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本申请提供一种高分辨率图形的制备方法及纳米压印图形母版，该制备方法利用深硅刻蚀技术的高选择比、方向性及薄膜沉积工艺的高台阶覆盖的特点，通过在图形间隙内沉积薄膜的方式来减小图形尺寸，从而可以在不需要提高电子束光刻本身分辨率的前提下获得更高分辨...
该专利属于烟台齐新半导体技术研究院有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过烟台齐新半导体技术研究院有限公司授权不得商用。

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