气体分析器制造技术

本发明专利技术的气体分析器包含：离子化部（２１１），用以离子化试样气体；第１离子检测部（２１２）及第２离子检测部（２１３），夹着所述离子化部（２１１）而设置，并且离开所述离子化部（２１１）起算的距离相互不同，以检测来自所述离子化部（２１１）的离子；过滤器部（２１４），设在所述离子化部（２１１）及所述第１离子检测部（２１２）之间，选择性地使来自所述离子化部（２１１）的离子通过；运算装置（３），利用通过所述第１离子检测部（２１２）所得的试样气体的第１全压ＴＰ↓［１］及通过所述第２离子检测部（２１３）所得的试样气体的第２全压ＴＰ↓［２］，修正通过所述第１离子检测部（２１２）所得的由所述过滤器部（２１４）所选择的特定成分的分压ＰＰ↓［１］；且在利用四极质谱分析法等的气体分析器中，可维持分辨率，并即使在测定值无法追随周围气体压力变化的区域也可进行修正。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及气体分析器，特别涉及利用四极质谱分析法等的气体分析器测定値修正 方法。
技术介绍
已知该种残余气体分析器具备传感器单元与装置本体而形成，传感器单元具有包含 离子化部、质谱分析部与检测部的传感器部及交流产生器部，装置本体以缆线连接该传 感器单元(参照例如非专利文献l)。又根据该残余气体分析器，首先，自高温丝极发射的热电子影响导入离子化部的残 余气体而将其离子化。以透鏡加速、收敛产生的离子，将其导往质谱分析部。在质谱分 析部中对例如4条圆柱形电极(四极)施加直流及交流电压以筛选离子。作为电流以检 测部的法拉第杯检测分离的离子。该离子电流会随残余气体量(分压)变化，故可高精 度测定残余气体。然而存在有下列问题，四极质谱分析器的离子电流与残余气体量(分压)成比例增 加时，周围气体压力一旦升高，飞行于四极部内的离子与气体的碰撞机率即会增加而导 致离子难以到达检测部，且因空间电荷的影响等检测敏感度会变化。因此，四极部配置 的周围气体压力一旦高于既定値(例如约1X10—2 1X10—'Pa)，离子电流的增加即会变 缓慢。因此，离子电流一旦超过峰値即会减少(参照图6)。另一方面， 一本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种气体分析器，包含：　离子化部，用以离子化试样气体；　第１离子检测部及第２离子检测部，夹着所述离子化部而设置，并且离开所述离子化部的距离相互不同，以检测来自所述离子化部的离子；　过滤器部，设在所述离子化部及所述第１离子检 测部之间，选择性地使来自所述离子化部的离子通过；及　运算装置，利用通过所述第１离子检测部所得的试样气体的第１全压及通过所述第２离子检测部所得的试样气体的第２全压，修正通过所述第１离子检测部所得的由所述过滤器部所选择的特定成分的分压。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：青木润次，北浦宏和，布姆赛力克赛义德，
申请(专利权)人：株式会社堀场STEC，
类型：发明
国别省市：JP[日本]