System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 一种玻璃基板镀膜位置智能调整方法技术_技高网

一种玻璃基板镀膜位置智能调整方法技术

技术编号:42650591 阅读:21 留言:0更新日期:2024-09-06 01:43
本发明专利技术涉及磁控溅射镀膜技术领域,具体涉及一种玻璃基板镀膜位置智能调整方法,该方法基于磁靶间距的不同会影响靶材表面磁场分布的特点,对每个磁靶间距下的电子云光谱数据进行分析,根据靶材元素光谱强度和工艺气体元素光谱强度之间的相对浓度时序变化稳定性,对每个磁靶间距下的等离子稳定系数进行确定,从而筛选出对应的等离子体稳定性更好的最优磁靶间距,进一步地根据最优磁靶间距进行玻璃基板镀膜位置调整,使得通过磁控溅射镀膜方法进行玻璃基板镀膜的稳定性和准确性更好。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及磁控溅射镀膜,具体涉及一种玻璃基板镀膜位置智能调整方法


技术介绍

1、玻璃基板镀膜是一种在玻璃基板表面涂镀一层或多层薄膜的技术,这些薄膜通常是由不同的材料组成,如金属、合金、金属氧化物等。镀膜过程可以改变玻璃的光学、电学、热学和化学性质,以满足特定的应用需求。考虑到磁控溅射镀膜方法相比于其他镀膜方法制备的薄膜纯度更高、致密性和均匀性更好,并且适用于不耐高温的玻璃基板镀膜,因此现有技术通过磁控溅射镀膜方法进行玻璃基板镀膜。

2、但是在磁控溅射镀膜过程中,不同规格的玻璃基板在进行镀膜时使用的靶材规格也不同,而靶材规格的不同会影响靶材表面磁场的分布,进而影响真空室中产生的等离子体的稳定性,不稳定的等离子体可能会导致溅射粒子的能量和密度分布不均匀,进而导致沉积的薄膜厚度和成分不均匀,使得通过磁控溅射镀膜方法进行玻璃基板镀膜的稳定性和准确性较差。


技术实现思路

1、本申请提供了一种玻璃基板镀膜位置智能调整方法,该方法基于磁靶间距的不同会影响靶材表面磁场分布的特点,对每个磁靶间距下的电子云光谱数据进行分析,根据靶材元素光谱强度和工艺气体元素光谱强度之间的相对浓度时序变化稳定性,对每个磁靶间距下的等离子稳定系数进行确定,从而筛选出对应的等离子体稳定性更好的最优磁靶间距,进一步地根据最优磁靶间距进行玻璃基板镀膜位置调整,解决了磁控溅射镀膜过程中等离子体不稳定的技术问题,使得通过磁控溅射镀膜方法进行玻璃基板镀膜的稳定性和准确性更好。

2、本申请第一方面提供了一种玻璃基板镀膜位置智能调整方法,包括:

3、以玻璃基板在每个磁靶间距下进行镀膜时,采集每个采样时刻下的电子云光谱数据曲线;根据所述电子云光谱数据曲线进行基线预处理,确定光谱峰邻域数据点序列;

4、基于靶材元素和工艺气体元素对应的所有标准波长对所有的光谱峰邻域数据点序列进行匹配,确定匹配结果中每个标准波长对应的光谱峰邻域匹配序列;根据靶材元素对应的所有标准波长的光谱峰邻域匹配序列的光谱强度分布情况,确定每个采样时刻下的靶材元素光谱强度;确定每个采样时刻下的工艺气体元素光谱强度;

5、根据所述靶材元素光谱强度和所述工艺气体元素光谱强度,确定每个磁靶间距在每个采样时刻下的元素浓度相对系数;根据元素浓度相对系数的时序变化稳定情况,确定玻璃基板在每个磁靶间距下进行镀膜时的等离子稳定系数;

6、根据所有磁靶间距对应的等离子稳定系数,筛选出最优磁靶间距;根据最优磁靶间距进行玻璃基板镀膜位置调整。

7、在本申请第一方面一实施例中,所述光谱峰邻域数据点序列的获取方法包括:

8、以玻璃基板在每个磁靶间距下进行镀膜时,将每个采样时刻下的电子云光谱数据曲线进行基线校正处理后,再进行基线扣除处理,确定对应的参考光谱数据曲线;

9、根据参考光谱数据曲线上的光谱峰位置,确定每个光谱峰对应的光谱峰邻域数据点;

10、将每个光谱峰对应的所有光谱峰邻域数据点以波长顺序排列后,得到对应的光谱峰邻域数据点序列。

11、在本申请第一方面一实施例中,所述光谱峰邻域数据点的获取方法包括:

12、基于所述参考光谱数据曲线中每个光谱峰对应的所有数据点的波长值,确定每个光谱峰对应的参考波长值;

13、根据所述电子云光谱数据曲线上波长值为所述参考波长值的数据点,确定每个光谱峰对应的光谱峰邻域数据点。

14、在本申请第一方面一实施例中,所述光谱峰邻域匹配序列的获取方法包括:

15、将包含每个标准波长对应的波长值的光谱峰邻域数据点序列,作为每个标准波长的光谱峰邻域匹配序列;所述标准波长以靶材元素和工艺气体元素在标准波长对照表中的波长值进行确定。

16、在本申请第一方面一实施例中,所述靶材元素光谱强度的获取方法包括:

17、在靶材元素的每个标准波长对应的光谱峰邻域匹配序列中,根据所有光谱峰邻域数据点进行曲线拟合后的极大值点,确定靶材元素的每个标准波长对应的所有特征峰值点;

