一种高分辨率图形的制备方法及纳米压印图形母版技术

本申请提供一种高分辨率图形的制备方法及纳米压印图形母版，该制备方法利用深硅刻蚀技术的高选择比、方向性及薄膜沉积工艺的高台阶覆盖的特点，通过在图形间隙内沉积薄膜的方式来减小图形尺寸，从而可以在不需要提高电子束光刻本身分辨率的前提下获得更高分辨率、更小尺寸的纳米压印图形，同时还可以通过修改刻蚀及薄膜沉积的参数，实现对纳米压印母版不同形貌的控制以及母版图形尺寸的缩小或放大，进而得到不同特征尺寸的纳米压印图形。此外，本申请的制备方法中是在不改变掩膜的前提下获得尺寸可调的纳米压印图形，即仅用一个掩膜即可，大大简化了工艺流程，降低成本。

【技术实现步骤摘要】

本申请涉及纳米压印的，特别涉及一种高分辨率图形的制备方法及纳米压印图形母版。

技术介绍

1、纳米压印技术是一种基于微纳米尺度精度的微纳制造技术，它通过将微结构图案压印到基材上，从而实现纳米级别的精度和分辨率，在半导体制造、mems(微机电系统)、生物医学等领域具有广泛的应用前景。纳米压印技术克服了传统光刻工艺在特征尺寸减小方面的困难，在低端光刻制造方面具有低成本、高分辨率、高产率的优势。纳米压印的母版制备离不开例如电子束光刻等的高分辨光刻技术，想要进一步提高纳米压印母版的分辨率，通常情况下所采用的方法是提高电子束光刻本身的分辨率，但提高电子束光刻的分辨率存在着技术制约，难度大、成本高，而且，电子束光刻本身存在曝光时间长、价格昂贵以及临近效应等不足，制约着纳米压印技术的进一步发展、普及。

2、因此，如何在不提高电子束光刻本身分辨率的情况下获得高分辨率、更小尺寸的纳米压印母版是本领域技术人员亟待解决的问题。

技术实现思路

1、有鉴于此，本申请提供一种高分辨率图形的制备方法及纳米压印图形母版，可有效解决本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种高分辨率图形的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

2.如权利要求1所述的高分辨率图形的制备方法，其特征在于，所述钝化层(18)采用二氧化硅或氮化硅材质。

3.如权利要求1所述的高分辨率图形的制备方法，其特征在于，所述钝化层(18)的沉积方式包括低压力化学气相沉积法、热氧化法、原子层沉积法或等离子体增强化学气相沉积法。

4.如权利要求1所述的高分辨率图形的制备方法，其特征在于，所述软膜(24)为柔性透明材料。

5.一种高分辨率图形的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

6.如权利要求5所述的高分辨率图形的制备方法，其特征...

【技术特征摘要】

1.一种高分辨率图形的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

2.如权利要求1所述的高分辨率图形的制备方法，其特征在于，所述钝化层(18)采用二氧化硅或氮化硅材质。

3.如权利要求1所述的高分辨率图形的制备方法，其特征在于，所述钝化层(18)的沉积方式包括低压力化学气相沉积法、热氧化法、原子层沉积法或等离子体增强化学气相沉积法。

4.如权利要求1所述的高分辨率图形的制备方法，其特征在于，所述软膜(24)为柔性透明材料。

5.一种高分辨率图形的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

6.如权利要求5所述的高分辨率图形的制备方法，其特征在于，所述步骤h400还包括：通过反应性离子刻蚀的方法去除所述钝化层(18)...

【专利技术属性】
技术研发人员：张子安，黄兆兴，
申请(专利权)人：烟台齐新半导体技术研究院有限公司，
类型：发明
国别省市：