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一种带地下室建筑物的基坑支护施工方法技术

技术编号:4226001 阅读:206 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术公开一种带地下室建筑物的基坑支护施工方法,其特征是是对于带二层地下室的基坑,在支护桩顶部设置内支撑,还在第一层地下室底板以上50cm设置第二道内支撑,在开挖至基底设计标高时先浇筑二层地下室底板和侧壁,再浇筑一层地下室底板。二层及一层地下室底板和地下室侧壁形成箱状结构。然后填塞地下室侧壁和支护桩之间的空隙,采用静态爆破拆除第二道内支撑。继续施工地下室侧壁,回填地下室侧壁和支护桩之间的空隙后拆除第一道内支撑。本发明专利技术安全性高,经济效益好。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种带地下室建筑物的基坑支护施工方法,其特征是对于带二层地下室的基坑,在支护桩顶部设置内支撑,还在第一层地下室底板以上50cm设置第二道内支撑,在开挖至基底设计标高时先浇筑二层地下室底板和侧壁,再浇筑一层地下室底板。二层及一层地下室底板和地下室侧壁形成箱状结构。然后填塞地下室侧壁和支护桩之间的空隙,采用静态爆破拆除第二道内支撑。继续施工地下室侧壁,回填地下室侧壁和支护桩之间的空隙后拆除第一道内支撑。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:朱奎
申请(专利权)人:朱奎
类型:发明
国别省市:33[中国|浙江]

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