其特征在于，步骤5）中，有机溶剂选自苯甲醚、甲苯、二甲苯、氯苯、乙二醇单甲醚、甲基丙烯酸甲酯、丙二醇甲醚醋酸酯或甲基丙烯酸叔丁酯中的一种。7.如权利要求1所述含锆纳米有机溶胶在制备...

【专利技术属性】
技术研发人员：胡昕，邓萌萌，
申请(专利权)人：璞璘科技杭州有限公司，
类型：发明
国别省市：