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本技术涉及晶圆清洗的技术领域，公开了一种有机清洗设备，包括机壳，机壳内设置清洗腔，清洗腔内设置清洗底板，清洗底板上设置多个药液槽和水槽，药液槽和水槽两侧均固定设有支架，药液槽和水槽底部均设有排水口，机壳外侧面设置多个按钮，多个按钮分别与对应...
该专利属于昆山宜昊设备科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过昆山宜昊设备科技有限公司授权不得商用。

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