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一种用于调控薄膜稳定生成的射流参数范围的确定方法技术

技术编号:42336205 阅读:15 留言:0更新日期:2024-08-14 16:11
本发明专利技术实施例提供了一种用于调控薄膜稳定生成的射流参数范围的确定方法,包括:在实验过程中,利用2D‑PIV系统对薄膜生成装置的薄膜生成区进行流场测量,得到流场数据;根据多次实验获得的流场数据,确定导致薄膜直接断裂无法成形的射流参数上限和使薄膜能够脱离表面活性剂溶液界面形成完整薄膜的射流参数下限;根据射流参数上限和射流参数下限,确定用于调控薄膜稳定生成的射流参数范围。以此方式,可以准确确定用于调控薄膜稳定生成的射流参数范围,进而以此调控薄膜的稳定生成,使之能更好地包络污染源散发的污染物,为工业通风技术中实现薄膜包络的两相流捕集,降低排风需风量和系统能耗提供支撑。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及工业通风,尤其涉及一种用于调控薄膜稳定生成的射流参数范围的确定方法


技术介绍

1、我国是世界第一制造业大国,在“绿色发展”和“以人为本”的战略下,如何对工业生产中散发的污染物进行有效控制,提升工人作业环境水平,是我国工业现代化进程的重中之重。工业场所的通风技术按其作用区域可分为全面通风和局部通风两大类。

2、需要注意的是,现有全面通风和局部通风技术均以气流为载体,但污染在由“源”到“汇”的扩散路径中仍不可避免地被多股气流(包括环境气流及通风气流本身)稀释,使污染物总体积迅速增大,相应的需风量倍增。实际上,工业生产中散发的污染物在生成之初体积最小,浓度最高,是局部通风捕集最理想的对象。若能将污染物尽早地与环境空气阻隔,最大程度地减少二者的混合与稀释,则无论污染物散发位置距离排风捕集装置多远,其理论需风量不会增加(近似等于阻隔形成时的体积)。

3、有鉴于此,目前已提出一种利用薄膜包络污染物的捕集方法,能够从根本上阻止污染物体积的膨胀,且薄膜在气流中具有较好的跟随性,能够降低排风需风量并提高捕集效率。需要注意的是该方法在实本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种用于调控薄膜稳定生成的射流参数范围的确定方法,其特征在于,所述方法包括:

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述利用2D-PIV系统对薄膜生成装置的薄膜生成区进行流场测量,得到流场数据,包括:

3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述计算机对两帧示踪粒子图像进行分析,得到采样时刻的瞬时速度场,包括:

4.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,所述方法还包括:

5.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述方法还包括:

6.根据权利要求5所述的方法,其特征在于,所述方法还包括:

>7.根据权利要求6...

【技术特征摘要】

1.一种用于调控薄膜稳定生成的射流参数范围的确定方法,其特征在于,所述方法包括:

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述利用2d-piv系统对薄膜生成装置的薄膜生成区进行流场测量,得到流场数据,包括:

3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述计算机对两帧示踪粒子图像进行分析,得到采样时刻的瞬时速度场,包括:

4.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,所述方法还包括:

5.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述方法还包括:

6.根据权利要求5所述的...

【专利技术属性】
技术研发人员:曾令杰高军袁志成袁一航贺廉洁章睿妍许宇坤
申请(专利权)人:同济大学
类型:发明
国别省市:

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