【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及清洗装置，更具体地说，它涉及一种用于光刻胶生产的清洁装置。
技术介绍
1、光刻胶又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、x射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。由感光树脂、增感剂和溶剂三种主要成分组成的对光敏感的混合液体。在光刻工艺过程中，用作抗腐蚀涂层材料。半导体材料在表面加工时，若采用适当的有选择性的光刻胶，可在表面上得到所需的图像。
2、目前，在光刻胶的生产工艺流程中，需要对经过精准比例调配后的原料进行均匀混合处理，在此过程中一般会使用到专门的调配釜，而调配釜在使用完后，需要对其内部进行清洁，以便于下次使用；传统的清洁方式是使用清洁装置进行清洁，其清洁过程为，先将调配釜的顶盖拆卸下来，之后把清洁装置安装在调配釜体的顶部，再对调配釜内部进行清洁，清洁完成后，再将清洁装置拆卸下来，再次安装调配釜顶盖安装上去，整个清洁过程中，操作较为繁琐，工作量较大，导致清洁速度缓慢，不利于对多个调配釜进行清洁操作。
技术实现思路
1、本专利技术的目的在...
【技术保护点】
1.一种用于光刻胶生产的清洁装置，包括：清洗机主体（4）和清洗机构（5），其特征在于，所述清洗机构（5）包括冲洗部件（51）、连接部件（52）和刮动部件（53），所述冲洗部件（51）设置在搅拌轴（2）内，其用于将清洗剂喷洒在调配釜主体（1）内壁上；所述连接部件（52）用于将搅拌电机（8）的转动端与搅拌轴（2）的上端传动连接在一起，其内部与冲洗部件（51）上端活动连通；所述刮动部件（53）设置在搅拌叶（3）内，其用于对调配釜主体（1）的内壁进行刮动清洁；所述刮动部件（53）与冲洗部件（51）下端连通，清洗剂由冲洗部件（51）进入到刮动部件（53）内后，驱动刮动部件（53...
【技术特征摘要】
1.一种用于光刻胶生产的清洁装置，包括：清洗机主体（4）和清洗机构（5），其特征在于，所述清洗机构（5）包括冲洗部件（51）、连接部件（52）和刮动部件（53），所述冲洗部件（51）设置在搅拌轴（2）内，其用于将清洗剂喷洒在调配釜主体（1）内壁上；所述连接部件（52）用于将搅拌电机（8）的转动端与搅拌轴（2）的上端传动连接在一起，其内部与冲洗部件（51）上端活动连通；所述刮动部件（53）设置在搅拌叶（3）内，其用于对调配釜主体（1）的内壁进行刮动清洁；所述刮动部件（53）与冲洗部件（51）下端连通，清洗剂由冲洗部件（51）进入到刮动部件（53）内后，驱动刮动部件（53）向调配釜主体（1）的内壁滑动靠近，并向上翻转展开与调配釜主体（1）的内壁贴合；
2.根据权利要求1所述的用于光刻胶生产的清洁装置，其特征在于，所述冲洗部件（51）包括上进液管道（511）、下输液管道（512）、摆动驱动件和若干喷洒头（513），搅拌轴（2）内开设有活动槽（7），所述上进液管道（511）、下输液管道（512）和摆动驱动件均设置在所述活动槽（7）内，所述上进液管道（511）的上端向上贯穿搅拌轴（2）上端后，与连接部件（52）内部滑动连接，所述上进液管道（511）的上端设有进液槽体（514）；
3.根据权利要求2所述的用于光刻胶生产的清洁装置，其特征在于，所述摆动驱动件包括齿条（515）和摆动齿轮（516），所述齿条（515）和摆动齿轮（516）的数量与喷洒头（513）的数量相同，所述齿条（515）的上端与上进液管道（511）的下端固定连接，所述摆动齿轮（516）固定安装在喷洒头（513）的转动端，其一侧与齿条（515）相啮合。
4.根据权利要求3所述的用于光刻胶生产的清洁装置，其特征在于，所述连接部件（52）包括支撑座（521）、进液筒体（522）、第一限位柱（523）和第二限位柱（524），所述支撑座（521）固定安装在调配釜主体（1）的顶部，所述进液筒体（522）的上端与搅拌电机（8）的转动端固定连接，其下端均匀开设有若干进液孔（525）；所述进液筒体（522）的外侧转动套装有外部套筒（526），所述外部套筒（526）的外侧与支撑座（521）固定连接，所述第一限位柱（523）固定套装在上进液管道（511）的上端，其外侧与活动槽（7）上端滑动连接；所述第二限位柱（524）固定安装在上进液管道（511）的上端，其上端与进液筒体（522）的内部滑动连接。
5.根据权利要求4所述的用于光刻胶生产的清洁装置，其特征在于，所述输送管件（6）包括连接头（61）、限位件、挤压件和输送管（62），所述连接头（61）的一端与输送管（62）的一端固定连通，另一端与外部套筒（526）的一侧螺...
【专利技术属性】
技术研发人员：陈峰，朱建华，
申请(专利权)人：明贤电子材料科技南通有限公司，
类型：发明
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。