【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种准分子灯装置。尤其是关于在半导体基板或液晶基板等的制造工序中，利用于半导体基板或液晶基板的清洗等的准分子灯装置。
技术介绍
近年来，在半导体基板或液晶基板等的制造工序中，作为将附着在作为半导体基 板的晶片或者作为液晶基板的玻璃基板的表面上的有机化合物等脏污除去的方法，广泛利 用使用了紫外线的干式清洗方法。尤其是，在使用从准分子灯放射的真空紫外线的基于臭 氧或活性氧的清洗方法中，提出各种更有效地在短时间内进行清洗的清洗装置，例如已知 专利文献1。 图14表示与该文献所公开的现有的准分子灯装置相同的构成。在现有的准分子 灯装置G的开放壳体K的顶部，将具有多个孔的气体扩散板C配置成与开放壳体K的开放面 平行，该气体扩散板C例如是在不锈钢板上以3mm的间距形成多个直径2mm的孔D而使开 口率为40%。在该开放壳体K内的气体扩散板C的上方设置有气体导入口F。在该开放壳 体K的下方，由辊J搬送的工件W移动，并在模拟地使开放壳体K内成为封闭空间的同时， 通过由准分子灯H照射的光来进行表面处理。 根据上述构成的准分子灯装置，如图14的箭头所示，从气体扩散板C...
【技术保护点】
一种准分子灯装置，具备：向铅直下方开口的灯壳；收容于该灯壳内的准分子灯；具有气体喷出口的气体供给管；以及搬送机构；对所搬送的被处理体照射准分子光，该准分子灯装置的特征在于，在上述灯壳内，相互离开地设置有多个上述气体供给管，相邻的气体供给管彼此具备至少一对气体喷出口，该一对气体喷出口为，在一个气体供给管上设置的气体喷出口与在另一个气体供给管上设置的气体喷出口成为一对的关系，该一对气体喷出口形成为，一个气体喷出口的喷出方向与另一个气体喷出口的喷出方向，在该相邻的气体供给管所夹着的空间内相对或者交叉，上述准分子灯配置在该相邻的气体供给管所夹着的空间的铅直下方。
【技术特征摘要】
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