一种柔性基材镀膜设备及方法技术

本发明专利技术公开了一种柔性基材镀膜设备及方法，属于镀膜设备技术领域，设备包括真空腔体、传动装置和溅射装置，所述传动装置和溅射装置均设置在所述真空腔体中，所述传动装置用于传输基材本体；所述溅射装置包括第一矩形溅射模块、多靶溅射模块和第二矩形溅射模块，三者在所述基材本体的传输路径上依次间隔布置且三者按设定开启对经过的基材本体溅射镀膜。方法包括：放卷，通过传动装置带动基材本体沿传输路径移动；镀膜，按设定开启第一矩形溅射模块、多靶溅射模块和第二矩形溅射模块对经过的所述基材本体镀膜；冷却，贴合基材本体设置液冷装置，对所述基材本体降温。本发明专利技术能够满足更复杂的镀膜需求。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及镀膜设备，具体地说，涉及一种柔性基材镀膜设备及方法。

技术介绍

1、对柔性材料的镀膜通常采用在柔性基材表面通过真空卷绕镀膜技术镀制一层或多层薄膜，按工作原理可分为蒸发卷绕镀膜和磁控溅射卷绕镀膜。采用蒸发镀膜或溅射镀膜等单一方式进行单面镀膜，镀率较慢，生产效率低，无法满足镀制更加复杂薄膜的需求。并且在磁控溅射镀膜的过程中温度高，产生的热量容易导致柔性薄膜炭化、产生褶皱等，从而影响产品良率。

2、目前采用向基材和镀膜鼓之间通气的方式来加强基材的冷却效率，然而镀膜鼓上方敞口处未卷绕基材，通入的气体容易从此处逸散到真空环境中，影响镀膜所需的真空度。因而现有技术中大多采用液冷的方式对基材进行冷却，如公告号为cn213924996u的中国专利文献公开了一种磁控溅射卷绕镀膜设备，包括镀膜室，镀膜室内设有镀膜辊和位于镀膜辊下方的若干个磁控溅射靶，镀膜室内还设有清洁散热机构，清洁散热机构包括毛刷辊、第一清洁辊和第二清洁辊，第一清洁辊和第二清洁辊内分别设有液冷通道，液冷通道内具有流动的冷却液。

3、虽然该专利的镀膜设备采用液冷通道和冷却液本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种柔性基材镀膜设备，包括真空腔体(100)、传动装置和溅射装置，所述传动装置和溅射装置均设置在所述真空腔体(100)中，所述传动装置用于传输基材本体(400)；其特征在于，所述溅射装置包括第一矩形溅射模块(310)、多靶溅射模块(320)和第二矩形溅射模块(330)，三者在所述基材本体(400)的传输路径上依次间隔布置且三者按设定开启对经过的基材本体(400)溅射镀膜。

2.根据权利要求1所述的一种柔性基材镀膜设备，其特征在于，所述第一矩形溅射模块(310)和第二矩形溅射模块(330)关于多靶溅射模块(320)对称设置。

3.根据权利要求1所述的一种柔性基材...

【技术特征摘要】

1.一种柔性基材镀膜设备，包括真空腔体(100)、传动装置和溅射装置，所述传动装置和溅射装置均设置在所述真空腔体(100)中，所述传动装置用于传输基材本体(400)；其特征在于，所述溅射装置包括第一矩形溅射模块(310)、多靶溅射模块(320)和第二矩形溅射模块(330)，三者在所述基材本体(400)的传输路径上依次间隔布置且三者按设定开启对经过的基材本体(400)溅射镀膜。

2.根据权利要求1所述的一种柔性基材镀膜设备，其特征在于，所述第一矩形溅射模块(310)和第二矩形溅射模块(330)关于多靶溅射模块(320)对称设置。

3.根据权利要求1所述的一种柔性基材镀膜设备，其特征在于，所述多靶溅射模块(320)为多靶共焦溅射结构，所述多靶溅射模块(320)包括第一磁控阴极和第二磁控阴极，所述第一磁控阴极包括调节装置和靶头(321)，所述调节装置与靶头(321)连接且用于调节靶头(321)的角度；所述第二磁控阴极的结构与第一磁控阴极相同。

4.根据权利要求3所述的一种柔性基材镀膜设备，其特征在于，所述调节装置包括第一连接座(322)和第二连接座(323)且二者之间通过转轴(324)转动连接，所述靶头(321)安装在第二连接座(323)上；所述第一连接座(322)活动设置有第一连接轴(326)，所述第二连接座(323)活动设置有第二连接轴(327)，所述第一连接轴(326)和第二连接轴(327)之间连接有驱动件(325)，所述驱动件(325)驱动第二连接座(323)围绕转轴(324)偏转。

5.根据权利要求1所述的一种柔性基材镀膜设备，其特征在于，所述第一矩形溅射模块(310)包括阴极模块(311)、调整装置(313)和安装法兰(314)，所述调整装置(313)与安装法兰(314)连接，所述阴极模块(311)与调整装置(313...

【专利技术属性】
技术研发人员：程厚义，丁庆，陈磊，杜寅昌，李玉婷，
申请(专利权)人：合肥致真精密设备有限公司，
类型：发明
国别省市：