一种蒸镀设备及导流板开孔方法技术

本发明专利技术公开了一种蒸镀设备及导流板开孔方法，涉及蒸镀技术领域。该蒸镀设备包括设备主体、源罩壳、导流板、蒸发源及调节机构，设备主体具有蒸镀腔，蒸镀腔内设置有蒸镀基底；导流板与源罩壳连接并共同围成混合腔，蒸发源处于混合腔内，导流板与蒸镀基底相对设置，且导流板上贯穿设置有将混合腔与蒸镀腔连通的导流孔；调节机构与导流板传动连接，用于驱动导流板在靠近或远离蒸镀基底的方向上运动。本发明专利技术提供的蒸镀设备的蒸镀效果可控，能适应不同的蒸镀需求。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及蒸镀，具体而言，涉及一种蒸镀设备及导流板开孔方法。

技术介绍

1、蒸镀设备广泛应用于镀膜工艺，其通过加热蒸发源，使得蒸发源中的蒸发材料蒸发或者升华形成气化物质，气化物质被蒸发源释放后，在真空的蒸镀室内运动至蒸镀基底表面并完成沉积，形成膜层。

2、目前，市面上的蒸镀设备，由于蒸发源释放出的气化物质在蒸镀室内弥散分布，导致包括沉积效率、沉积均匀性在内的蒸镀效果不可控，并且蒸镀效果基本固定，难以满足不同的蒸镀需求。

技术实现思路

1、本专利技术的目的在于提供一种蒸镀设备，其蒸镀效果可控，能适应不同蒸镀需求。

2、本专利技术的另一目的在于提供一种导流板开孔方法，其能够制备得到导流均匀性更好的导流板。

3、本专利技术的实施例提供一种技术方案：

4、一种蒸镀设备，包括设备主体、源罩壳、导流板、蒸发源及调节机构，所述设备主体具有蒸镀腔，所述蒸镀腔内设置有蒸镀基底；

5、所述导流板与所述源罩壳连接并共同围成混合腔，所述蒸发源处于所述混合腔内，所述导流板本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种蒸镀设备，其特征在于，包括设备主体(110)、源罩壳(120)、导流板(130)、蒸发源(140)及调节机构(150)，所述设备主体(110)具有蒸镀腔(111)，所述蒸镀腔(111)内设置有蒸镀基底(200)；

2.根据权利要求1所述的蒸镀设备，其特征在于，所述源罩壳(120)包括底座(121)及中框(122)，所述中框(122)罩设于所述底座(121)上且顶端敞开，所述导流板(130)与所述中框(122)连接并封盖所述中框(122)的顶端；

3.根据权利要求2所述的蒸镀设备，其特征在于，所述底座(121)具有在竖直方向上延伸的限位侧壁(1211)，所述...

【技术特征摘要】

1.一种蒸镀设备，其特征在于，包括设备主体(110)、源罩壳(120)、导流板(130)、蒸发源(140)及调节机构(150)，所述设备主体(110)具有蒸镀腔(111)，所述蒸镀腔(111)内设置有蒸镀基底(200)；

2.根据权利要求1所述的蒸镀设备，其特征在于，所述源罩壳(120)包括底座(121)及中框(122)，所述中框(122)罩设于所述底座(121)上且顶端敞开，所述导流板(130)与所述中框(122)连接并封盖所述中框(122)的顶端；

3.根据权利要求2所述的蒸镀设备，其特征在于，所述底座(121)具有在竖直方向上延伸的限位侧壁(1211)，所述中框(122)罩设于所述限位侧壁(1211)的外侧，所述限位侧壁(1211)用于引导所述中框(122)沿竖直方向运动。

4.根据权利要求3所述的蒸镀设备，其特征在于，所述限位侧壁(1211)与所述中框之间设置有密封垫(123)，以用于密封所述限位侧壁(1211)与所述中框(122)的内表面之间的间隙。

5.根据权利要求1所述的蒸镀设备，其特征在于，所述蒸镀腔(111)内设置有遮挡板(113)及调节支架(114)，所述遮挡板(113)通过所述调节支架(114)与所述蒸镀腔(111)的连接，所述安装部(112)设置于所述遮挡板(113)上，所述调节支架(114)用于带动所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：张伟明，汪若凯，
申请(专利权)人：上海盛剑科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：