【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于一种用于300mm硅片热处理的氧化炉设备,具体的是一种用于300mm硅片氧化处理的立式氧化炉中石英舟旋转装置。
技术介绍
氧化炉是给硅片进行氧化、退火等热处理工艺的半导体设备,现用的氧化炉,大都 是卧式结构,其温度均勻性及控温精度不够理想,操作和控制不够精确灵活,自动化程度 低、生产效率和产品质量不够高,不能适应300mm硅片的生产需求。因此,需要提出一种结 构改进的立式氧化炉。在此前的立式氧化炉的石英舟升降机构上,石英舟在工艺过程中是 不带旋转的,石英舟在升降机构上只做上升、下降运动,造成硅片表面的温度、气体浓度均 不够均勻,影响产品质量。在300mm硅片生产线上影响尤为严重。因此,需要对其进行改进。
技术实现思路
本技术的目的是为了解决上述技术问题,提出一种300mm立式氧化炉石英舟 旋转装置,该装置结构科学、设计新颖、完善适用,位置控制灵活精确,有力地改善了硅片表 面的温度及气体的均勻性状态,大大提高了硅片氧化膜的质量。本专利技术的目的是通过以下技术方案来实现的300mm立式氧化炉石英舟旋转装 置,其特征在于设有步进电机,在石英舟的下方设有SiC转盘,在该SiC盘的底部中央设有 固定轴,固定轴的下端设有带轮,该带轮通过传动带与步进电机传动连接,做工艺时,SiC转 盘与保温筒连接,带动保温桶及舟旋转,传递扭矩;在所述固定轴的下部设有舟旋转定位装 置,控制舟的精确位置;在固定轴的上部设有包裹在固定轴外围的密封腔,密封腔设有氮气 进、出气管与外面氮气气源连通,一定流量的高纯氮气通过密封腔,使其压力大于工艺腔的 工艺气体,实现旋转密封;在所述Si ...
【技术保护点】
一种300mm立式氧化炉石英舟旋转装置,其特征在于:设有步进电机(2),在石英舟的下方设有SiC转盘(1),在该SiC盘的底部中央设有固定轴(1.1),固定轴的下端设有带轮(1.2),该带轮通过传动带(2.1)与步进电机传动连接;在所述固定轴的下部设有舟旋转定位装置(3),在固定轴的上部设有包裹在固定轴外围的密封腔(4),密封腔设有氮气进、出气管(4.1)与外面氮气气源连通;在所述SiC转盘的下面设有炉门(5),在该炉门中设有水冷却腔(5.1),炉门底部固定设有轴罩(5.2),该轴罩包覆在密封腔的外面,并在轴罩的底端与所述SiC转盘的固定轴之间设有密封环(5.3);在炉门下面设有数个缓冲器(6),该缓冲器为圆柱体,圆柱体里面垂直设有顶柱(6.1),在该顶柱下面设有压簧(6.2);在炉门四周下面还设有密封挡板(7)。
【技术特征摘要】
一种300mm立式氧化炉石英舟旋转装置,其特征在于设有步进电机(2),在石英舟的下方设有SiC转盘(1),在该SiC盘的底部中央设有固定轴(1.1),固定轴的下端设有带轮(1.2),该带轮通过传动带(2.1)与步进电机传动连接;在所述固定轴的下部设有舟旋转定位装置(3),在固定轴的上部设有包裹在固定轴外围的密封腔(4),密封腔设有氮气进、出气管(4.1)与外...
【专利技术属性】
技术研发人员:钟华,赵星梅,董金卫,王喆,赛义德赛迪,
申请(专利权)人:北京七星华创电子股份有限公司,
类型:发明
国别省市:11[中国|北京]
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