一种有机清洗设备制造技术

本技术涉及晶圆清洗的技术领域，公开了一种有机清洗设备，包括机壳，机壳内设置清洗腔，清洗腔内设置清洗底板，清洗底板上设置多个药液槽和水槽，药液槽和水槽两侧均固定设有支架，药液槽和水槽底部均设有排水口，机壳外侧面设置多个按钮，多个按钮分别与对应药液槽和对应水槽电性连接，药液槽和水槽下方设有出水口，出水口与后方排水管连接，排水管上方设置电控区。本技术中，通过超声振子和药液的配合去除晶圆上的残留胶；排风板在限位板内滑动和风阀配合用于调节风量的大小和开关，可以确保将有害气体及时排出，降低操作人员的暴露风险，同时可以根据实际需要调整排风量，降低能耗，减少对环境的能源消耗和排放。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及晶圆清洗的，尤其涉及一种有机清洗设备。

技术介绍

1、晶圆在光刻后，会有药液和光刻胶的残留，现有的除胶设备清除效果不佳，且清洗时间长，除胶效果不彻底，可能会导致光刻胶或者除胶剂的残留物留在晶圆表面，影响后续工艺步骤的进行，甚至影响器件的性能，除胶过程中使用的化学剂可能对环境造成污染，如果处理不当可能会对工作环境和员工健康造成影响，因此，针对上述问题，提出一种有机清洗设备。

技术实现思路

1、为实现上述目的，本技术提供了如下技术方案：一种有机清洗设备，包括机壳，所述机壳内设置清洗腔，所述清洗腔内设置清洗底板，所述清洗底板上设置多个药液槽和水槽，所述药液槽和所述水槽两侧均固定设有支架，所述药液槽和所述水槽底部均设有排水口，所述机壳外侧面设置多个按钮，多个所述按钮分别与对应所述药液槽和对应所述水槽电性连接，所述药液槽和所述水槽下方设有出水口，所述出水口与后方排水管连接，所述排水管上方设置电控区。

2、进一步地，所述药液槽下端中心位置设置超声振子。

3、进一步地，所述清洗腔内两侧设置本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种有机清洗设备，其特征在于：包括机壳(1)，所述机壳(1)内设置清洗腔(2)，所述清洗腔(2)内设置清洗底板(3)，所述清洗底板(3)上设置多个药液槽(4)和水槽(5)，所述药液槽(4)和所述水槽(5)两侧均固定设有支架(6)，所述药液槽(4)和所述水槽(5)底部均设有排水口(7)，所述机壳(1)外侧面设置多个按钮(8)，多个所述按钮(8)分别与对应所述药液槽(4)和对应所述水槽(5)电性连接，所述药液槽(4)和所述水槽(5)下方设有出水口(9)，所述出水口(9)与后方排水管(10)连接，所述排水管(10)上方设置电控区(11)。

2.根据权利要求1所述的一种有机清洗设...

【技术特征摘要】

1.一种有机清洗设备，其特征在于：包括机壳(1)，所述机壳(1)内设置清洗腔(2)，所述清洗腔(2)内设置清洗底板(3)，所述清洗底板(3)上设置多个药液槽(4)和水槽(5)，所述药液槽(4)和所述水槽(5)两侧均固定设有支架(6)，所述药液槽(4)和所述水槽(5)底部均设有排水口(7)，所述机壳(1)外侧面设置多个按钮(8)，多个所述按钮(8)分别与对应所述药液槽(4)和对应所述水槽(5)电性连接，所述药液槽(4)和所述水槽(5)下方设有出水口(9)，所述出水口(9)与后方排水管(10)连接，所述排水管(10)上方设置电控区(11)。

2.根据权利要求1所述的一种有机清洗设备，其特征在于：所述药液槽(4)下端中心位置设置超声振子(12)。

3.根据权利要求1所述的一种有机清洗设备，其特征在于：所述清洗腔(2)内两侧设置清洗...

【专利技术属性】
技术研发人员：李川，王从好，胡春波，
申请(专利权)人：昆山宜昊设备科技有限公司，
类型：新型
国别省市：