氧化还原调节细胞器复合体制造技术

技术编号:44694562 阅读:15 留言:0更新日期:2025-03-19 20:43
本文所公开的内容包括适用于在降低或预防氧化应激和/或还原应激中使用的方法、组合物和试剂盒。在一些实施例中,所述方法包括使氧化还原敏感组合物与有效量的所公开的氧化还原调节组合物接触。在一些实施例中,所述方法包括向有需要的受试者施用有效量的所公开的氧化还原调节组合物。在一些实施例中,所述氧化还原调节组合物包含分离的细胞器复合体。细胞器复合体可以包含线粒体以及内质网、过氧化物酶体、溶酶体和高尔基体中的一者或多者。在一些实施例中,所述氧化还原调节组合物包含分离的线粒体。所述氧化还原调节组合物可以能够降低氧化还原敏感组合物和/或细胞中的ROS和/或RNS的水平。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

本公开总体上涉及降低和预防氧化应激和/或还原应激的方法。相关技术的描述线粒体是负责许多代谢转化和调节功能的细胞内细胞器。线粒体为高度动态的细胞器,其在整个细胞中移动并且经历结构转变,改变长度、形态、形状和大小。此外,线粒体在称为线粒体生物发生的过程中不断消除和再生。虽然大多数线粒体基因已转移到核基因组,但是线粒体基因组仍然编码rrna、trna和电子传递链(etc)的13个亚基。因此,核基因组与线粒体基因组之间的功能性通讯对于线粒体生物发生、有效的氧化磷酸化和正常健康是至关重要的。线粒体也是引起氧化应激的自由基和活性氧类(ros)的主要来源。此外,线粒体在细胞内信号传导以及细胞死亡(包括细胞凋亡和坏死)的控制中发挥着关键作用。越来越多的证据表明线粒体功能障碍与多种人类疾病相关。线粒体功能障碍(例如,呼吸链复合体功能障碍)是导致线粒体疾病和衰老的主要原因。氧化应激是由细胞内正常氧化还原状态的紊乱引起的。活性氧类(诸如过氧化物和自由基)的常规产生与解毒作用之间的不平衡可能会导致对细胞结构和机制的氧化损伤。好氧生物在正常条件下活性氧类最重要的来源是正常氧化呼吸过程中从线粒体泄漏的活性氧本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种降低或预防氧化还原敏感组合物中的氧化应激和/或还原应激的方法,其包括:

2.一种降低氧化还原敏感组合物中的活性氧类(ROS)和/或活性氮类(RNS)的水平的方法,其包括:

3.根据权利要求1至2中任一项所述的方法,其中接触步骤包括将所述氧化还原敏感组合物与所述氧化还原调节组合物的混合物孵育少于约30秒。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的方法,其中所述有效量包括至少约5ug/mL至约5mg/mL的所述氧化还原调节组合物。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的方法,其中所述氧化还原敏感组合物正在经历氧化应激和/或还原应激或者处于经历...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

1.一种降低或预防氧化还原敏感组合物中的氧化应激和/或还原应激的方法,其包括:

2.一种降低氧化还原敏感组合物中的活性氧类(ros)和/或活性氮类(rns)的水平的方法,其包括:

3.根据权利要求1至2中任一项所述的方法,其中接触步骤包括将所述氧化还原敏感组合物与所述氧化还原调节组合物的混合物孵育少于约30秒。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的方法,其中所述有效量包括至少约5ug/ml至约5mg/ml的所述氧化还原调节组合物。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的方法,其中所述氧化还原敏感组合物正在经历氧化应激和/或还原应激或者处于经历氧化应激和/或还原应激的风险中。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的方法,其中所述氧化还原敏感组合物包含一种或多种细胞,任选地接触步骤包括将所述氧化还原调节组合物引入所述一种或多种细胞中,进一步任选地所述一种或多种细胞为受试者的细胞,进一步任选地所述一种或多种细胞正在经历缺氧或者处于经历缺氧的风险中。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的方法,其中所述接触是离体、在体外或在体内进行的。

