一种具有简便自动门的双腔等离子蚀刻装置制造方法及图纸

本技术涉及等离子蚀刻的技术领域，具体公开了一种具有简便自动门的双腔等离子蚀刻装置，包括两个相同的腔体机构，腔体机构包括腔体和腔门，腔体外两侧设置有第一固定座，腔门上设置有滑轨；动力机构，动力机构包括液压杆、传动块以及悬臂，液压杆连接第一固定座，悬臂的一端连接第一固定座，悬臂的另一端与腔门连接，传动块连接液压杆以及悬臂；移动机构，移动机构包括第二固定座以及滑块，第二固定座安装于腔体上，第二固定座与滑块连接，滑块与滑轨活动连接；控制台，控制台连接腔体，液压杆驱动悬臂，使滑轨在滑块上移动。本技术采用控制台自动化控制腔门，减少人工操作危险，采用滑块和滑轨配合开闭腔门，确保空间利用率。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及等离子蚀刻领域，特别是涉及一种具有简便自动门的双腔等离子蚀刻装置。

技术介绍

1、随着工业的发展，精细化生产的要求逐渐提高，对印制线路板也提出多层板、高密度的要求。在印制线路板制程中，印制线路板制的孔金属化工艺一直是生产中的关键环节，直接影响电子产品的电气连接性能。而去钻污效果的好坏直接影响孔内镀层质量，进而决定产品的合格率。针对印制线路板孔中不易去除的胶渣，目前工艺对该印制线鲁班采用等离子蚀刻进行去污。

2、等离子清洗技术是一种高精密清洗技术，其清洗原理是先产生真空，在真空状态下，使得分子间力逐渐变小，再利用射频源产生的高压交变电场将工艺气体震荡，使其成为具有一定反应活性或高能量的离子，通过这些离子与工件表面的有机污染物或微颗粒污染物反应或碰撞形成了挥发性物质，然后由工作气体及真空泵将这些挥发性物质清除出去，从而达到表面清洁活化的目的。

3、现有技术中，一般采用人工对等离子蚀刻装置的腔门进行开闭，由于等离子蚀刻机腔体内具有挥发性污染物质，其通常具有腐蚀性，且对人体造成危害，同时，现有技术中，等离子蚀刻装置的腔门一般会向左、右、上或下方进行开启，左右开门使得设备很难集成，上下开门则需要额外的高度占用，有可能与工厂上方的管线布置冲突，此类方法均需要占用额外的高度或宽度，而工厂场地有限，会限制等离子蚀刻设备的使用。

4、本技术提供一种具有简便自动门的双腔等离子蚀刻装置，该装置可以通过操作台对等离子蚀刻装置进行控制，实现自动化操作，且该装置的自动门采用滑轨配合滑块的方式进行开合，打开后以叠放方式收纳于腔体顶部，在实现自动化的基础上，提高集成度，降低对使用空间的要求，大大减少使用限制。

技术实现思路

1、(一)要解决的技术问题

2、本技术所要解决的问题是提供一种具有简便自动门的双腔等离子蚀刻装置，以克服现有技术中上下左右方式开闭腔门占空间较大的缺陷，使得设备集成度更高，降低使用限制。

3、(二)技术方案

4、为解决所述技术问题，本技术提供一种具有简便自动门的双腔等离子蚀刻装置，包括：

5、两个相同的腔体机构，所述腔体机构包括腔体和腔门，所述腔体的外表面的两侧设置有第一固定座，所述腔门上设置有滑轨；

6、动力机构，所述动力机构包括液压杆、传动块以及悬臂，所述液压杆与所述第一固定座铰接，所述悬臂的一端与所述第一固定座铰接，所述悬臂的另一端与所述腔门连接，所述传动块的一端与所述液压杆铰接，所述传动块的另一端与所述悬臂连接；

7、移动机构，所述移动机构包括第二固定座以及滑块，所述第二固定座安装于腔体上，所述第二固定座与所述滑块连接，所述滑块与所述滑轨活动铰接；

8、控制台，所述控制台连接所述腔体中液压杆，所述液压杆通过传动块驱动所述悬臂，使所述滑轨在滑块移动。

9、如前所述的双腔等离子蚀刻装置，可选地，所述滑轨设置于所述腔门的两侧。

10、如前所述的双腔等离子蚀刻装置，可选地，所述双腔等离子蚀刻装置包括第三固定座，所述悬臂通过所述第三固定座与所述腔门连接。

11、如前所述的双腔等离子蚀刻装置，可选地，所述控制台统一控制或分别控制两个所述腔体机构。

12、如前所述的双腔等离子蚀刻装置，可选地，所述双腔等离子蚀刻装置包括两个真空泵，两个所述真空泵与两个所述腔体机构对应连接，所述真空泵与所述控制台连接。

13、如前所述的双腔等离子蚀刻装置，可选地，所述双腔等离子蚀刻装置包括模温机，所述模温机与所述腔体连接，所述模温机和所述控制台连接。

14、(三)有益效果

15、本技术提供的一种具有简便自动门的双腔等离子蚀刻装置，与现有技术相比，本技术具有以下有益效果：控制台可以自动化控制该双腔等离子蚀刻装置的腔门的关闭。同时，液压杆可以驱动悬臂，为移动机构提供动力，使设置于腔门上的滑轨在滑块上移动，带动腔门的开闭，实现在自动化的基础上，提高集成度，降低对使用空间的要求，大大减少使用限制。

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【技术保护点】

1.一种具有简便自动门的双腔等离子蚀刻装置，其特征在于，包括：

2.如权利要求1所述的双腔等离子蚀刻装置，其特征在于，所述滑轨(14)设置于所述腔门(12)的两侧。

3.如权利要求1所述的双腔等离子蚀刻装置，其特征在于，所述双腔等离子蚀刻装置包括第三固定座(5)，所述悬臂(23)通过所述第三固定座(5)与所述腔门(12)连接。

4.如权利要求1所述的双腔等离子蚀刻装置，其特征在于，所述控制台(4)统一控制或分别控制两个所述腔体机构(1)。

5.如权利要求1所述的双腔等离子蚀刻装置，其特征在于，所述双腔等离子蚀刻装置包括两个真空泵(6)，两个所述真空泵(6)与两个所述腔体机构(1)对应连接，所述真空泵(6)与所述控制台(4)连接。

6.如权利要求1所述的双腔等离子蚀刻装置，其特征在于，所述双腔等离子蚀刻装置包括模温机(7)，所述模温机(7)与所述腔体(11)连接，所述模温机(7)与所述控制台(4)连接。

【技术特征摘要】

1.一种具有简便自动门的双腔等离子蚀刻装置，其特征在于，包括：

2.如权利要求1所述的双腔等离子蚀刻装置，其特征在于，所述滑轨(14)设置于所述腔门(12)的两侧。

3.如权利要求1所述的双腔等离子蚀刻装置，其特征在于，所述双腔等离子蚀刻装置包括第三固定座(5)，所述悬臂(23)通过所述第三固定座(5)与所述腔门(12)连接。

4.如权利要求1所述的双腔等离子蚀刻装置，其特征在于，所述控制台(4)...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈培峰，靳赵阳，刘庆峰，程凡雄，
申请(专利权)人：扬州国兴技术有限公司，
类型：新型
国别省市：