防反射色差补正成膜滤光片制造技术

本实用新型专利技术公开一种防反射色差补正成膜滤光片，在玻璃基片的某一侧面或两侧面设置有成膜，特征是所述成膜由第一膜层至第五膜层依次制备形成，第一膜层作为最下层，第五膜层作为最上层，第一膜层的厚度为１８ｎｍ，第二膜层的厚度为９３ｎｍ，第三膜层的厚度为１２５ｎｍ，第四膜层的厚度为２１ｎｍ，第五膜层的厚度为７３ｎｍ。其中第一膜层为氟化镁膜层，第二膜层为氧化铝膜层，第三膜层为氧化镧与氧化钛复合膜层，第四膜层为二氧化硅膜层，第五膜层为氟化镁膜层。本实用新型专利技术采取上述成膜方式，经验证波长在４２０～６８０ｎｍ范围内，反射率能够达到０．８％以下，能够更为有效地抑制光亮衰减。（*该技术在2020年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及数码相机等光学仪器使用的一种滤光片，特别与其中的防反射色 差补正成膜滤光片有关。
技术介绍
数码相机是通过C-M0S和(XD把拍照的对象从模拟对象转化为成数字式，这种情 形下作为C-M0S和CCD的盖片玻璃需要使用一种滤光片，采取滤光片的目的是为了抑制光 亮衰减。为了实现上述抑制光亮衰减的需要，通常在滤光片的玻璃基片上设置有反射防止 膜。但现有技术中上述滤光片的反射防止膜所采取的技术方式不尽合理，还有待于进一步 改进。
技术实现思路
本技术的任务在于提供一种防反射色差补正成膜滤光片。其技术解决方案是一种防反射色差补正成膜滤光片，包括玻璃基片，在玻璃基片的某一侧面或两侧 面设置有成膜，上述成膜由第一膜层至第五膜层依次制备形成，第一膜层作为最下层，第五 膜层作为最上层；上述第一膜层的厚度为18nm，第二膜层的厚度为93nm，第三膜层的厚度 为125nm，第四膜层的厚度为21nm，第五膜层的厚度为73nm。上述第一膜层为氟化镁膜层，第二膜层为氧化铝膜层，第三膜层为氧化镧与氧化 钛复合膜层，第四膜层为二氧化硅膜层，第五膜层为氟化镁膜层。上述第五膜层的外表面向内形成深度为30微米的凹陷部。本技术的有益技术效果是本技术采取上述成膜方式，经验证波长在420 680nm范围内，反射率能够达 到0. 8%以下，能够更为有效地抑制光亮衰减。此外，最下层采取氟化镁膜层，可以提高成膜与玻璃基片的附着性与紧密度即密 着性好。最上层也采取氟化镁膜层，有利于提高滤光片的强度，不易被划伤。第五膜层的外 表面采取凹陷部的方式，更便于接近画像元件。以下结合附图与具体实施方式对本技术作进一步说明图为本技术的一种实施方式的剖示结构原理示意图。具体实施方式结合附图，一种防反射色差补正成膜滤光片，在玻璃基片1的一侧面设置有成膜。 上述成膜由第一膜层2、第二膜层3、第三膜层4、第四膜层5及第五膜层6依次制备形成。 第一膜层2作为最下层即与玻璃基片1的邻接层，第五膜层作为最上层即最远离玻璃基片1的一层。第一膜层为氟化镁膜层，膜层厚度为18nm，第二膜层为氧化铝膜层，膜层厚度为 93nm，第三膜层为氧化镧与氧化钛复合膜层即由氧化镧与氧化钛混合物制备的膜层，膜层 厚度为125nm，第四膜层为二氧化硅膜层，膜层厚度为21nm，第五膜层为氟化镁膜层，膜层 厚度为73nm。上述成膜中各膜层的制备可采取现有技术中的有关镀膜技术方式如真空蒸镀法， 或磁控管溅镀法等实施。还可通过设定镀膜时发生飞溅的条件，使上述第五膜层的外表面向内形成深度为 30微米的凹陷部，即得到满足表面凹陷要求的滤光片。除上述实施方式外，防反射色差补正成膜滤光片也可以这样实施，即在玻璃基片 的两侧面均设置有上述方式中的成膜。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种防反射色差补正成膜滤光片，包括玻璃基片，在玻璃基片的某一侧面或两侧面设置有成膜，其特征在于：所述成膜由第一膜层至第五膜层依次制备形成，第一膜层作为最下层，第五膜层作为最上层；所述第一膜层的厚度为１８ｎｍ，第二膜层的厚度为９３ｎｍ，第三膜层的厚度为１２５ｎｍ，第四膜层的厚度为２１ｎｍ，第五膜层的厚度为７３ｎｍ。

【技术特征摘要】
一种防反射色差补正成膜滤光片，包括玻璃基片，在玻璃基片的某一侧面或两侧面设置有成膜，其特征在于所述成膜由第一膜层至第五膜层依次制备形成，第一膜层作为最下层，第五膜层作为最上层；所述第一膜层的厚度为18nm，第二膜层的厚度为93nm，第三膜层的厚度为125nm，第四膜层的厚度为21nm，第五膜层的厚度为73nm...

【专利技术属性】
技术研发人员：石田克则，山崎武志，中山恭司，
申请(专利权)人：青岛豪雅光电子有限公司，
类型：实用新型
国别省市：95[中国|青岛]