【技术实现步骤摘要】
本技术涉及半导体加工，尤其涉及一种喷淋机构及化学气相沉积设备。
技术介绍
1、金属有机化学气相沉积(简称mocvd)是将金属有机化合物与其余反应气体输入反应腔，在高温的作用下进行热分解反应方式并最终在衬底上形成半导体薄膜的一种技术，一般将以这种方式形成的薄膜称为外延层。
2、在化学气相沉积设备中，喷淋头起到将不同种类的反应气体输送进反应腔的作用。且由于衬底表面反应气体的浓度梯度会影响到外延层的均匀性，所以喷淋头一般同时具有将不同种类的反应气体均匀分散至衬底表面的作用。
3、现有技术中，气体由单一方向的进气孔，直接输送至气体腔，再由毛细管输送至衬底的表面。但是，反应气体由单一方向进入气体腔后，气体腔内的反应气体浓度不均匀，造成输送至衬底表面的气体浓度不均匀，进而导致外延层厚度不均，影响产品质量。
4、基于此，亟需一种喷淋机构及化学气相沉积设备，以解决上述存在的问题。
技术实现思路
1、基于以上所述，本技术的目的在于提供一种喷淋机构及化学气相沉积设备，提高输...
【技术保护点】
1.一种喷淋机构，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的喷淋机构，其特征在于，所述上盖组件(1)还包括第二环形槽(12)，所述第二环形槽(12)一端连通于所述第一进气孔(11)，另一端连通于所述第二进气孔(21)，所述第二进气孔(21)为多个，多个所述第二进气孔(21)沿周向间隔设置于所述第二环形槽(12)的一端。
3.根据权利要求2所述的喷淋机构，其特征在于，所述第二进气孔(21)为两个，两个所述第二进气孔(21)相对所述第二环形槽(12)的轴线对称设置，两个所述第二进气孔(21)的轴线与所述第二环形槽(12)的轴线设置于第一平面内，所...
【技术特征摘要】
1.一种喷淋机构，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的喷淋机构，其特征在于，所述上盖组件(1)还包括第二环形槽(12)，所述第二环形槽(12)一端连通于所述第一进气孔(11)，另一端连通于所述第二进气孔(21)，所述第二进气孔(21)为多个，多个所述第二进气孔(21)沿周向间隔设置于所述第二环形槽(12)的一端。
3.根据权利要求2所述的喷淋机构，其特征在于，所述第二进气孔(21)为两个，两个所述第二进气孔(21)相对所述第二环形槽(12)的轴线对称设置，两个所述第二进气孔(21)的轴线与所述第二环形槽(12)的轴线设置于第一平面内，所述第一进气孔(11)的轴线与所述第二环形槽(12)的轴线设置于第二平面内，所述第一平面垂直于所述第二平面。
4.根据权利要求1所述的喷淋机构，其特征在于，所述上盖组件(1)包括顶盖(13)，所述顶盖(13)连接于所述喷淋组件(2)背离所述第一毛细管(3)的一侧；所述顶盖(13)和所述喷淋组件(2)之间形成第二气体腔室(14)，所述第二气体腔室(14)远离所述喷淋组件(2)的一端的中心设置有第五进气孔(131)，所述喷淋组件(2)的喷淋侧安装有多个与所述第二气体腔室(14)连通的第二毛细管(4)；所述第五进气孔(131)、所述第二气体腔室(14)和所述第二毛细管(4)依次连通形成第二气体通道。
5.根据权利要求4所述的喷淋机构，其特征在于，所述上盖组件(1)还包括匀流环(15)，所述匀流环(15)设置有连接管部(151)和匀流部(152)，所述连接管部(151)连接于所述第五进气孔(131)，所述匀流部(152)位于所述第二气体腔室(14)内，所述匀流部(152)设置有匀流腔(1521)，所述匀流腔(...
【专利技术属性】
技术研发人员：傅林坚，刘毅，曹建伟，朱亮，鲁冲昊，朱亿江，
申请(专利权)人：浙江求是半导体设备有限公司，
类型：新型
国别省市：
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