【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及工业通风,尤其涉及一种用于调控薄膜稳定生成的射流参数范围的确定方法。
技术介绍
1、我国是世界第一制造业大国,在“绿色发展”和“以人为本”的战略下,如何对工业生产中散发的污染物进行有效控制,提升工人作业环境水平,是我国工业现代化进程的重中之重。工业场所的通风技术按其作用区域可分为全面通风和局部通风两大类。
2、需要注意的是,现有全面通风和局部通风技术均以气流为载体,但污染在由“源”到“汇”的扩散路径中仍不可避免地被多股气流(包括环境气流及通风气流本身)稀释,使污染物总体积迅速增大,相应的需风量倍增。实际上,工业生产中散发的污染物在生成之初体积最小,浓度最高,是局部通风捕集最理想的对象。若能将污染物尽早地与环境空气阻隔,最大程度地减少二者的混合与稀释,则无论污染物散发位置距离排风捕集装置多远,其理论需风量不会增加(近似等于阻隔形成时的体积)。
3、有鉴于此,目前已提出一种利用薄膜包络污染物的捕集方法,能够从根本上阻止污染物体积的膨胀,且薄膜在气流中具有较好的跟随性,能够降低排风需风量并提高捕集效率。需
...【技术保护点】
1.一种用于调控薄膜稳定生成的射流参数范围的确定方法,其特征在于,所述方法包括:
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述利用2D-PIV系统对薄膜生成装置的薄膜生成区进行流场测量,得到流场数据,包括:
3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述计算机对两帧示踪粒子图像进行分析,得到采样时刻的瞬时速度场,包括:
4.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,所述方法还包括:
5.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述方法还包括:
6.根据权利要求5所述的方法,其特征在于,所述方法还包括:
【技术特征摘要】
1.一种用于调控薄膜稳定生成的射流参数范围的确定方法,其特征在于,所述方法包括:
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述利用2d-piv系统对薄膜生成装置的薄膜生成区进行流场测量,得到流场数据,包括:
3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述计算机对两帧示踪粒子图像进行分析,得到采样时刻的瞬时速度场,包括:
4.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,所述方法还包括:
5.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述方法还包括:
6.根据权利要求5所述的...
【专利技术属性】
技术研发人员:曾令杰,高军,袁志成,袁一航,贺廉洁,章睿妍,许宇坤,
申请(专利权)人:同济大学,
类型:发明
国别省市:
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。