基于角分辨椭偏的透明基底薄膜表征快速测量方法技术

本发明专利技术公开了基于角分辨椭偏的透明基底薄膜表征快速测量方法，首先建立一个包含透明基底背反射的非相干部分叠加数学模型(IPS)，用以准确描述基底前反射和未知背反射的光学叠加效应；建立(或采购)一个角分辨椭偏测量装置(ARE)及相应的椭偏参数角谱(ARS)快速获取方法；利用已知厚度的标准透明平板标定ARE测量参考图像及其IPS模型背反射修正函数；最后利用已标定的IPS‑ARE系统快速测量透明基底薄膜样品的ARS，进而对薄膜样品折射率、厚度及基底厚度等属性参数完成拟合计算表征；本发明专利技术解决了常规椭偏测量方法透明基底薄膜光学建模复杂、测量操作复杂、测量误差显著的难题，可应用于LED面板、封装薄膜等先进电子产品的批量化生产在线检。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于椭圆偏振测量相关，具体地涉及基于角分辨椭偏的透明基底薄膜表征快速测量方法。

技术介绍

1、随着柔性电子在先进显示和智能传感等领域应用的深入发展，以聚合物和玻璃等为代表的透明材料因其优异而稳定的表面质量、力学性能和物理特性等被广泛用作薄膜器件的基底。这些基底不仅为附着的薄膜提供机械支撑，保护其免受物理和化学损伤，同时也直接作用于器件性能。例如，具有高水/氧透过性和机械可变形性的聚合物基底被广泛用于可穿戴设备，以满足高透气性和柔性需求。此外，基底也会对薄膜器件的制备工艺产生影响，例如，适用于卷到卷快速制造的柔性透明基底可以实现薄膜器件低成本制造。然而，薄膜制备过程中不可避免会受到加工环境、材料性能等影响，例如薄膜与基底间热膨胀系数不同会产生残余应力而引起沉积的薄膜厚度发生变化，这进一步会导致最终薄膜器件性能的变化。因此，对薄膜参数的监测，尤其是在加工过程中其参数变化对薄膜制造至关重要。

2、光学测量方法具有无损、高精、高速等优点，是薄膜测量中主流的测量方式。其中，透射型测量法，如透射椭偏法和透射光谱法，对来自基底的信号具有良好的敏感度本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.基于角分辨椭偏的透明基底薄膜表征快速测量方法，其特征在于，包括以下步骤：

2.根据权利要求1所述的基于角分辨椭偏的透明基底薄膜表征快速测量方法，其特征在于，所述步骤S1中透明基底背反射光束与前反射光束间重叠面积随入射角、系统孔径、基底厚度及折射率等变化，采用相干矩阵建立包含背反射的IPS模型：

3.根据权利要求1所述的基于角分辨椭偏的透明基底薄膜表征快速测量方法，其特征在于，所述步骤S2具体包括：

4.根据权利要求1所述的基于角分辨椭偏的透明基底薄膜表征快速测量方法，其特征在于，所述步骤S3具体包括：

5.根据权利要求1所述的基于角分辨...

【技术特征摘要】

1.基于角分辨椭偏的透明基底薄膜表征快速测量方法，其特征在于，包括以下步骤：

2.根据权利要求1所述的基于角分辨椭偏的透明基底薄膜表征快速测量方法，其特征在于，所述步骤s1中透明基底背反射光束与前反射光束间重叠面积随入射角、系统孔径、基底厚度及折射率等变化，采用相干矩阵建立包含背反射的ips模型：

3.根据权利要求1所述的基于角分辨椭偏的透明基底薄膜表征快速测量方法，其特征在于，所述步骤s2具体包括：

4.根据权利要求1所述的基于角分辨椭偏的透明基底薄膜表征快速测量方法，其特征在于，所...

【专利技术属性】
技术研发人员：王健，彭立华，郑春平，杨俊，周莉萍，
申请(专利权)人：广东中旺自动化技术有限公司，
类型：发明
国别省市：