损耗增强的反射式滤光片制造技术

描述了滤光片及其制造，以及滤光片在光学装置比如偏振器和反射镜中的使用。该滤光片一般包括第一反射多层膜、第二反射多层膜、以及置于第一和第二反射多层膜之间的损耗性元件。（*该技术在2021年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及滤光片以及制造和使用滤光片的方法。此外，本专利技术涉及既含有反射式元件也含有损耗性元件的滤光片以及制造和使用这种滤光片的方法。
技术介绍
滤光片，包括，例如，光学反射镜和偏振器，能够用于多种装置中实现多种功能。在许多滤光片中，入射到装置上的部分入射光被反射或吸收，另一部分光透射。例如，IR滤光片反射或吸收IR光，透射可见光。再例如，偏振器反射特定波带内具有一个偏振方向的光，并透射具有垂直偏振方向的光。许多参数可以用于描述滤光片的光学性能。被吸收或反射的波长或波长范围的透射率T(或吸收率或反射率)可描述漏过滤光片的光量。光学密度定义为-log10T，对比较低透射率的滤光片特别有用。在某些应用中，希望或需要光学密度为4(对应于0.01％的透射率)或更大。另一个参数为谱带边缘锐度(例如，从高透射率波长范围到低透射率波长范围的变化)。对于至少某些应用来说，希望或需要在5、10、或20nm以下的波长范围内光学密度变化2.5以上。吸收光学体己经用于许多这些应用。特别地，这些光学体包括沉积在基片(例如，玻璃基片或聚合物基片)上或沉积在基片内的吸收材料。通常这些吸收光学体的特征在于它本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种滤光片，包括：第一反射元件；第二反射元件，其中第二反射元件的谱带边缘在第一反射元件谱带边缘的大约２５ｎｍ之内，以及损耗性元件，位于第一和第二反射元件之间，其中该损耗性元件在第一和第二反射元件中至少一个的谱带边缘内导致至少一些光损耗。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：迈克尔F韦伯，罗杰J斯特哈斯基，蒂莫西J内维特，安德鲁J乌德科克，
申请(专利权)人：三M创新有限公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]