【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及真空测量设备,尤其涉及一种基于电磁感应原理的真空规及其应用。
技术介绍
1、现阶段,真空测量产品中最常见的类型包括电阻真空规;电容真空规;电离真空规;mems真空规。在这几种不同类型的真空测量技术及产品内,因为电容真空规基本采用弹性应变薄膜作为压力响应部件,应变膜片可以将测量器件及电路与被测量介质完全隔离,起到保护作用。所以电容真空规被广泛应用于多个领域。
2、电容式压力传感器常用结构是利用合金压力应变膜片作为电容,其中一个电极与陶瓷基底上的导电镀层形成电容。当合金应变膜片两侧压力发生变化,产生压力差,导致合金应变膜片发生形变,从而改变合金应变膜片与陶瓷基底上导电层的距离,改变电容值。通过对电容值的测量来实现被测空间内压力的测量。
3、这样的压力测量原理并不复杂,但是电容测量的影响因素非常繁复。因为电容的变化是由应变膜片负载形变而产生,但是膜片中心位置的最大形变量在微米量级,而控制电极间隔的零件加工误差也在微米量级。还有陶瓷基底上制备的导电镀层的面积误差、厚度误差;测量电容差值的桥式电路配平;电子器
...【技术保护点】
1.一种基于电磁感应原理的真空规,其特征在于:
2.根据权利要求1所述的真空规,其特征在于:所述平行金属线(10)的宽度和长度相等,且相邻的平行金属线(10)的间距相等。
3.根据权利要求1所述的真空规,其特征在于:所述垂直支撑结构(7)正反面均设有绝缘层(9),且在绝缘层(9)正反面的相同位置制备平行金属线(10)。
4.根据权利要求1所述的真空规,其特征在于:所述外壳(5)的顶部设置有电信号引出孔;所述外壳(5)的底部还设置有检测口(4)。
5.根据权利要求4所述的真空规,其特征在于:所述绝缘层(9)正反面的相同位置
...【技术特征摘要】
1.一种基于电磁感应原理的真空规,其特征在于:
2.根据权利要求1所述的真空规,其特征在于:所述平行金属线(10)的宽度和长度相等,且相邻的平行金属线(10)的间距相等。
3.根据权利要求1所述的真空规,其特征在于:所述垂直支撑结构(7)正反面均设有绝缘层(9),且在绝缘层(9)正反面的相同位置制备平行金属线(10)。
4.根据权利要求1所述的真空规,其特征在于:所述外壳(5)的顶部设置有电信号引出孔;所述外壳(5)的底部还设置有检测口(4)。
5.根据权利要求4所述的真空规,其特征在于:所述绝缘层(9)正反面的相同位置制备平行金属线(10)共同连接到一个导电线中,形成并联结构,所述平行金属线(10)两端...
【专利技术属性】
技术研发人员:林琳,张心强,苏涛,郜晨希,徐亚辉,孙小孟,刘瑞琪,郑旭,张沙,李超波,
申请(专利权)人:中国科学院微电子研究所,
类型:发明
国别省市:
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