【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于半导体,更具体地说,是涉及一种遮挡盘检测装置及物理气相沉积设备。
技术介绍
1、物理气相沉积(pvd)是指在真空条件下,采用低电压、大电流的电弧放电技术,利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离,利用电场的加速作用,使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上。沉积技术是半导体工业中最广为使用的一类薄膜制造技术,泛指采用物理方法制备薄膜的薄膜制备工艺。物理气相沉积技术可应用于很多工艺领域,如晶圆厂的互连线制备、电极制备、掩膜制备;封装厂的再分布线制备、焊球下窗口层薄膜制备等。
2、在pvd设备中,由于工艺需求,工艺腔室在长时间不使用的情况下,需要将靶材进行清洁,清除靶材表面的氧化层。清洁方式就是将靶材加上400v的电压将靶材表面的氧化物通过这种方式变成游离态,此时为了保持腔室清洁,就需要在腔体下表面放置一个可以完全覆盖的遮挡物,来承接从靶材上分解出来的游离态氧化物。目前,pvd设备一般包括工艺腔室和与工艺腔室连通的存放库,其中,存放库内设置有遮挡盘和传输组件,当需要在基座上方与存放库之间转移遮挡盘时,可以采
...【技术保护点】
1.一种遮挡盘检测装置,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的遮挡盘检测装置,其特征在于,所述检测组件还包括第二传感器组,所述第二传感器组用于检测存放腔室内的承载臂,所述承载臂用于承载所述遮挡盘,并在存放腔室及工艺腔室内传输所述遮挡盘;
3.根据权利要求2所述的遮挡盘检测装置,其特征在于,所述控制器还用于控制所述第一驱动机构驱动所述第一传感器组由所述第一检测位置至所述第二检测位置移动并实时检测。
4.根据权利要求2所述的遮挡盘检测装置,其特征在于,所述第一驱动机构包括第一驱动装置和第一传动组件,所述第一传动组件与所述第一传感器
...【技术特征摘要】
1.一种遮挡盘检测装置,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的遮挡盘检测装置,其特征在于,所述检测组件还包括第二传感器组,所述第二传感器组用于检测存放腔室内的承载臂,所述承载臂用于承载所述遮挡盘,并在存放腔室及工艺腔室内传输所述遮挡盘;
3.根据权利要求2所述的遮挡盘检测装置,其特征在于,所述控制器还用于控制所述第一驱动机构驱动所述第一传感器组由所述第一检测位置至所述第二检测位置移动并实时检测。
4.根据权利要求2所述的遮挡盘检测装置,其特征在于,所述第一驱动机构包括第一驱动装置和第一传动组件,所述第一传动组件与所述第一传感器组相连,所述第一驱动装置用于驱动所述第一传动组件带动所述第一传感器组移动;
5.根据权利要求4所述的遮挡盘检测装置,其特征在于,所述第一传感器组和所述第二传感器组分别沿直线移动。
6.根据权利要求5所述的遮挡盘检测装置,其特征在于,所述第一传...
【专利技术属性】
技术研发人员:霍立宁,金洲,李晓雅,
申请(专利权)人:盛吉盛宁波半导体科技有限公司,
类型:发明
国别省市:
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