18、根据靶材元素的每个标准波长与对应的每个特征峰值点的波长值之间的偏差,确定靶材元素的每个标准波长对应的每个特征峰值点的标准波长偏差;

19、根据靶材元素的每个标准波长对应的每个特征峰值点的光谱强度值与所述标准波长偏差,确定靶材元素的每个标准波长对应的每个特征峰值点的波长可信程度;

20、根据靶材元素的每个标准波长对应的最大波长可信程度的特征峰值点的光谱强度值,确定靶材元素对应的每个标准波长的参考光谱强度;

21、将每个采样时刻下靶材元素对应的所有标准波长的参考光谱强度融合,确定每个采样时刻下的靶材元素光谱强度。

22、在本申请第一方面一实施例中,所述工艺气体元素光谱强度的获取方法包括:

23、将靶材元素替换为工艺气体元素后类比于靶材元素光谱强度的获取方法,确定每个采样时刻下的工艺气体元素光谱强度。

24、在本申请第一方面一实施例中,所述元素浓度相对系数的获取方法包括:

25、以比值的形式根据所述靶材元素光谱强度和所述工艺气体元素光谱强度,确定每个磁靶间距在每个采样时刻下的元素浓度相对系数。

26、在本申请第一方面一实施例中,所述等离子稳定系数的获取方法包括:

27、将每个磁靶间距对应的所有采样时刻下的元素浓度相对系数以时间顺序排列,得到时序元素浓度相对系数序列;

28、通过预设滑动窗口计算时序元素浓度相对系数序列的所有滑动标准差;

29、基于所有滑动标准差的整体大小,确定玻璃基板在每个磁靶间距下进行镀膜时等离子稳定系数。

30、在本申请第一方面一实施例中,所述基于所有滑动标准差的整体大小,确定玻璃基板在每个磁靶间距下进行镀膜时等离子稳定系数的方法包括:

31、基于所有滑动标准差的均值,确定玻璃基板在每个磁靶间距下进行镀膜时的等离子稳定系数;其中,所有滑动标准差的均值与所述等离子稳定系数呈负相关关系。

32、在本申请第一方面一实施例中,所述最优磁靶间距的获取方法包括:

33、将最大的等离子稳定系数对应的磁靶间距作为最优磁靶间距。

34、第二方面,本申请提供一种玻璃基板镀膜位置智能调整系统,所述系统包括:

35、数据采集预处理模块,用于以玻璃基板在每个磁靶间距下进行镀膜时,采集每个采样时刻下的电子云光谱数据曲线;根据所述电子云光谱数据曲线进行基线预处理,确定光谱峰邻域数据点序列;

36、第一确定模块,用于基于靶材元素和工艺气体元素对应的所有标准波长对所有的光谱峰邻域数据点序列进行匹配,确定匹配结果中每个标准波长对应的光谱峰邻域匹配序列;根据靶材元素对应的所有标准波长的光谱峰邻域匹配序列的光谱强度分布情况,确定每个采样时刻下的靶材元素光谱强度;确定每个采样时刻下的工艺气体元素光谱强度;

37、第二确定模块,用于根据所本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种玻璃基板镀膜位置智能调整方法,其特征在于,所述方法包括:

2.根据权利要求1所述的一种玻璃基板镀膜位置智能调整方法,其特征在于,所述光谱峰邻域数据点序列的获取方法包括:

3.根据权利要求2所述的一种玻璃基板镀膜位置智能调整方法,其特征在于,所述光谱峰邻域数据点的获取方法包括:

4.根据权利要求1所述的一种玻璃基板镀膜位置智能调整方法,其特征在于,所述光谱峰邻域匹配序列的获取方法包括:

5.根据权利要求1所述的一种玻璃基板镀膜位置智能调整方法,其特征在于,所述靶材元素光谱强度的获取方法包括:

6.根据权利要求5所述的一种玻璃基板镀膜位置智能调整方法,其特征在于,所述工艺气体元素光谱强度的获取方法包括:

7.根据权利要求1所述的一种玻璃基板镀膜位置智能调整方法,其特征在于,所述元素浓度相对系数的获取方法包括:

8.根据权利要求1所述的一种玻璃基板镀膜位置智能调整方法,其特征在于,所述等离子稳定系数的获取方法包括:

9.根据权利要求8所述的一种玻璃基板镀膜位置智能调整方法,其特征在于,所述基于所有滑动标准差的整体大小,确定玻璃基板在每个磁靶间距下进行镀膜时等离子稳定系数的方法包括:

10.根据权利要求1所述的一种玻璃基板镀膜位置智能调整方法,其特征在于,所述最优磁靶间距的获取方法包括:

...

【技术特征摘要】

1.一种玻璃基板镀膜位置智能调整方法,其特征在于,所述方法包括:

2.根据权利要求1所述的一种玻璃基板镀膜位置智能调整方法,其特征在于,所述光谱峰邻域数据点序列的获取方法包括:

3.根据权利要求2所述的一种玻璃基板镀膜位置智能调整方法,其特征在于,所述光谱峰邻域数据点的获取方法包括:

4.根据权利要求1所述的一种玻璃基板镀膜位置智能调整方法,其特征在于,所述光谱峰邻域匹配序列的获取方法包括:

5.根据权利要求1所述的一种玻璃基板镀膜位置智能调整方法,其特征在于,所述靶材元素光谱强度的获取方法包括:

6.根据权利要求5所述的一种玻璃基板镀膜位...

【专利技术属性】
技术研发人员:李弋舟陈曦李振松
申请(专利权)人:长沙韶光芯材科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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