【技术实现步骤摘要】
本技术涉及晶圆加工,尤其涉及一种翘曲晶圆衬底测试卡盘。
技术介绍
1、在半导体工艺中,晶圆衬底是指在制造晶体管、集成电路等电子元器件时,所使用的基础材料,也被称作“衬底材料”。它是半导体元件的支撑板,具有电学性质,并且能够承受加热、冷却、腐蚀和机械压力等工艺过程中的各种处理。晶圆衬底除了常见的硅片之外,还有蓝宝石、氮化铝、碳化硅和砷化镓等多种材料。根据不同材料的优劣,制造出来的半导体元件也有着不同的性能和用途。
2、受材料、加工工艺等因素的影响,部分晶圆衬底会存在翘曲现象。而翘曲晶圆衬底采用现有的测试卡盘进行吸附固定时,存在吸附固定效果不佳的缺陷,导致电参数测试稳定性和结果一致性较差。
技术实现思路
1、本技术为解决现有的测试卡盘对翘曲晶圆衬底进行吸附固定时,存在吸附固定效果不佳的缺陷,导致电参数测试稳定性和结果一致性较差的问题,提供一种翘曲晶圆衬底测试卡盘。本技术通过对面板上的抽气通道、环形负压槽以及负压吸附孔的位置和连接关系进行重新设计,从而自负压吸附面中心起向边缘方向可至
...【技术保护点】
1.一种翘曲晶圆衬底测试卡盘,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的翘曲晶圆衬底测试卡盘,其特征在于,所述负压吸附面的边缘附近开设有环形排油槽。
3.根据权利要求1所述的翘曲晶圆衬底测试卡盘,其特征在于,所述抽气通道呈直线状。
4.根据权利要求1所述的翘曲晶圆衬底测试卡盘,其特征在于,所述面板内具有四根所述抽气通道;所述负压吸附面上具有四个所述环形负压吸附区域;每根所述抽气通道对应控制一个所述环形负压吸附区域。
5.根据权利要求1~4中任意一项所述的翘曲晶圆衬底测试卡盘,其特征在于,所述面板背面至少开设有两个呈同心
...【技术特征摘要】
1.一种翘曲晶圆衬底测试卡盘,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的翘曲晶圆衬底测试卡盘,其特征在于,所述负压吸附面的边缘附近开设有环形排油槽。
3.根据权利要求1所述的翘曲晶圆衬底测试卡盘,其特征在于,所述抽气通道呈直线状。
4.根据权利要求1所述的翘曲晶圆衬底测试卡盘,其特征在于,所述面板内具有四根所述抽气通道;所述负压吸附面上具有四个所述环形负压吸附区域;每根所述抽气通道对应控制一个所述环形负压吸附区域。
5.根据...
【专利技术属性】
技术研发人员:张朝磊,阳力,
申请(专利权)人:成都畅梵科技有限公司,
类型:新型
国别省市:
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