【技术实现步骤摘要】
本申请主要涉及三维打印领域，尤其涉及一种校正方法。
技术介绍
1、目前三维打印技术的成型方式仍在不断演变，所使用的材料也多种多样。在各种成型方式中，光固化法是较为成熟的方式。光固化法是利用光固化树脂被紫外光照射后发生固化的原理，进行材料累加成型，具有成型精度高、表面光洁度好、材料利用率高等特点。然而在打印过程中，现有技术依赖ccd光学图像检测，其分辨率受制于ccd相机，校正后仍然存在校正时难以识别的细条纹。尤其在进行微纳打印时，由于微纳投影图像尺寸小，透明光敏树脂材料透射深度大，且透射深度随光强变化剧烈，均匀性对打印尺寸的影响远高于传统非透明光敏树脂材料。现有基于ccd的光学图像校正精度受ccd的均匀性与动态范围影响大，难以满足超精密透明微纳光敏树脂材料的三维打印需求。
技术实现思路
1、本申请要解决的技术问题是提供一种满足超精密透明微纳光敏树脂材料的三维打印需求的三维打印校正方法。
2、为解决上述技术问题，本申请提出一种校正方法，适于对三维打印模型的单层结构的均匀一致性进行校...
【技术保护点】
1.一种校正方法，适于对三维打印模型的单层结构的均匀一致性进行校正，其特征在于，所述校正方法包括如下步骤：
2.如权利要求1所述的校正方法，其特征在于，根据多个所述固化深度的一致性调整各个像素位置对应的光强包括：通过梯度下降法调整所述光强。
3.如权利要求1所述的校正方法，其特征在于，对所述单层结构进行全幅面投影包括：使用亚像素微扫描技术对所述单层结构进行全幅面投影。
4.如权利要求1所述的校正方法，其特征在于，所述像素位置对应的每个像素的尺寸小于等于1μm。
5.如权利要求1所述的校正方法，其特征在于，打印得到单层模型...
【技术特征摘要】
1.一种校正方法，适于对三维打印模型的单层结构的均匀一致性进行校正，其特征在于，所述校正方法包括如下步骤：
2.如权利要求1所述的校正方法，其特征在于，根据多个所述固化深度的一致性调整各个像素位置对应的光强包括：通过梯度下降法调整所述光强。
3.如权利要求1所述的校正方法，其特征在于，对所述单层结构进行全幅面投影包括：使用亚像素微扫描技术对所述单层结构进行全幅面投影。
4.如权利要求1所述的校正方法，其特征在于，所述像素位置对应的每个像素的尺寸小于等于1μm。
5.如权利要求1所述的校正方法，其特征在于，打印得到单层模型所用到的打印材料的透射深度大于等于1mm。
6.如权利要求1所述的校正方法，其特征在于，采集所述单层模型在所述投影平面内各个像素位置的固化深度包括...
【专利技术属性】
技术研发人员：闵歆，赵阳，刘杰，侯锋，王继东，汪春雷，
申请(专利权)人：上海普利生三维科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。