【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种光学元件，尤其涉及一种晶圆级(wafer level)遮光片阵列、遮光 片阵列的制造方法及具有该遮光片阵列的镜头模组阵列。
技术介绍
一般的镜头模组主要包括镜片组、容纳镜片组的镜筒、影像感测器和镜座，影像感 测器设置在镜座内，镜座容纳可旋转的镜筒。但是，该镜头模组一般体积较大。随着摄像技术的发展，镜头模组与各种便携式电子装置如手机、摄像机、电脑等的 结合，更是得到众多消费者的青睐，所以市场对小型化镜头模组的需求增加。目前小型化镜头模组多采用晶圆级镜片，其一般是利用精密模具制造出微型镜片 阵列，然后与硅晶圆制成的影像感测器电连接、封装，然后切割，得到的每一小单元都是一 个晶圆级的相机模组。然而，部分入射光线并非直接通过折射后进入影像感测器，而是在各 晶圆级镜片的表面经过多次反射后进入影像感测器，从而形成眩光，造成影像模糊，眩光的 存在严重影响了所拍摄影像的品质。
技术实现思路
有鉴于此，有必要提供一种能减少/消除眩光的遮光片阵列、一种制造该遮光片 阵列的方法及具有该镜头模组阵列。一种遮光片阵列包括一块透光平板。该透光平板具有多个间隔分布的透光区及在 ...
【技术保护点】
一种遮光片阵列，其包括一块透光平板，其特征在于，该透光平板具有多个间隔分布的透光区及在该透光区周围的粗糙区，该透光区为实心透光体，其具有两个相对且平行的表面，该遮光片阵列还包括设于该粗糙区的遮光层。
【技术特征摘要】
一种遮光片阵列，其包括一块透光平板，其特征在于，该透光平板具有多个间隔分布的透光区及在该透光区周围的粗糙区，该透光区为实心透光体，其具有两个相对且平行的表面，该遮光片阵列还包括设于该粗糙区的遮光层。2.如权利要求1所述的遮光片阵列，其特征在于该粗糙区具有相对的第一表面和第 二表面，该第一表面为粗糙面，该遮光层至少设于该第一表面与该第二表面中的一个面。3.如权利要求1所述的遮光片阵列，其特征在于该多个透光区呈阵列式排布。4.如权利要求1所述的遮光片阵列，其特征在于该粗糙区设有至少两个贯穿该透光 平板及该遮光层的对位孔。5.如权利要求1所述的遮光片阵列，其特征在于该遮光片阵列进一步包括设于该透 光区的表面的滤光层。6.一种遮光片阵列的制造方法，其包括以下步骤提供一块透光平板；于该透光平板的表面设置光阻层；对该光阻层曝光显影，以保留该光阻层的多个间隔分布的预留部分；对该光阻层的预留部分周围的透光平板的表面进行粗糙化处理，以使其成为粗糙面；于该粗糙面形成遮光层...
【专利技术属性】
技术研发人员：洪新钦，
申请(专利权)人：鸿富锦精密工业深圳有限公司，鸿海精密工业股份有限公司，
类型：发明
国别省市：94[中国|深圳]
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