大口径收集镜的梯度Mo/Si多层膜的设计方法、设备和介质技术

本发明专利技术提供了一种大口径收集镜的梯度Mo/Si多层膜的设计方法、设备及介质，其中，方法包括：由极紫外周期反射梯度Mo/Si多层膜、保护帽层和隔离层构成梯度Mo/Si多层膜，其中，在极紫外周期反射梯度多层膜的顶部覆盖保护帽层、在Mo/Si层之间设置隔离层；极紫外周期反射梯度Mo/Si多层膜为层厚度梯度变化的周期性多层薄膜结构，层厚度与入射角呈梯度变化，满足二次函数关系；基于二次函数关系对极紫外周期反射梯度Mo/Si多层膜的每一层薄膜的层厚度进行拟合优化以匹配入射角，得到大口径收集镜的梯度Mo/Si多层膜，以解决无法满足极紫外光刻光学系统大口径收集镜工作时大入射角范围内的反射率需求的问题。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及精密光刻组件研究，尤其涉及一种大口径收集镜的梯度mo/si多层膜的设计方法、设备及介质。

技术介绍

1、收集镜是极紫外光刻(extreme ultraviolet，euv)光学系统中的关键元件之一，其制造精度和表面质量直接影响euv辐射的反射和会聚能力，以及红外光的衍射效率，进而决定了euv光刻光源的输出功率和稳定性。这些因素最终影响euv光刻机的吞吐量、分辨率、制造成本和可靠性。

2、极紫外光波长范围为10nm至121nm，在极紫外波段，大多数材料的折射率接近1，传统增反膜在euv波段反射率较低，限制了收集镜的光收集性能。为了提高反射率，通常采用具有高、低折射率的材料交替镀制成极紫外周期多层膜，包括均匀多层膜结构和梯度多层膜结构，均匀多层膜只能在特定的约5°小入射角范围内实现高反射率。由于极紫外光刻光学系统大口径收集镜工作时光线的入射角范围较大，例如650mm口径收集镜的入射角范围约为5～36°，传统的均匀多层膜无法满足该大入射角范围内的反射率需求。而梯度多层膜结构在收集镜不同口径处膜厚不同，可在大入射角范围内实现高反射率。目前本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种大口径收集镜的梯度Mo/Si多层膜的设计方法，其特征在于，包括以下步骤：

2.如权利要求1所述的大口径收集镜的梯度Mo/Si多层膜的设计方法，其特征在于，所述极紫外周期反射梯度Mo/Si多层膜的初始层厚度由遗传算法确定，经过单纯形优化算法得到近正入射时的反射率最优值时的所述层厚度。

3.如权利要求1所述的大口径收集镜的梯度Mo/Si多层膜的设计方法，其特征在于，所述极紫外周期反射梯度Mo/Si多层膜由吸收层与间隔层相互交替组成，所述吸收层和所述间隔层为具有极紫外波段折射率差异的两种高低原子序数Z材料，高Z材料可以为Mo、Ru，低Z材料可以为Si、B4C。<...

【技术特征摘要】

1.一种大口径收集镜的梯度mo/si多层膜的设计方法，其特征在于，包括以下步骤：

2.如权利要求1所述的大口径收集镜的梯度mo/si多层膜的设计方法，其特征在于，所述极紫外周期反射梯度mo/si多层膜的初始层厚度由遗传算法确定，经过单纯形优化算法得到近正入射时的反射率最优值时的所述层厚度。

3.如权利要求1所述的大口径收集镜的梯度mo/si多层膜的设计方法，其特征在于，所述极紫外周期反射梯度mo/si多层膜由吸收层与间隔层相互交替组成，所述吸收层和所述间隔层为具有极紫外波段折射率差异的两种高低原子序数z材料，高z材料可以为mo、ru，低z材料可以为si、b4c。

4.如权利要求3所述的大口径收集镜的梯度mo/si多层膜的设计方法，其特征在于，所述吸收层为mo，所述隔离层为si层，所述保护帽层为单层ru，所述隔离层为单层b4c。

5.如权利要求4所述的大口径收集镜的梯度mo/si多层膜的设计方法，其特征在于，所述吸收层与所述隔离层组成所述极紫外周期反射梯度mo/si多层膜的一个周期，一个周期结构为b4c-si-b4c-mo。

6.如权利要求5所述的大口径收集镜的梯度mo/si多层膜的设计方法，其特征在于，所述一个周期结构的层厚...

【专利技术属性】
技术研发人员：赵子昂，齐月静，马敬，金浩，齐威，徐天伟，杨舒漫，
申请(专利权)人：中国科学院微电子研究所，
类型：发明
国别省市：