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自我观察摄影结构制造技术

技术编号:4502801 阅读:227 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
自我观察摄影装置,是利用平面成像镜成像的原理,在平面镜上设有入射光窗,而构成一种新颖的摄影结构。该结构改变了现有摄影结构不能自我观察的弊端,从而使被摄者能够从平面成像镜中观察到自己,实现了自我观察摄影,提高了摄影的效果和质量。(*该技术在1996年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】本技术是用于人物摄影时被摄者自我观察摄影装置。本
中的现有技术,普通摄影结构。该结构无法实现被摄者自我观察摄影,只能依靠于摄影者,因而影响摄影的效果和质量。本技术的主要任务是设计一种能够自我观察的摄影装置,以美化人民群众的文化生活。本技术的设计方案是1、在摄影机前装有带有入射光窗的平面成像镜,平面成像镜的后部骨架与摄影机支架前部联接而构成自我观察摄影装置的主体;2、在平面成像镜上设有用于自我观察的视场标志,该标志可使被摄者判断自己在底片上的成像位置;3、成像镜的平面与摄影机的镜轴相互垂直。本技术与现有技术相比,它摆脱了普通摄影结构不能自我观察的弊端,使被摄者能够通过自我观察摄影装置,准确地看到自己被摄的形象,从而实现了自我观察摄影 ,提高了摄影的效果和质量,美化了人民群众的文化生活。附图说明图1是自我观察摄影装置的正视图。图2是自我观察摄影装置的侧视图。实施例图1、图2是自我观察摄影装置的一种实施例。自我观察摄影装置的实施将带有入射光窗的平面成像镜(1)用铰扣等方法联接在摄影机支架(9)前部(5),摄影机的镜头(2)位于入射光窗(4),而成像平面镜的平面(11)与摄本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种自我观察摄影装置,其特征是由平面成像镜、用于固定平面成像镜和摄影机的支架组成。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种自我观察摄影装置,其特征是由平面成像镜、用于固定平面成像镜和摄影机的支架组成。2.根据权利要求1的自我观察摄影装置,其特征是在平面成像镜的平面上制有用于自我观察的视场标...

【专利技术属性】
技术研发人员:孙桃园
申请(专利权)人:孙桃园
类型:实用新型
国别省市:61[中国|陕西]

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