8.根据权利要求1至7中任一项所述的方法,其中所述氧化还原敏感组合物为氧化剂敏感组合物、还原剂敏感组合物或其组合。

9.根据权利要求1至8中任一项所述的方法,其中所述氧化还原敏感组合物包括生物样品。

10.根据权利要求1至9中任一项所述的方法,其中所述生物样品选自由以下项组成的组:土壤样品、空气样品、环境样品、细胞培养物样品、骨髓样品、降雨样品、放射性沉降物样品、太空样品、地外样品、污水样品、地下水样品、磨损样品、考古样品、食物样品、血液样品、血清样品、血浆样品、尿液样品、粪便样品、精液样品、淋巴液样品、脑脊液样品、鼻咽洗液样品、痰液样品、口腔拭子样品、咽拭子样品、鼻拭子样品、支气管肺泡灌洗液样品、支气管分泌物样品、乳样品、羊水样品、活检样品、指甲样品、毛发样品、皮肤样品、癌症样品、肿瘤样品、组织样品、细胞样品、细胞裂解物样品、病毒培养物样品、法医样品、感染样品、医院内感染样品、生产样品、药物制备样品、生物分子生产样品、蛋白质制备样品、脂质制备样品、碳水化合物制备样品、核苷酸溶液、多核苷酸溶液、核酸溶液、肽溶液、多肽溶液、氨基酸溶液、蛋白质溶液、合成聚合物溶液、生物化学组合物溶液、有机化学组合物溶液、无机化学组合物溶液、脂质溶液、碳水化合物溶液、组合化学产物溶液、药物候选物分子溶液、药物分子溶液、药物代谢物溶液、细胞悬浮液、病毒悬浮液、微生物悬浮液、金属悬浮液、金属合金悬浮液、金属离子溶液及其任何组合。

11.一种降低或预防受试者的氧化应激和/或还原应激的方法,其包括:

12.一种治疗或预防受试者的氧化还原疾病或疾患的方法,其包括:

13.根据权利要求1至12中任一项所述的方法,其中所述氧化还原调节组合物包含均质化线粒体、第一细胞器复合体和/或第二细胞器复合体,

14.根据权利要求1至13中任一项所述的方法,其中所述有效量包括至少约1ug至约1mg的所述氧化还原调节组合物。

15.根据权利要求1至14中任一项所述的方法,其中所述氧化还原调节组合物不包含完整细胞。

16.根据权利要求1至15中任一项所述的方法,其中所述氧化应激和/或所述还原应激包括升高水平的ros、rns和/或自由基。

17.根据权利要求1至16中任一项所述的方法,其中所述氧化应激和/或所述还原应激包括改变的细胞功能。

18.根据权利要求1至17中任一项所述的方法,其中所述氧化应激和/或所述还原应激与所述氧化还原疾病或疾患相关。

19.根据权利要求1至18中任一项所述的方法,其中所述氧化还原调节组合物使所述受试者或所述氧化还原敏感组合物中的一种或多种ros和/或一种或多种rns的水平降低至少约5%。

20.根据权利要求1至19中任一项所述的方法,其中所述氧化还原调节组合物降低氧化细胞应激的水平,并且由此恢复或修复所述细胞功能。

21.根据权利要求1至20中任一项所述的方法,其中所述氧化还原调节组合物具有ros清除活性和/或rns清除活性。

22.根据权利要求1至21中任一项所述的方法,其中所述氧化还原调节组合物降低或预防所述受试者中的ros生成和/或rns生成。

23.根据权利要求1至22中任一项所述的方法,其中所述氧化还原调节组合物具有超氧化物歧化酶活性、过氧化氢酶活性、过氧化物酶活性或其任何组合。

24.根据权利要求1至23中任一项所述的方法,其中所述氧化还原调节组合物增加和/或减少所述受试者或所述氧化还原敏感组合物中以下比率中的一者或多者:烟酰胺腺嘌呤二核苷酸的氧化形式与还原形式(nad+/nadh)、烟酰胺腺嘌呤二核苷酸磷酸的氧化形式与还原形式(nadp+/nadph)、谷胱甘肽的氧化形式与还原形式(gssg/gsh)以及硫氧还蛋白的氧化形式与还原形式(trxss/trxsh2)。

25.根据权利要求1至24中任一项所述的方法,其中所述活性氮类包括一氧化氮(no)、二氧化氮自由基(.no2)、过氧亚硝基阴离子(onoo-)、过氧亚硝酸(onooh)、亚硝基过氧碳酸盐阴离子(onooco2-)、硝鎓阳离子(no2+)、亚硝鎓阳离子(no+)或三氧化二氮(n2o3)或其任何组合。

26.根据权利要求1至25中任一项所述的方法,其中所述活性氧类包括超氧化物(o2.-)、氢过氧基(ho.2)、过氧化氢(h2o2)、过氧亚硝基(onoo-)、次氯酸(hocl)、次溴酸(hobr)、羟基自由基(ho.)、过氧自由基(roo.)、烷氧基自由基(ro.)、单线态氧(1o2)、脂质过氧化物、脂质过氧化自由基或脂质烷氧基自由基或其任何组合。

27.根据权利要求1至26中任一项所述的方法,其中所述氧化还原调节组合物具有自由基清除活性和/或抑制自由基形成。

28.根据权利要求1至27中任一项所述的方法,其中所述受试者正在经历氧化应激和/或还原应激或者处于经历氧化应激和/或还原应激的风险中,所述氧化应激和/或所述还原应激任选地是由缺血-再灌注损伤或所述氧化还原疾病或疾患引起的。

29.根据权利要求1至28中任一项所述的方法,其中所述方法包括鉴定正在经历氧化应激和/或还原应激或者处于经历氧化应激和/或还原应激的风险中的受试者。

30.根据权利要求1至29中任一项所述的方法,其包括:<...

【专利技术属性】
技术研发人员:榊原圭一菅沼正司R·C·蔡太田尚
申请(专利权)人:卢卡科学株式会社
类型:发明
国别省市:

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