用于电化学设备的隔膜处理装置及溅射靶制造方法及图纸

技术编号:44532003 阅读:33 留言:0更新日期:2025-03-07 13:21
本发明专利技术涉及用于电化学设备的隔膜处理装置及溅射靶。本发明专利技术提供了一种用于电化学设备的隔膜处理装置,该隔膜处理装置包括:真空室;基座,其设置在该真空室中并且被配置为允许隔膜安放在该基座上;以及溅射靶,其设置在该真空室上并且包括靶元件和发光元件,这些靶元件和发光元件将被沉积在该隔膜上,由此获得精确检测溅射靶的寿命和溅射靶的更换时间的有利效果。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术的实施方式涉及用于电化学设备的溅射靶及隔膜处理装置,其能够提高稳定性及可靠性,并可准确检测溅射靶的使用寿命及更换溅射靶的时间。


技术介绍

1、存在对替代能源的研究和开发的持续增加的需求,以应对全球变暖和化石燃料的耗尽。作为用于解决环境和能量问题的实际解决方案,氢能量受到关注。

2、特别地,因为氢具有高能量密度和适合于以网格规模应用的性能,所以氢作为未来能量载体是令人关注的。

3、水电解堆(其是电化学装置之一)是指通过电化学分解水来产生氢气和氧气的装置。水电解堆(water electrolysis stack)可以通过串联堆叠几十或几百个水电解堆(单元电池)来配置。

4、膜-电极组件(mea)位于水电解堆的单元电池的最内侧。所述膜电极组件包括能够移动氢离子(质子)的基于全氟化磺酸离聚物的电解质膜,以及分别设置在所述电解质膜的两个相对表面上的阳极和阴极。

5、此外,多孔输送层(ptl)、气体扩散层(gdl)和衬垫可堆叠在其上定位有阳极和阴极的膜电极组件(mea)的每个外部部分(外表面)上。隔膜(或双极本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种用于电化学设备的隔膜处理装置,所述隔膜处理装置包括:

2.根据权利要求1所述的隔膜处理装置,其中所述溅射靶包括:

3.根据权利要求2所述的隔膜处理装置,其中所述溅射靶还包括基底层,并且其中所述发光层堆叠在所述基底层上。

4.根据权利要求1所述的隔膜处理装置,还包括流量控制器,所述流量控制器配置为调节向所述真空室内供给的反应气体的供给流量。

5.根据权利要求4所述的隔膜处理装置,还包括离子束、电子束、磁控管、热蒸发器、电弧发生器或它们的组合。

6.一种用于电化学设备的隔膜处理装置,所述隔膜处理装置包括:

7.根...

【技术特征摘要】

1.一种用于电化学设备的隔膜处理装置,所述隔膜处理装置包括:

2.根据权利要求1所述的隔膜处理装置,其中所述溅射靶包括:

3.根据权利要求2所述的隔膜处理装置,其中所述溅射靶还包括基底层,并且其中所述发光层堆叠在所述基底层上。

4.根据权利要求1所述的隔膜处理装置,还包括流量控制器,所述流量控制器配置为调节向所述真空室内供给的反应气体的供给流量。

5.根据权利要求4所述的隔膜处理装置,还包括离子束、电子束、磁控管、热蒸发器、电弧发生器或它们的组合。

6.一种用于电化学设备的隔膜处理装置,所述隔膜处理装置包括:

7.根据权利要求6所述的隔膜处理装置,其中所述溅射靶包括:

8.根据权利要求7所述的隔膜处理装置,包括:

9.根据权利要求6所述的隔膜处理装置,其中在所述真空室的面向所述隔膜的一个表面上设置有开口部,并且所述溅射靶被配置为覆盖所述开口部。

10.根据权利要求6所述的隔膜处理装置,其中所述靶元件包括贵金属。

11.根据权利要求6所述的隔膜处理装置,其中所述靶元件包括铂、铱和金中的...

【专利技术属性】
技术研发人员:金延洙朴泳俊金正洙李智汉任成云
申请(专利权)人:现代自动车株式会社
类型:发明
国别省市:

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