一种IBS真空镀膜均匀性修正装置制造方法及图纸

本技术公开一种IBS真空镀膜均匀性修正装置，修正装置包括修正板基座和两个以上的修正板，两个以上的修正板在修正板基座上称环形均匀分布，修正板安装端端头固定安装在修正板基座上，修正板的修正端头伸出至修正板基座外侧。采用本技术可以在镀膜过程中控制薄膜的均匀性，镀膜的合格范围更宽，良率更高。

【技术实现步骤摘要】

本技术公开一种镀膜修正装置，特别是一种ibs真空镀膜均匀性修正装置，可应用于通过可调mask组利用ibs真空镀膜实现薄膜均匀性。

技术介绍

1、mask修正板是目前控制离子束溅射镀膜均匀性的重要方法之一，通常一种镀膜材料对应一块mask修正板，行业内已使用此类技术多年。一种镀膜材料对应三块mask修正板是一种全新的均匀性控制方法，如：高折射率镀膜材料对应“h-”、“h”、“h+”三块mask，由于一种镀膜材料对应一块mask修正板的均匀性修正技术不能在镀膜过程中调节均匀性，而市场上对镀膜产品的均匀性要求越来越严格，原来的均匀性修正方法已经明显落后。目前的ibs真空镀膜技术在镀膜过程中不能调节薄膜的均匀性，导致镀一炉产品出来后的合格范围较窄，间接导致生产成本增高。

技术实现思路

1、针对上述提到的现有技术中的ibs真空镀膜过程中不能调节薄膜的均匀性，导致产品合格范围较窄的缺点，本技术提供一种ibs真空镀膜均匀性修正装置，其在镀膜过程中通过调节mask修正板以达到控制薄膜的均匀性的目的，使镀膜产品的均匀性更好，良本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种IBS真空镀膜均匀性修正装置，其特征是：所述的修正装置包括修正板基座（1）和两个以上的修正板（2），两个以上的修正板（2）在修正板基座（1）上称环形均匀分布，修正板（2）安装端端头固定安装在修正板基座（1）上，修正板（2）的修正端头伸出至修正板基座（1）外侧。

2.根据权利要求1所述的IBS真空镀膜均匀性修正装置，其特征是：所述的修正板基座（1）呈圆形。

3.根据权利要求1所述的IBS真空镀膜均匀性修正装置，其特征是：所述的修正板基座（1）顶部开设有安装槽（3），安装槽（3）内开设有腰形孔（4），腰形孔（4）处通过第一安装螺钉（5）将相应的修正板（2）安装...

【技术特征摘要】

1.一种ibs真空镀膜均匀性修正装置，其特征是：所述的修正装置包括修正板基座（1）和两个以上的修正板（2），两个以上的修正板（2）在修正板基座（1）上称环形均匀分布，修正板（2）安装端端头固定安装在修正板基座（1）上，修正板（2）的修正端头伸出至修正板基座（1）外侧。

2.根据权利要求1所述的ibs真空镀膜均匀性修正装置，其特征是：所述的修正板基座（1）呈圆形。

3.根据权利要求1所述的ibs真空镀膜均匀性修正装置，其特征是：所述的修正板基座（1）顶部开设有安装槽（3），安装槽（3）内开设有腰形孔（4），腰形孔（4）处通过第一安装螺钉（5）将相应的修正板（2）安装在修正板基座（1）上。

4.根据权利要求1所述的ibs真空镀膜均匀性修正装置，其特征是：所述的修正板基座（1）安装在mask电机上，修正板基座（1）通过电机螺钉（16）与mask电机的电机轴固定安装。

5.根据权利要求3所述的ibs真空镀膜均匀性修正装置，其特征是：所述的修正板（2）包括修正主板（6）、角度片（7...

【专利技术属性】
技术研发人员：朱虹云，陆文，
申请(专利权)人：北极光电深圳有限公司，
类型：新型
国别省市：