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本发明涉及磁控溅射镀膜技术领域，具体涉及一种玻璃基板镀膜位置智能调整方法，该方法基于磁靶间距的不同会影响靶材表面磁场分布的特点，对每个磁靶间距下的电子云光谱数据进行分析，根据靶材元素光谱强度和工艺气体元素光谱强度之间的相对浓度时序变化稳定性...
该专利属于长沙韶光芯材科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过长沙韶光芯材科技有限公司授权不得商用。

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