【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及半导体器件,特别是涉及一种线性度提高的氮化镓器件及其制备方法。
技术介绍
1、随着无线通讯市场的不断发展和军事国防领域的进步,对微波功率器件性能的要求也日益提高,这推动了微波功率器件的快速发展。第三代半导体材料,如氮化镓(gan)和碳化硅(sic),在这一进程中发挥着重要作用,展现出卓越的大功率应用特性。氮化镓(gan)具有禁带宽度大、高电子饱和速率、耐高压、耐高温和热稳定性好等出色的物理特性。它被认为是应用于高压、高频、高温和抗辐射等领域的理想材料。在光电子、高温大功率器件以及射频微波器件应用等领域,氮化镓都有着广阔的前景。
2、氮化镓高电子迁移率场效应管(gan hemt)器件的跨导(gm)随栅极电压(vgs)变化曲线如附图1所示,随着vgs增加,gm会先上升后下降。跨导(gm)表示的是输出端电流变化与输入端电压变化之间的关系。功率放大器(pa)的非线性性质导致一系列问题,比如频谱泄露、输出功率过早饱和和信号失真,这些问题不仅影响系统性能,还增加了系统设计的难度。此外,在无线通讯领域的音视频文件传输过程中,
...【技术保护点】
1.一种线性度提高的氮化镓器件,其特征在于,所述线性度提高的氮化镓器件从上至下依次包括如下结构:电极延伸部分、V型结构和基底结构;
2.根据权利要求1所述线性度提高的氮化镓器件,其特征在于,所述第一缓冲层和第二缓冲层的材料均为m晶面GaN材料。
3.根据权利要求1所述线性度提高的氮化镓器件,其特征在于,所述源极和相邻的栅极的一端的源栅空隙的长度为1-3um。
4.根据权利要求3所述线性度提高的氮化镓器件,其特征在于,所述漏极和相邻的栅极的一端的漏栅空隙的长度为3-6um。
5.根据权利要求4所述线性度提高的氮化镓器件,其
...【技术特征摘要】
1.一种线性度提高的氮化镓器件,其特征在于,所述线性度提高的氮化镓器件从上至下依次包括如下结构:电极延伸部分、v型结构和基底结构;
2.根据权利要求1所述线性度提高的氮化镓器件,其特征在于,所述第一缓冲层和第二缓冲层的材料均为m晶面gan材料。
3.根据权利要求1所述线性度提高的氮化镓器件,其特征在于,所述源极和相邻的栅极的一端的源栅空隙的长度为1-3um。
4.根据权利要求3所述线性度提高的氮化镓器件,其特征在于,所述漏极和相邻的栅极的一端的漏栅空隙的长度为3-6um。
5.根据权利要求4所述线性度提高的氮化镓器件,其特征在于,所述漏栅空隙的长度大于所述源栅空隙的长度。
...
【专利技术属性】
技术研发人员:于洪宇,王沛然,汪青,何佳琦,邓宸凯,樊涤非,陶赓名,
申请(专利权)人:南方科技大学,
类型:发明
国别省市:
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