一种光学测量装置制造方法及图纸

一种光学测量装置，适用于测量待测微纳米薄膜，待测微纳米薄膜包括透明部分和非透明部分，光学测量装置包括：样品台，适用于容纳待测微纳米薄膜；光产生组件，适用于发出测量光；透镜组件，适用于使测量光聚焦至待测微纳米薄膜表面的目标位置，透镜组件包括：第一部分和第二部分，每个区域仅允许测量光中具有相应数值孔径的光束通过；测量光中的第一光束通过第一部分，测量光中的第二光束通过第二部分，第一光束的第一数值孔径小于第二光束的第二数值孔径；第一部分被配置为消除第一光束的色差，第二部分被配置为使第二光束具有色差；检测组件，适用于对来自于待测微纳米薄膜表面的光束进行测量。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及光学测量领域，特别涉及一种光学测量装置。

技术介绍

1、微机电系统（mems）器件功能结构复杂，通常含有微纳米厚度薄膜结构，这些薄膜的横向尺寸在微米量级。微机电系统（mems）器件中的薄膜可能为由金属、介质、高分子等组成的透明或非透明材料，且在同一个功能结构上可能同时存在一种或多种材料构成的薄膜。为提高mems器件产品良率，保证生产效益，需要准确测量薄膜中非透明部分的三维形貌或透明部分的厚度分布，以控制薄膜结构制造工艺质量，实现mems器件功能结构的设计性能指标。但是现有技术中没有能够同时适合透明结构和非透明结构的测量方法。

技术实现思路

1、鉴于上述技术问题，本专利技术提供了一种光学测量装置，以实现微纳米薄膜的测量。

2、作为本专利技术的一个方面，提供了一种光学测量装置，适用于测量待测微纳米薄膜，所述待测微纳米薄膜包括透明部分和非透明部分，所述光学测量装置包括：

3、样品台，适用于容纳待测微纳米薄膜；

4、光产生组件，适用于发出测量光；</p>

5、透镜本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种光学测量装置，适用于测量待测微纳米薄膜，所述待测微纳米薄膜包括透明部分和非透明部分，所述光学测量装置包括：

2.根据权利要求1所述的光学测量装置，其中，所述第一光束垂直入射至所述目标位置。

3.根据权利要求2所述的光学测量装置，其中，所述透镜组件组件为超透镜或者所述透镜组件由消色差透镜和非消色差透镜组成。

4.根据权利要求3所述的光学测量装置，其中，

5.根据权利要求1所述的光学测量装置，其中，所述检测组件包括：

6.根据权利要求5所述的光学测量装置，其中，所述检测组件还包括：

7.根据权利要求1所述的光学测...

【技术特征摘要】

1.一种光学测量装置，适用于测量待测微纳米薄膜，所述待测微纳米薄膜包括透明部分和非透明部分，所述光学测量装置包括：

2.根据权利要求1所述的光学测量装置，其中，所述第一光束垂直入射至所述目标位置。

3.根据权利要求2所述的光学测量装置，其中，所述透镜组件组件为超透镜或者所述透镜组件由消色差透镜和非消色差透镜组成。

4.根据权利要求3所述的光学测量装置，其中，

5....

【专利技术属性】
技术研发人员：霍树春，姜行健，李冠楠，陈晓梅，石俊凯，董登峰，周维虎，
申请(专利权)人：中国科学院微电子研究所，
类型：发明
国别省市：